JPH0326370A

JPH0326370A - 液体又は溶融体の塗布方法

Info

Publication number: JPH0326370A
Application number: JP1163177A
Authority: JP
Inventors: Masabumi Matsunaga; 正文松永; Takeshi Moriyama; 剛森山; Akemi Sawara; 佐原　朱美
Original assignee: Nordson KK
Current assignee: Nordson KK
Priority date: 1989-06-26
Filing date: 1989-06-26
Publication date: 1991-02-04

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、液体又は溶融体の塗布方法に係る。

〔従来の技術〕

従来、液体霧化による塗布、例えばスプレイ塗布などに
おいては，第９図に見られるように，スプレイノズル（
１１１）及び被塗物（０．．）の周辺には多量の余剰ミ
スト（ＳＰｍ）が飛散し，作業環境を害するばかりでな
く、それらの余剰ミスト（ＳＰｍ）が，ノズル（１１１
）、ガン（１１２）、及びブース（１１３）内壁面等に
付着し、それらが密集集合して液状（Ｌｄ）となり、更
に被塗物（ＯｉＳ）面上に滴下（Ｌｄｉ）して、塗布面
を汚損するという不都合な点があった。

〔解決しようとする問題点〕

上述のような問題を解決するために、従来より種々の対
策がとられてきた。一般に広く行なわれている方法とし
ては、ブース内に充満したミストの含まれた空気をダク
トを通して外部に導き出すなどである。同方法において
は、そ？らの装置が比較的大規模となるばかりでなく、
それらの空気の浄化装置及びダクト内壁やフィルターの
洗浄も必要となってき、費用も相当かかるものであった
。

元来、スプレイ作業に当っては、第１０Ａ図に見られる
ように、そのスプレイパターン（ｓｐｉｚ）内における
霧化した粒子の粒度及びそれらの分布密度の均一性の高
い部分を被塗物の面上に吹き付けて塗布することが望ま
しい。その塗布される面を“Ｄ”−ｒｒＤ”とすると、
その塗布パターンは第１０Ｂ図の如くなる。即ち塗布パ
ターンの中央部（ＳＰｃ，２）は比較的細かい粒径の揃
った粒子が、比較的均一な分布密度をもって分散してい
る。そして同塗布パターンの外方（ＳＰａｘｉ）に向う
に従って、粒子は粗く、かつ分布も不均一となってくる
のである。よってスプレイノズル（１２１）を固定して
塗布する場合には，被塗物は上記スプレイパターン（Ｓ
Ｐ１ｚ）の中央部（ＳＰｃ１■）圏内に収めることが望
ましい。よって、スプレイパターンのそれ以外の部分は
オーバースプレイされることになる。これらオーバース
プレイした粒子が、余剰ミストとなってブース内に飛散
し、充満するのである。

若し、これらオーバースプレイする粒子の飛散を防げば
，その分、ブース内の余剰ミストは抑えられることにな
る。

本発明の動機は、オーバースプレイした粒子をキャッチ
し、余剰ミストの飛散をより減少せしめることにあった
。

？問題点を解決するための手段〕本発明の要旨は、液体又は溶融体のミスト発生装置によ
る塗布方法において、発生ミストの流れ方向に置かれる
被塗物の裏側に、上記被塗物より広い面を有し、かつ循
環移動する物体を設け、該物体面上にオーバースプレイ
したミストを付着させて不必要の余剰ミストの発生を未
然に防止しつつ，更に上記付着したミストを除去具など
により回収しつつ塗布する方法である。

本発明の方法を図面によって説明する。第１図及び第２
図（上図の平面図〉を参照されたい。同図にては、ミス
ト発生装置として最も一般的なスプレイノズル（１）を
示している。液体などがスプレイノズル（１）よりスプ
レイ（ＳＰＬ）され、霧化した粒子は被塗物（０１，０
１ａ，・・）面上に付着塗布される。ただし、一般には
そのスプレイ塗布パターンの大きさは、被塗物（Ｏ■，
０１ａ，・・・）の各個の面よりも大きく、よってオー
バースプレイした粒子は、連続して送られてくる被塗物
の間（Ｓ）を通り過ぎ、またそれら被塗物（Ｏ１、Ｏ１
ａ、・・・）の両側をも通り過ぎて、その下方を走行す
るコンベアベルト（７）の面に達して付着するのである
。

その付着量は、エアスプレイ法やエアレススプレイ法な
どによって異なるが、約半数が塗着する。よってその分
、ブース内に飛散するミストは少なくなり，浮遊するミ
ストの量も減少するのである。従って、従来のように、
余剰ミス５ートがノズルやガンなどに付着し、それらが密集して滴下
し，被塗物面上を汚損するという機会も少なくなるので
ある。

このようにして、コンベアベルト（７〉の面上に付着し
たミストは密集して液層（ｐｍ）となり、それらがＵタ
ーンし、その循環道程のある箇所において、スクレーパ
（８）などにより掻き落とされ（Ｐｆｉｉ）、その下方
の集液槽（９）内に溜められ（ＰＬ）．回収されてタン
ク（図面にては不示）に戻されて再利用されるのである
。

なお、被塗物（Ｏｘ＊Ｃｈ　ａ　，・・・）の下面と，
コンベアベルト（７）の上面との間隔（Ｃ）は、でき得
る限り小であることが望ましい。具体的には、ＯＬＩＩ
Ｉ１ないし１０ｍｍに保つことが望ましい。理由は、ス
プレイされた粒子の廻り込みを防ぐためである。被塗物
が長尺物であれば、第３図に示す如く、その間隙（ＣＯ
）をＯに近付けることが容易にできる。

また、被塗物が単品型であっても、これらが連続的に供
給される場合には、第４図にその一例を示すように、ミ
ストキャッチ用コンベアベルト（３７）の前後に、同様
タイプの被塗物移送用のコンベアベルト（４７．　４８
）を設け単品型被塗物を連続的に上記ミストキャッチ用
コンベアベルト（３７）上に供給排出し、上記長尺物の
場合におけると同様に、その間隙（Ｃエ，）をＯに近付
けることもできる。

また本スプレイ塗布において、静電塗布を行なえば、よ
り余剰ミストの発生を少なくすることができることはい
う−　６− までもない。

上記説明においては、ミスト発生装置の代表としてスプ
レイノズルをあげたが、他の装置例えば遠心式又は超音
波式ミスト発生装置をも上記のスプレイノズルにおける
と同様に適用することができる。

〔実　施　例〕

第１実施例上述の説明においては、何れもスプレイは下方に向けら
れた場合を示したが、本例においては、それを第５図に
示すように横方向レ；向けたものである。オーバースプ
レイしたミストをコンベアベルトにてキャッチすること
は，上述の各例と同様である。

第２実施例スプレイ方向を上向きとした場合である。オーバースプ
レイした分（ｓｐａｓ）をコンベアベルト（６７）がキ
ャッチすることは上述と同様である（第６図参照）。

第３実施例上述の各実施例にては、オーバースプレイしたミストを
コンベアベルトにてキャッチする方法を述べたが、それ
をロール（７７）でキャッチする方法である（第７図参
照）。

第４実施例上述の各実施例においては、一方向より被塗物面に対し
スプレイしたが、両面被塗物に対しては、第８図に示す
ように、両方向より同時にスプレイ（Ｓ　Ｐｓ，Ｓ　Ｐ
９）塗布しつつ，それらのミストをキャッチすることが
できる。

〔効　　果〕

本発明の方法によれば、液体又は溶融体などのミスト発
生装置例えばスプレイノズルよりのスプレイ塗布におい
て、被塗物に対しオーバースプレイして被塗物周辺に発
生する余剰ミストの大半をキャッチし、作業現場におけ
る環境衛生の改善に寄与すると共に、更に上記余剰ミス
トが、ノズルやガン又はブースの内壁面に付着して液状
化し、滴下して被塗物面上を汚損することなどという従
来の欠点を抑えつつ塗布することができるのである。更
にこれらキャッチしたミストは回収され再びスプレイ装
置のタンクに戻して再使用することができるのである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の方法の説明図　第２図は上図″ｌ　Ａ
　ＩＩ一１１Ａ″″平面図　第３図は長尺状被塗物とコ
ンベアベルトの間隙をＯに近付けた場合の説明図　第４
図は単品型被塗物とコンベアベルトの間隙をＯに近付け
た場合の説明図　第５図は第１実施例の説明側面図　第
６図は第２実施例の説明側面図　第７図は第３実施例の
説明側面図　第８図は第４実施例の説明側面図　第９図
は従来のスプレイ塗布方法の説明図　第１０Ａ図はスプ
レイパターンの状態の説明図第１０Ｂ図は上図“Ｄ”一
“Ｄ”平面図主要な符号の説明

Claims

【特許請求の範囲】

（１）液体又は溶融体のミスト発生装置よりのミストの
塗布方法において、該ミスト発生装置（１）よりのミス
トの流れ（ＳＰ＿１）に対向しておかれた被塗物（Ｏ＿
１、Ｏ＿１ａ、・・・）の裏側に近接し、かつ上記ミス
ト発生装置（１）と相対峙して設けられ、なおかつ該被
塗物（Ｏ＿１、Ｏ＿１ａ、・・・）の走行方向と同方向
又は逆方向に移動する循環移動体（７）の面上に、上記
被塗物（Ｏ＿１、Ｏ＿１ａ、・・・）をオーバーして流
れてくるミスト（ＳＰ＿０＿１）をキヤッチし、よって
上記ミスト発生装置（１）及び被塗物（Ｏ＿１、Ｏ＿１
ａ、・・・）の周辺に発生する余剰ミストをより減少せ
しめた状態において塗布作業を行なうことを特徴とする
液体又は溶融体の塗布方法。
（２）循環移動体（７）の面上に、上記被塗物（Ｏ＿１
、Ｏ＿１ａ、・・・）をオーバーして流れてくるミスト
（ＳＰ＿０＿１）をキヤッチし、これらキヤッチしたミ
ストをその循環移動体（７）の循環道程のある箇所にお
いて、除去具（８）などにより除去し、回収してミスト
発生装置用の液体又は溶融体タンク内に戻し再使用する
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の液体又は
溶融体の塗布方法。
（３）ミスト発生装置が、スプレイノズルである特許請
求の範囲第１項記載の液体又は溶融体の塗布方法。
（４）循環移動体が、コンベアベルト（７）である特許
請求の範囲第１項記載の液体又は溶融体の塗布方法。
（５）被塗物の裏面とコンベアベルトの上面との間隙（
Ｃ＿ｎ又はＣ＿０＿１）を、０ｍｍないし１０ｍｍに保
ちつつ塗布することを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の液体又は溶融体の塗布方法。
（６）静電気を印加しつつ塗布することを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の液体又は溶融体の塗布方法。
（７）ミスト発生装置（５１）よりのミストの流れ（Ｓ
Ｐ＿５）方向が、横向きである特許請求の範囲第１項記
載の液体又は溶融体の塗布方法。
（８）ミスト発生装置（６１）よりのミストの流れ（Ｓ
Ｐ＿６）方向が、上向きである特許請求の範囲第１項記
載の液体又は溶融体の塗布方法。
（９）循環移動体が、ロール（７７）である特許請求の
範囲第１項記載の液体又は溶融体の塗布方法。
（１０）複数個のミスト発生装置（８１、９１）を、そ
れぞれ両面塗布されるべき被塗物（Ｏ＿８、Ｏ＿８ａ、
Ｏ＿９、Ｏ＿９ａ、・・・）の両面に向け、かつ位相を
ずらしてミスト流（ＳＰ＿８、ＳＰ＿９）を当てて同時
に塗布しつつ、それらのオーバーしたミストの流れ（Ｓ
Ｐ＿０＿８、ＳＰ＿０＿９）をキヤッチすることを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の液体又は溶融体の塗
布方法。