JPH03272018A - 選択的に組織化された磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁気データの記録、記憶および読出しに関し、
さらに詳しくは磁気変換ヘッドと協働して使用され、少
なくとも前記変換ヘッドに接触するように組織を形成、
すなわち組織化された（　ｔｅｘｔｕｒｅｄ）データ記
録面の部分を有する回転可能の磁気ディスクに関する。

従来技術、および発明か解決しようとする課題磁気ディ
スクおよびディスク駆動装置は磁化可能の形態でデータ
を記憶させる点で有用性を知られている。これらのもの
は通常前記ディスクの記録面に密接して配置されてディ
スクに対して大体半径方向に動かされるデータ変換ヘッ
ドと組合されて中実軸線上で回転される１つまたはそれ
以上のディスクを使用している。一般にこれらの装置に
は２種類ある。第１のものは可撓性すなわち「フロッピ
ー」ディスクを使用し、組合される変換ヘッドか常に記
録面に接触するようになっている。第２の型式のものは
前記可撓性ディスクよりも遥に大なる速度で回転される
剛性的ディスクを使用している。変換ヘッドは読出しお
よび記録作動の間にディスクが回転する時の空気の「支
持作用Ｊによって支持されて、記録面がら制御された離
隔距離に保持されるのである。変換ヘッドは、停止状態
から加速される時および完全に停止状態になる直前の減
速状態の間のディスクか静止状態にある時には常に組合
される記録面に接触しているのである。

これらの記録装置は総て少なくとも若干の摩耗を受ける
から、剛性的ディスクおよび組合されるヘッドに対して
は特に問題か過酷になる。このことは一部分ディスクの
記録面に記憶されるデータ密度を増加させるための益々
激しい挑戦によって与えられる剛性的ディスクおよびヘ
ッドに関連する厳格な設計公差にとよるものである。続
出しおよび記録作動の間に、それぞれの変換ヘッドを組
合される記録面にてきるだけ密接して保持すること、す
なわちヘッドの「飛翔」高さを最小限にすることか望ま
しいと考えられている。従って平滑な鏡面仕上げの記録
面は組合される変換ヘッドの対向する平滑な面と同様に
望ましいのである。このことはディスクに対するヘッド
の密接な接近を可能にし、ヘッドを支持する空気の支持
作用のさらに予知できる協調性のある性質を可能になす
のである。

しかし、もしヘッドの面および記録面が平ら過ぎると、
これらの面の精密な接触かディスクの起動および停止の
間に過大な固着（ｓｔｉｃｔｉｏｎ）および摩擦を生し
て、ヘッドおよび記録面に摩耗を生じさせ、ヘッドの破
壊を生しさせるのである。

このような困難を認めた上で、磁気ディスクの記録面は
屡故意に粗面化されてヘッド／ディスク間の摩擦を減少
されるようになされる。特に、剛性的なディスクは平ら
に研磨されてニッケ几−燐合金をメッキされたアルミニ
ウム基層によって形成されることかできる。この合金は
実質的に鏡面仕上げ、例えば２．５４Ｘ１０−’ｍｍ（
０，１フィクロインチ）よりも細かい粗さに研磨される
ものである。このディスクは次に約２．５４Ｘ１０−５
ｍ　（１マイクロインチ）の粗さの突出部を生じさせる
ような予め定められた寸法のシリコンカーバイド（Ｓｉ
Ｃ）またはその他の適当なグリッドを被覆された布また
は紙を支持する対向する押圧パッドまたはローラーの間
で回転される。従って、生した突出部は鋸歯状にされて
鋭い縁部を有する傾向を生し、これの寸法、形状および
位置を制御することは、これらの要因かグリッドの性質
およびディスクか押圧パットまたはローラーに対して相
対的に動く方向に大きく関係するために困難になるので
ある。

米国特許第４．６９８．２５１号（福山その他）におい
ては、研磨紙か磁気ディスクに付与されて、２Ｘ１０−
７ないし１Ｘ１０−’ｍｍ（，０００２ないし０．１ミ
クロン）の深さを有する円周方向の引っ掻き疵をアルミ
ニウム基層上に被覆されたニッケル−燐合金層に形成す
るようになっている。研磨に続いて、クロム層およびコ
バルト・ニッケル磁気層かディスク上に形成される。他
の実施例においては、ニッケル−燐層かアルミニウム基
層上に沈着され、引っ掻き疵がこのニッケル燐層に形成
され、然る後にコバルト−燐磁気層がこのニッケル−燐
層上に沈着させる。

グリッド紙または布の使用とは異なる変形形態として、
米国特許第４．３２６．２’２９号（柳沢）は磁気ディ
スクの平滑な記録媒体層を覆うための保護フィルム層を
開示している。この保護被覆を形成するために、溶剤か
スピンコーティングに応用されて半径方向に伸長する正
弦波状の凹凸または波形を有するフィルムを形成し、面
の粗さを増大させるようになっているのであるが、これ
がヘッドの摩耗を減少させると称されている。

上述のそれぞれの探究方法は成る情況では満足なもので
あるが、これらのものは総てヘッド／ディスクの摩擦の
減少および変換ヘッドの最小限の飛翔高さの競合する目
標の間の妥協を必要とするもので、何れも表面の組織に
わたる所望の制御量を与えるものではない。

従って本発明の目的は、表面粗さを形成する突出部およ
び凹部が、実質的に飛翔高さを減小させ、記録密度を改
善し、また変換ヘッドおよびディスクの摩耗特性を改善
するように制御された寸法および形状になされた磁気記
録媒体を提供することである。

本発明の他の目的は、磁気ディスク記録面の厳密に輪郭
を付与された組織を制御するとともに記録面の残余の部
分に鏡面仕上げを与える方法を提供することである。

他の目的は、組織を形成する大体円形の個々の不連続部
分の間の寸法および間隔を制御することによって磁気デ
ータ記録ディスクの表面組織を制御可能に形成する方法
を提供することである。

さらに他の目的は、データ変換ヘッドと接触する指定さ
れた表面面積部分を有する磁気記録ディスクを提供し、
この指定された面積部分か実質的に増大された摩擦およ
び摩耗特性を発揮するようになすことである。

課題を解決するための手段 上述およびその他の目的を達成するために、磁気変換ヘ
ッドに関連して作動されて磁気データを記録し、読出す
ようになす磁気媒体を製造する方法か提供される。この
方法は、 非磁化性の基層本体上の鏡面仕上げの基層面てあって、
実質的に平らで公称粗さを有する前記鏡面仕上げの基層
面を形成し、 磁化可能のフィルムを厚さが実質的に均一な層として前
記基層面上に沈着させ、 前記基層面または記録面の何れかの指定された処理面積
部分にわたって多数の位置にエネルギーを選択的に集中
させて、それぞれの位置におけるこの選択された面積部
分の形状を制御可能に変化させ、隣接する位置を、前記
磁気データを記録し、読出すために前記磁気フィルムに
密接して位置する磁気変換ヘッドの長さ寸法および幅寸
法よりも実質的に小さい距離たけ互いに離隔させるよう
になし、前記指定された処理面積部分全体にわたる前記
選択された面の粗さが少な・：とも前記公称粗さの２倍
であるようになす、 諸工程を含んでいる 集中されたエネルギーはパルス化されたレーザーによっ
て与えられるのか望まし；、このレーザーがそれぞれの
位置に選択された面の公称平面の内方に向って伸長する
丸い中心凹部およびこの中心凹部を取巻いて公称平面の
外方に伸長する大体円形の丸いリムを形成するようにな
っている。ディスクをパルス化されたレーサーの周波数
に対応する制御された速度で回転させることによって一
連の凹部およびリムより成るリングか形成され、繰返さ
れて作られるリングか組合わされて環状帯域を形成する
ようになっている。この帯域は磁気フィルムのデータ読
出しおよび記録面積部分の半径方向に内方に位置するの
か望ましい。このような探究方法は特に内側帯域がヘッ
ド接触面積部分として指定され、残余の面積部分か空気
の支持作用によってヘッドから常に離隔されるようにな
される剛性的なディスクおよび飛翔するヘッドに関連し
て使用されるのか有利である。

基層はニッケ／Ｌ−燐合金層をメッキされ、またはその
他の方法で被覆された剛性的なアルミニウムディスクを
含んでいて、この場合レーサー処理を受ける位置がこの
合金層内にあるのか望ましいが、これと異なり、アルミ
ニウム内に形成されることもできる。しかし、さらに異
なる変形形態として、凹部およびリムを含むレーザーマ
ークは何れの引続く層、例えばクロム下層、またはコバ
ルト・クロムまたはコバルト・ニッケル磁気記録層内に
形成されることもてきる。レーザーマークかアルミニウ
ムまたはニッケル−燐合金層に形成される場合には、引
続く層はこれらのマークを模写する傾向を有する。

レーザーによる表面の組織化は従来グリ・ソト布または
紙の組織化においては得られなかった制御性能を与える
のである。レーザーの精度は組織化面積部分の境界の精
密な輪郭付与を可、能になす。

レーザーのパワー　パルスの長さおよび焦点合わせはレ
ーザーのスポットまたはマークの寸法および輪郭を制御
するために変化可能である。最後に、パルス周波数は、
ディスクの回転またはその他の相対的な変位に関連して
隣接するマークの間の間隔を決定するために制御できる
。レーザーマークの丸い性質は磁気記録媒体の形状の制
御性能を改善して摩耗特性、特に摩擦係数および自己励
起へラド／ジンバル振動エネルギーを測定することに関
連してＣ３５（接触開始−停止）試験によって測定され
るように摩耗特性を著しく改善するのである。パルス化
されたレーサーによって発生される凹部およびリムの制
御性能が大きいことは変換ヘッドの飛翔高さか指定され
た処理面積部分においても減小されるのを可能になす。

処理面積部分を特定の着地区域のみに制限することは記
録面積部分が著しく平滑になり、従って記録面積部分に
おけるヘッドの飛翔高さをさらに減小させて記録密度の
改善を得るのを可能になす。

本発明によってさらに、この方法は可撓性磁気ディスク
、テープまたはその他の、記録面が大体常時変換ヘッド
に接触する媒体にも応用されることかでき、従って指定
された処理面積部分か実質的に総て記録面になされるの
である。可撓性ディスクの制御された組織化は剛性的な
ディスクにおいて重要である程重要とは考えられないけ
れとも、それにも拘わらず丸いマークは減少された摩擦
および改善されたヘッドおよびディスクの摩耗特性を有
する全体的な表面の組織を与えることかてきる。このよ
うな接触記録装置においては、制御された丸いマークは
ヘッド／ディスクの間隔を制御するのに使用されるとと
もに摩擦および摩耗を減少させることかできるのである
。可撓性ディスクと同様に剛性的ディスクに関連して、
大体円形の凹部およびこれを取巻くリムは、破片および
ディスクに被覆された潤滑剤を収集する面積部分として
働くことによってさらに摩擦による摩耗を減少させるも
のと信じられている。

実施例 上述およびその他の特徴および利点をさらに理解するた
めに、以下の詳細な説明および図面が参照される。

さて図面を参照し、第１図および第２図にはデータ記録
媒体、すなわち垂直軸線の廻りに回転可能で実質的に平
らな水平の上面１８を有する剛性的な磁気ディスク１６
か示されている。変換ヘッド支持アーム２０はディスク
１６の半径方向に直線的に往復運動可能に支持されたキ
ャリジ組立体（図示せず）の一部分をなしている。磁気
変換ヘッドすなわちスライダー２２かアーム２０により
ヘッド懸架部２４を介して支持され、このアームととも
にディスクに対して相対的に運動するようになされてい
る。懸架部２４はこのヘッドをアームに対して相対的に
剛性的には支持していないて、ヘッドのシンバル作用を
可能にし、すなわち制限された垂直緯度およびピッチン
グおよびローリング軸線の廻りの制限された回転を許す
ようになっている。

ディスク１６の中心には開口２６かあり、ディスクを回
転させるのに使用される図示されていないディスク駆動
装置の垂直スピンドルを受入れるようになっている。こ
の開口２６およびディスクの外側の円周方向縁部２８の
間て、上面１８は３つの環状セクター、すなわち主とし
てディスクをスピンドルに対して緊締するのに使用され
る半径方向に内方のセクター３０、ヘッド接触範囲また
は面積部分または帯域３２およびデータ記憶範囲すなわ
ちデータ記憶面積部分３４に分割されている。

ディスク１６か静止している時、または正常の作動速度
範囲よりも実質的に低い速度て回転している時はヘッド
２２は常に上面１８に接触している。しかし、ディスク
か少なくともその作動速度範囲に近い速度で回転する時
には、ヘッド２２および上面１８の間をディスクの回転
方向に流れる空気によって「空気の支持作用」が形成さ
れ、これかヘッドを記録面に対して平行で間隔をおかれ
た関係に支持するのである。時にはヘッドの「飛翔高さ
」と称されるヘッド２２の平らな底面３６および記録面
「８の間の距離は通常約２．５４Ｘ１０−’ｍｍ　（１
０マイクロインチ）またはそれ以下である。この飛翔高
さは低く、ヘッド２２をできるたけ記録面１８に接近し
て配置させるのか望ましい。変換ヘッドか接近している
程、ディスク１６に記憶され得るデータが多くなるので
ある。

上述のように、アーム２０はヘッド２２を記録面上に選
択的に位置決めするように動く。この点に関連し、回転
アームは、ヘッド２２を円弧状通路内で動かすのである
けれとも実質的に同じ結果を得るようにアーム２０の代
りに使用できる。ヘッド２２の半径方向の位置は読出し
および記録作動の前および後およびこのような作動の間
に制御されるのである。更に詳しくは、空気支持作用に
よって支持されている間のこのような作動の間にヘッド
２２はデータ記憶面積部分３４を横切って半径方向に選
択的に位置決めされてディスク上の特定の位置における
データを記録するが、または読出すのである。このよう
な作動の後およびディスク１６の減速の間にアーム２０
は半径方向に内方に動かされてヘッド２２を直接にヘッ
ド接触面積部分３２上に位置決めする。従って、ディス
ク１６か充分に減速されてヘッドか上面に係合てきるよ
うになされる時までにヘッド２２はヘッド接触面積部分
に整合されるのである。次の記録または読出し作動の前
に停止状態からのディスク１６の加速か行われ、ヘッド
２２は最初に面積部分３２に係合する。アーム２０は、
これか空気支持作用によって支持されるまて、すなわち
ディスクから離れて自由になるまでは、ヘッドを面積部
分３２から半径方向に離脱させるような作動を行わない
のである。

ディスクの上面１８はデータ記憶およびヘッド接触面積
部分を含んでいるから、それぞれ面積部分の表面の輪郭
形状すなわち組織はその機能に従って形成されることか
できる。さらに詳しくは、データ記憶面積部分３４は研
磨またはその他の仕上げを施されて、高々２．５４Ｘ１
０−’０１ｍ（０，１マイクロインチ）の表面粗さを有
する著しく平滑な、鏡面仕上げになされて、ヘッド２２
の所望の低い飛翔高さを可能になすようにされるのか望
ましい。この鏡面仕上げのさらに他の利屯は組織化され
た面に比較して異物の粒子か容易に観察され、ディスク
１６の光学的検査を改善することである。この点におけ
る粗さなる用語は表面の公称水平平面より上方の最も高
い突出部の高さを意味する。

これと対照的に、ヘッド接触面積部分３２は少なくとも
１．２７ｘ　１０−’ｍｍ　（０，５マイクロインチの
粗さを有するのである。上面１８の残余の部分に対する
このヘッド接触面積部分の増大された表面粗さはディス
クの製造の間のディスクの制御された組織化によって達
成されるのである。第２図から判るように、ディスク１
６は基層、記録層およびこの記録層上の保護カバー層を
含む多数の層によって形成されている。

さらに詳しくは、ディスク１６は最初にアルミニウム基
層のディスク３８を研磨、研削またはその他の機械加工
によって基層の実質的に平らな上面を得るように形成さ
れるのである。次に、ニッケル−燐（Ｎｉ−Ｐ）合金４
０かアルミニウムのディスクの上面にメッキされて厚さ
が実質的に均一な基層面を均一に形成するようになされ
るのが望ましい。このメッキ作業に続いて、この合金層
４０は大体２．５４Ｘ１０−’ｍｍ（０，１マイクロイ
ンチ）よりも細かい粗さに研磨される。例えばシリコン
カーバイトのグリッドのラッピング処理によって行われ
るのである。このことは通常グリッドを支持する布また
は紙を含み、また所望の場合には布または紙と組合され
たグリッドを含む泥土状の液体を含むことかできる。こ
のような処理方法は公知てあって、ここではさらに詳細
には説明されない。

組織を与えるための作動の望ましい工程は合金層４０の
研磨および清掃の直後である。この組織化は第３図に概
略的に示されている装置によって行われるが、この装置
はディスク１６を支持するスピンドル４２およびディス
クの上に支持されてＮ１−Ｐ合金層４０の上面に選択的
に焦点合せされるパルス化されたレーザービーム４６を
発生するパルス化されたモードＮｄ−ＹＡＧ　（イツト
リウム・アルミニウム・ガーネット）レーザー装置４４
を含んでいる。このレーサー装置４４はオレゴン州ポー
トランドのイー・ニス・アイ・インコーポレーテット（
ＥＳＩ　　Ｉｎｃ、）から入手可能のイー・ニス・アイ
・モデル４４レーザー・トリミング装置である。このレ
ーザー装置４４は、スピンドル４２が回転され、これに
よりディスクも回転される間に選択された周波数て点火
されるのである。このレーサー装置４４は垂直な配向位
置で示されているが、所望の場合には垂直位置から離れ
るように傾倒されることのできる構造体（図示せず）に
よって支持されるのが望ましい。この支持構造体はさら
にディスクおよびスピンドルの半径方向にレーザー装置
４４の制御された歩道運動を可能になしている。スピン
ドルを回転させ、レーザー装置を支持して配向させ、歩
進運動を行わせる特定の装置は、この技術分野で公知で
あり、直接に本発明には関係かないから、ここては図示
されず、詳細に説明されない。反対に、本発明はこのよ
うな装置か使用され、制御されて厳格に輪郭を与えられ
たヘッド接触面積部分３２を形成するのに使用される点
にあるのである。

本発明の顕著な特徴は全体的なヘッドの接触面積部分に
わたる協調性のある均一な組織にある。

均一性を得るに際し、２つの制御レベルか含まれる。す
なわち個々のレーザーマークまたはスポットに関係する
ミクロすなわち微小レベルおよび多数のレーザースポッ
トのパターンまたは配置に関するマクロなレベルか含ま
れるのである。個々のレーザースポットの性質は、主と
してレーサーか点火される強度すなわちピークエネルギ
ーおよびそれぞれの点火′の持続時間、すなちパルス幅
によって制御されるのである。若干の二義的な附加的要
因はビーム４６か焦点合せされる方法および接近すなわ
ち入射角度を含んでいる。第３図に示されるように水平
の基層面に対するビームの位置方向、すなわち９０°の
接近角度は実質的に円形のスポットを生しさせるが、傾
斜した角度、すなわち４５°の角度は若干楕円形または
横長のスポットを生しさせるのである。

スポットのパターンまたは配列に関しては、主な制御要
因はレーザー装置４４の繰返し点火の周波数すなわち頻
度、ディスクの回転速度もよびレーザーの半径方向の歩
道量を含んている。

１つの望ましい組織化の探究方法はレーザー装置４４を
第３図に示されるように垂直に配向させ、ディスク１６
か回転している間およびディスクの回転速度に関連され
て引続くスポットの間に選択された距離を与えるように
レーサーを選択された頻度で点火する間にレーサー装置
４４を静止状態に保持することである。ディスクの１回
転は中央開口２６と同心的なこのようなスポットの１つ
のリングを生じさせる。次に、レーサー装置４４はその
垂直の配向位置を保持して所望のリンク間距離たけ半径
方向に移動され、ディスクの回転に対して予め定められ
た周波数および位相にて点火されるのである。これらの
工程は、多数の同心的なレーザースポットのリングかリ
ングのピンチＸ数に等しい幅の環状帯域として変動接触
面積部分３２を形成するまで繰返されるのである。

このようにし選択的（二組織化されたニッケル燐合金層
によって、第２図に示された残余の層か望ましくは真空
蒸着方法によってディスク１６を完成させるために付与
されるのである。さらに詳しくは、クロム層か約１０−
’ｍｍ　（１，０００オンゲスローム）の厚さてニッケ
ル−燐合金の上面にスパッター蒸着されて記録層の下層
５０を形成するのである。コバルト・ニッケル合金、コ
バルト・クロム合金または同様のものになし得る記録層
５２かクロム層の上に約５ＸＩＯ−’ないし７×１０−
５ｍｍ　（５００ないし７００オンゲスローム）の厚さ
てスパッター蒸着される。最後に、例えば炭素になし得
る保護層５４が約３Ｘ１０−５ｉｎ（３００オンゲスロ
ーム）の厚さて記録層の上に沈着されるのである。

上述したように、主として個々のレーザースポットを制
御する処理パラメータはピークエネルギーすなわち強度
およびパルスの持続時間であって、接近角度および焦点
合せも何等かの不連続の寸法および形状を形成させるの
に寄与するのである。

レーザー装置４４が垂直に配向されている時にこのレー
ザー装置４４によって形成される典型的なスポットか第
４図に示されていて、単一のクレータ−のスポット５６
として第５図にその輪郭か示されている。このクレータ
−５６は、この場合ニッケル−燐合金層４０の上面であ
る基層面４８の公称平面と考えられる鏡面仕上げ平面５
８（第５図）からの２つの逸脱状態（ｄｅｐａｒｔｕｒ
ｅ　）の組合せである。これらの内の最初のものは中央
の凹部すなわちビット６０てあって、他方のものはこの
ビットを取巻く実質的に円形のリムすなわち隆起部６２
である。第５図にてｈで示されるこのリム６２の公称平
面５８からの高さは１．２７Ｘ１０−’ないし２．０３
　Ｘ　１０−’ｍｍ　（０，５ないし０．８マイクロイ
ンチ）の範囲であるのか望ましいが、リムの高さが２．
５４Ｘ１０−’砿（ｌマイクロインチ）を僅かに超える
場合のヘッド接触面積部分も満足に作動できる。第５図
にてｄて示される平面５８から下方へのビット６０の深
さは通常リムの高さの約２倍である。従って、ヘッド接
触面積部分３２の表面粗さｈは１．２７Ｘ１０−″ない
し２．５４　Ｘ　１０−５ｍｍ　（０，５ないし１．０
マイクロインチ）の範囲である。最後に、リム６２の直
径と等しく、第５図てＤとして示されているスポット５
６の直径は通常２．５４Ｘ１０−’ないし１．０２Ｘ１
０−’咄（０，１ないし４．０ｔｎｉｌ　）の範囲にあ
る。

上述の処理パラメーターは寸法ＤＳｄおよびｈに影響を
与えるように変化されることかできる。

リムの高さｈは最も重要であると考えられ、約０゜１キ
ロワツトないし約５キロワツトの望ましい範囲にわたる
ピークパワーによって変化する。最良のピークパワーは
勿論使用される特定のレーザーおよび組織化される表面
の性質とともに変化できるのである。しかし、ニッケル
−燐合金層４０に関連して、溶解が始まる温度の真上の
Ｏ，ｌ−５キロワツトの範囲の下限に向かって作動させ
るのか有利であることか見出されている。

リム６２の高さｈ程重要てはないが、それてもビット６
０の深さｄは有用な目的、すなわちヘッド／ディスクの
接触により発生される媒体の破片、ヘッドの破片または
その他の破片を捕捉して収集する目的に役立つ。さらに
、液体の性状に近つく傾向を有するフルオロカーボン潤
滑剤被覆に関連して、ディスクが停止された時に中央凹
部が潤滑剤被覆を保持するのである。しかし、ディスク
か旋回を始めると潤滑剤か凹部から上方に流出してリム
を覆い、ヘッド接触面積部分の動力学的摩擦を減少させ
る傾向かあると信しられている。

本発明の他の有用な特徴は、ビットおよびリムを形成し
ている輪郭の丸い性質で、このような丸いリムは特に実
質的に長期間にわたって摩擦および摩耗特性を向上させ
るのに寄与する。このような丸い輪郭は液体の状態から
固体の状態に戻る間の材料か冷却する間の表面張力に基
つく材料の流れによって生しると信しられている。ビー
ム４６かニッケル−燐合金層４０の上面に対して点火さ
れる時に合金は、後でビットを形成する部分に最初に集
中されていた熱を吸収する。この熱は主としてこの中心
から伝導によって迅速に半径方向の総ての方向に消散さ
れる。中心の近くて、この熱量は瞬間的に合金を溶解す
るのに充分である。合金は直ちに冷却して固化するが、
材料かスポットの中心から外方に引出される前は固化せ
ず、明らかに表面張力によって中心の凹部およびこれを
取巻くリムを形成するのである。この丸い輪郭は実質的
且つ測定可能に変換ヘッドとの接触による摩耗に対して
さらに抵抗できるのである。

マクロ組織、すなわちスポットのパターンまたは配列を
制御するために、ディスク１６を約１０ないし約１０　
Ｏｒｐｍの速度で、回転させるとともに、約５キロヘル
ツないし約２０キロヘルツの範囲にわたる点火周波数す
なわち頻度を得るようにレーザー装置４４のＱ切換え速
度を制御することか満足であることか見出されている。

満足なピッチまたはリング間隔は約６．３５Ｘ１０−’
ないし１．０２Ｘ１０−’ｍｍ（０，２５ないし４．０
ｍ１１）の範囲であるが、望ましい範囲は１．２７ＸＩ
Ｏ−２ないし２．．５４　Ｘ　１０−２ｍｍ　（０，５
ないし１．０ｍ１１　）　：ある。

これらの範囲内で選択されたパラメーターの所望の結果
は第６図に示されるようにヘッド接触面積部分３２の部
分か拡大されたことである。隣接するスポット間の半径
方向（ピッチ）の間隔および隣接するスポットの間の円
周方向の間隔は約２、５４　Ｘ　Ｉ　Ｏ−’ｍｍ　（１
ｍ１１　）の平均スポット直径に大体等しく、これより
も小さくすることかできる。得られる結果は殆ど全体的
に中央凹部およびこれらの凹部の廻りの隆起したリムよ
り成る実質的に均一な連続的な組織である。以下の例は
指定された組織化パラメーターの範囲内での探究につい
て得られたものである。

例１： ２０、３２ａｎ　（８ｉｎ）の直径および１．９ｍｍ（
０，０７５ｉｎ）の厚さを有するアルミニウムの剛性的
ディスクかニッケル−燐合金を約１．０２Ｘ　１０−’
ｍｍ　（４００マイクロインチ）の厚さでメッキされた
。レーザー装置は基本モード（指定されたＴＥＭ、。）
で作動され、１６．５ミリアンペアの電流がレーザー装
置に与えられて０．２キロワットのビークパワーを発生
した。レーザー装置のＱ切換え速度は約１００ナノセコ
ンドのパルス持続時間にて１２キロヘルツに保持され、
一方ディスクは２５ｒｐｒｎの速度で回転された。

その結果は隣接するレーサースポットか平均スポット直
径に大体等しい距離たけ間隔をおかれて殆と互いに接触
する程の円周方向のリングであった。ディスクのそれぞ
れの回転の後で、レーサー装置４４か段階的歩道、すな
わちディスクの半径方向に２．０３　ｘ　１０”ｍｍ　
（０，８ｍ１１　）のピッチだけ移動された。２００の
同心的なリングか形成され、半径方向に４．０６ｍｍ　
（１６０ｍ１１　）の幅を有する環状ヘッドセクターす
なわち帯域を形成した。この帯域内の個々のスポットか
アリシナ州タクソンのワイコー・コーポレーション（Ｗ
ＹＫＯｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ　）から入手できるライ
：１−３Ｄ表面輪郭計（Ｗ”ｌ’ＫＯ−３Ｄ　　５ｕｒ
ｆａｃｅ　ｐｒｏｆｉｌｏｍｅｔｅｒ）（位相シフト干
渉計）を使用して観察された。典型的な主要素をなすレ
ーザースポットは公称平面の上に約１．２７Ｘ１０−’
ないし２．０３Ｘ１０’ｍｍ（０，５ｕ０．８マイクロ
インチ）だけ伸長する隆起部および公称平面がら下方に
約２５４ＸＩＯ−’ないし５．０８Ｘ１０”狐（１０な
いし２，０マイクロインチ）の深さを有する中央凹部を
有していた。平均スポット直径は２．０３Ｘ１０−２ｍ
ｒｎ　（０，８ｍ１１　）であった。

例２： 少なくともレーザー装置４４か１７．５ミリアンペアの
電流によって付勢された以外は例１におけるようにアル
ミニウムディスクにニッケル−燐合金かメッキされた。

得られたスポットは公称平面がら上方に約２．５４Ｘ１
０−５ないし５．０８Ｘ　１０−’ｍｍ　（１，０ない
し２．０マイクロインチ）伸長する隆起部および公称平
面がら下方に１．０２Ｘ１０−’ないし２７Ｘ１０−’
ｍｍ（４，０−５，０マイクロインチ）の凹部を、２、
０３　ｘ　１０−２ｍｍ　（０，８ｍ１１）のトラック
間のピッチとともに有していた。

例３： レーザー装置４４か１７．５ミリアンペアの電流によっ
て付勢され、トラック間ピンチか２．５４　ｘ　１０−
２ｍｍ（１、０ｍ１１　）であった以外は例１における
ようにアルミニウムディスクにニッケル燐合金層かメッ
キされた。スポットの構造は例２におけるものと同様で
あった。

例４ リング間のピッチか１．２７ｘｌＯ−１ｍｍ（０，５ｍ
１１　）に減小され、面積部分の全幅か３、８１ｍｍ　
（１５０ｍ１１　）であった以外は例１におけると同様
にアルミニウムの剛性的ディスクにニッケル−燐合金か
メッキされｔ：、。隣接するスポットは互いに接触し、
典型的なスポットは約１、５２ｘ　１０−５ｍｍ　（０
，６マイクロインチ）だけ立上る隆起部および約３．０
５Ｘ１０−’ｍｍ（１，２マイクロインチ）の深さの中
央凹部を有していた。

大体円形のスポットの形状が垂直に配向されたレーザー
ビームによって得られたが、レーザービームはディスク
１６．に対して傾斜角度、例えば水平から４５°傾斜し
て指向されることもてきる。

その結果はそれぞれのスポットか楕円形または横長の形
状に伸長されることである。ビームかディスクの半径を
含む垂直平面内に保持されなからさらに傾斜され、また
ディスクの回転速度および点火頻度かスポットの直径に
近似するスポット間の円周方向距離を与えるように合致
されると、その結果は第７図の基層６６上に示されるよ
うに隣接する細長いスポット６４の円周方向のリングを
形成するのである。

このような制御パラメーターは既述のパターンの変形形
態を与えるように変化されることかできるが、例えばリ
ング間ピッチを変化させて半径方向に外方にリング間ピ
ッチを増大させ、隣接するリングを互い違いに配置して
それぞれのリング内のスポットか次の隣接するリングの
スポットの間の中間範囲に対応するようになし、スポッ
トの任意の配列、およびレーサーのビークパワーまたは
スポットの発生頻度か半径方向に外方のリングに対して
次第に減少されてヘッド接触帯域における半径方向に外
方の粗さを次第に減小させるような配列か可能になるこ
とか認められるのである。

第８図は機械的に組織化された基層面を有する基層６３
を示している。選択されたグリッドの寸法およびグリッ
ドを支持する紙または布の性質に関係してこの基層面は
選択された粗さに組織化できて、変換ヘッドに接触する
ヘッド接触部分を形成するようになされることかてきる
。しかし、第４図ないし第７図とは鋭い対照をなすよう
に、第８図は基層６３の面が機械的な組織化の針状の形
状特性を有することを示している。組織化された面は、
高さおよび深さか不規則で険しい傾斜および尖った縁部
を特徴とする突出部６５および凹部または谷部６７を含
んでいる。

さらに、尖った縁部はグリッドの切削作用による応力集
中の面積部分である。従って、最も高い突出部の頂部は
基層に対して相対的（こ動く変換ヘッドに接触する時に
破壊されて除去され易い。この図面に示されているよう
に、突出部の１つの上方頂部６９は破壊されて、必ずし
も水平な上面７１ではないけれとも、平らな面を残すよ
うになされるのである。

一度頂部かこれらの多数の突出部から破壊し去られると
、２つの問題か発生するが、これらの両者は記録装置の
長期間の信頼性を阻害する。すなわち先ず、多数の大体
子らな面状部分７１　（元の尖った頂部てなく）は変換
ヘッドとの面接触の全面積を増大させて、固着および摩
擦の問題（通常摩擦の蓄積と称される）を増加させる。

次に、多数の破壊し去られた頂部は破壊される時に変換
ヘッドに付着する傾向かあり、谷部６７に蓄積して突出
部の範囲の磁気層を露出させて腐食される恐れのある場
所を発生させ、または粒子状態の汚損物として自由に保
持されて、何れの場合にも記録装置の信頼性を低減させ
るのである。

第９図および第１Ｏ図の線図は本発明によってレーサー
により組織化されたディスクに対する機械的に組織化さ
れたディスクの比較を示している。

さらに詳しくは、機械的に組織化されたディスクおよび
レーザーにより組織化されたディスクかともに最初およ
び接触開始−終了試験の種々の段階にて比較されるので
ある。総てのディスクは３×１０−５ｍｍ　（３００オ
ングストローム）の厚さのスパッター蒸着された炭素の
保護層を設けられていた。これらの図面に関連して、実
際の試験結果はその範囲を示す一連の垂直なバーとして
現れることが注目される。それぞれの図面における線は
このような垂直のバーのそれぞれの中点を連結して示さ
れている。

第９図に示されるように、総てのディスクは最初０．２
５の摩擦係数を有していた。破線６８によって示される
機械的に組織化されたディスクの場合、摩擦係数は３０
００回の接触開始−停止サイクルによって充分に１．０
以上になり、約１００００回のサイクルの後では２．０
に近くなった。

これと対照的にレーザーにより組織化されたディスクの
摩擦係数は実線７０によって示されるように約０．２５
に留まったのである。摩擦係数はヘッドおよびディスク
のヘッド接触面に対する摩耗の主な指示装置であるから
、第９図に示される結果は本発明によって組織化された
時にヘッド接触面積部分か驚異的な耐久性を有すること
を示すものである。

第１Ｏ図もまた多数の接触開始−停止サイクルにわたる
機械的に組織化されたディスクおよびレーザーにより組
織化されたディスクの比較を示し、この場合自己励起へ
ラドジンバルアームの振動の範囲（ｅｎｖｅｌｏｐｅ）
を比較している。自己励起ヘッド／ジンバルアームの振
動エネルギーはヘッドか起動−停止試験の間に固着力に
打勝って自由に飛翔するまでの時間のヘッド／ディスク
の界面において消費されるエネルギーによって定義され
る。

この値は、この場合容量プローブによって測定されるよ
うな前述の時間にわたるヘッドのアームが受ける歪みを
積分することによって測定されるのである。この値は、
ディスクか停止状態から加速される時に変換ヘッドかヘ
ッド接触面積部分から離脱する時に測定されるのである
が、これかヘッドおよびディスクのヘッド接触範囲に対
する将来の摩耗を予測するのである。機械的に組織化さ
れたディスクを示す破線７２およびレーサーにより組織
化されたディスクを示す実線７４の比較によって判るよ
うに、機械的に組織化されたディスクは最初低い読みを
示したが、５０００回の接触開始−終了サイクルの充分
前からレーサーにより組織化されたディスクを超過し、
その後はレーサーにより組織化されたディスクを超過し
て保持されている。再度、ヘッドおよびディスクの接触
面が本発明によって平滑な丸い輪郭を形成するように組
織化された時にヘッドおよびディスクの接触面の両方に
対して実質的に長い有用な寿命か示されているのである
。

さらに、第９図および第１０図に関し、摩擦係数の平均
値および自己励起ヘッドジンバルアームの振動の範囲か
レーサーにより組織化されたディスクの場合に改善され
るのみてなく、これらの値の範囲も多数の接触開始−停
止サイクルにわたって実質的に均一に留まり、レーザー
により組織化することがさらに信頼性のあるヘッド／デ
ィスクの界面を得られることを示していることか見出さ
れている。これと対照的に、機械的に組織化されたディ
スクの場合には、接触開始−終了サイクルの回数か増加
するにつれてこれらの値の範囲か拡かり、すなわちこの
範囲を示す前述の垂直のバーが長くなるのである。

本発明の望ましい実施例は、読出しおよび記録作動の間
に変換ヘッドか空気の支持作用によってディスクから間
隔をおかれるような剛性的ディスクを企図しているので
あるが、可撓性媒体も同様に本発明によって組織化され
ることかてきる。その主な相違点は、可撓性ディスクま
たはテープか常時変換ヘッドに接触して保持され、従っ
て制限されたヘッド接触帯域でなく、このようなディス
クの全面が実質的に組織化されることである。

従って、本発明によって組織化された媒体か可撓性であ
るかまたは剛性的であるかに拘わらず、多数の接触開始
−停止サイクル、例えばＩＯ２０００回またはそれ以上
のサイクルの後でも比較的低い摩擦係数を保持する能力
を測定できるようにして実質的な驚異的な耐久性の増大
を得られることである。表面の不連続性の平滑な丸い輪
郭か耐久性を増大させる主な寄与要因であると信しられ
ている。さらに他の要因は、特別に組織化された面にわ
たって表面の粗さの大なる均一性を生しる改善された組
織化方法の制御である。レーサーか制御された組織化を
行うための望ましい装置であるが、他の変形形態、例え
ば平滑な丸い輪郭を得るための写真平版術（ｐｈｏｔｏ
ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）　、メッキまたはエツチング
も本発明による組織化された面積部分に利用できるので
ある。

剛性的なディスクおよび飛翔ヘッドに関連して、本発明
は、加速、減速の間およびディスクが静止している間の
変換ヘッドに対する接触に貢献する表面面積部分を与え
る附加的な利点を与える。ディスクの実質的に総ての残
余の面積部分はデータを読出し、記録するのに理想的に
適する鏡面仕上げを有することかできるのである。

発明の効果 本発明は上述のように構成されているから、磁気変換ヘ
ッドの飛翔高さを実質的に減小させ、記録密度を増加さ
せ、ヘッドおよびディスクの摩耗特性を改善するように
、表面粗さを形成する突出部および凹部か制御された寸
法および形状を有するようになされた磁気記録媒体か提
供され、また磁気記録面の厳密に輪郭を付与された組織
を制御するとともに記録面の残余の部分に鏡面仕上げを
与える方法か提供されるのである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、ディスクの記録面が本発明によって形成され
た指定された変換ヘッド接触面積部分を含むようになさ
れている回転可能の剛性的磁気記録ディスクおよびこの
ディスクの半径方向に大体運動するように支持された変
換ヘッドの平面図。 第２図は第１図の磁気ディスクの部分的な拡大断面図。 第３図はヘッド接触面積部分を形成するように第１図の
ディスクを制御可能に組織化する装置の概略的説明図。 第４図は前記表面に形成されたレーザーマークの実質的
に拡大された斜視図。 第５図はレーザーマークの輪郭の概略的断面図。 第６図は第４図と同様の、変換ヘッド接触面積部分を示
す斜視図。 第７図は第６図と同様の、表面の組織の変形形態を示す
斜視図。 第８図は機械的に組織化された面の輪郭を示す概略的図
面。 第９図および第１０図は通常の方法て組織化された面と
比較される本発明によって組織化された面に対する比較
を示す摩擦係数および自己励起へット／ジンバルエネル
ギーをそれぞれ示す線図。 １６・・・・・磁気ディスク １８・・・・・実質的に平らな水平の上面２０・・・・
・変換ヘッド支持アーム ２２・・・・・磁気変換ヘッド ２４・・・・・ヘッド懸架部 ２６・・・・・磁気ディスクの開口 ３０・・・・・ディスクを緊締する半径方向の内方のセ
クター ３２・・・・・ヘッド接触面積部分すなわち帯域 ３４・・・・・データ記憶面積部分すなわち範囲 ３８・・・・・アルミニウム基層のディスク４０・・・
・・ニッケル−燐合金層 ４２・・・・・スピンドル ４４・・・・・レーサー装置 ４６・・・・・レーザービーム ５６・・・・・クレータ−のスポット ５８・・・・・鏡面仕上げの公称平面 ６０・・・・・中央凹部すなわちピット６２・　・・・
・リム。

Claims (31)

【特許請求の範囲】
1. （１）磁気データを記録し、読出すための磁気変換ヘッ
   ドと関連して作動される磁気媒体の製造方法において、 非磁化性の基層本体上の鏡面仕上げの基層面であって、
   実質的に平らで公称粗さを有する前記鏡面仕上げの基層
   面を形成し、 磁化可能のフィルムを、実質的に厚さが均一な層として
   前記基層面上に沈着させ、 前記基層面および記録面の選択された部分の処理面積部
   分にわたる多数の位置にエネルギーを選択的に集中させ
   、この選択された面積部分の形状を制御可能に変化させ
   て、隣接する位置が、前記磁気データを記録し、読出す
   ために前記磁気フィルムに密接して位置する磁気変換ヘ
   ッドの長さ寸法および幅寸法よりも実質的に小さい距離
   だけ互いに離隔されるようになし、前記処理面積部分全
   体にわたる前記選択された面の粗さが少なくとも前記公
   称粗さの２倍であるようになす、 諸工程を含んでいる磁気媒体の製造方法。
2. （２）前記エネルギーがパルス化されたレーザーエネル
   ギーであって、前記位置における選択された面に丸い凹
   部を含むレーザーマークを形成する、ようになされた請
   求項１に記載された磁気媒体の製造方法。
3. （３）前記処理面積部分が前記選択された面の表面積の
   １０％よりも小さい面積を含む前記選択された面の指定
   された範囲より成っている、 請求項２に記載された磁気媒体の製造方法。
4. （４）前記基層がディスクであって、前記エネルギーを
   集中させる工程が、 （ａ）制御された回転速度で前記ディスクを回転させ、 （ｂ）前記パルス化されたレーザーエネルギーを前記回
   転速度に対応する制御された周波数で同時に与えて一連
   の前記凹部より成る第１のリングを形成し、 （ｃ）前記リングを形成した後で、前記レーザーを前記
   ディスクに対して相対的に半径方向に変位させ、 （ｄ）前記パルス化されたレーザーエネルギーを前記制
   御された周波数で与えるとともに、前記ディスクを前記
   回転速度で回転させて前記第１のリングと同心的で、レ
   ーザーの半径方向の変位量に対応するピッチだけ前記第
   １のリングから半径方向に間隔をおかれた引続く一連の
   凹部より成る引続くリングを形成し、 （ｅ）前記工程（ｃ）および（ｄ）を繰返して選択され
   た数の同心的リングを形成し、これによって前記指定さ
   れた範囲が環状帯域になるようになす、副工程を含む請
   求項３に記載された磁気媒体の製造方法。
5. （５）前記変換装置の幅寸法が前記ディスクの実質的に
   半径方向に整合され、前記帯域が少なくとも前記変換装
   置の幅と同じ大きさの半径方向の幅を有する、 ようになされた請求項４に記載された磁気媒体の製造方
   法。
6. （６）前記エネルギーを集中させる工程が前記基層上で
   行われる、 請求項２に記載された磁気媒体の製造方法。
7. （７）前記基層本体が実質的に剛性で、アルミニウムに
   よって形成されている、 請求項６に記載された磁気媒体の製造方法。
8. （８）前記基層本体がさらに、厚さが実質的に均一な層
   として前記アルミニウム上にメッキされたニッケル−燐
   合金の層を含んでいて、前記基層面がニッケル−燐合金
   層の面になされている、請求項７に記載された磁気媒体
   の製造方法。
9. （９）前記パルス化されたレーザーエネルギーが前記各
   位置において前記選択された面の公称平面の内方に伸長
   する丸い中央凹部を形成し、大体円形の丸いリムが前記
   中央凹部を取巻いて前記公称平面から外方に伸長するよ
   うになされている、請求項１に記載された磁気媒体の製
   造方法。
10. （１０）前記エネルギーを集中させる工程が前記凹部を
    前記指定された面積部分にわたって大体均一に分布させ
    るように前記位置を選択することを含んている、 請求項９に記載された磁気媒体の製造方法。
11. （１１）前記エネルギーを集中させる工程がさらに前記
    指定された範囲の少なくとも半分にわたって前記凹部を
    形成することを含んでいる、 請求項１０に記載された磁気媒体の製造方法。
12. （１２）前記磁化可能のフィルム上に保護カバー層を沈
    着させ、前記カバーが実質的に均一な厚さを有して前記
    磁化可能のフィルムの表面輪郭を模写するようになされ
    ている、 さらに他の工程を含んでいる請求項２に記載された磁気
    媒体の製造方法。
13. （１３）前記磁化可能のフィルムを前記基層面に沈着す
    る前に非磁化性の下層を前記基層面に沈着させ、前記非
    磁化性の下層が実質的に均一な厚さを有して前記基層面
    の輪郭を模写するようになされている、 さらに他の工程を含んでいる請求項１２に記載された磁
    気媒体の製造方法。
14. （１４）前記エネルギーを集中させる工程が、（ａ）長
    手方向に制御された速度で前記基層を動かし、 （ｂ）同時に前記パルス化されたレーザーエネルギーの
    ビームを前記面上に制御された周波数で指向させて前記
    第１の列の凹部を形成し、 （ｃ）前記ビームを選択されたピッチで横方向に移動さ
    せて前記基層を長手方向に動かす間に前記レーザーエネ
    ルギーのビームを与えて前記第１の列に平行な前記凹部
    の引続く列を形成し、 （ｄ）選択された回数だけ前記工程（ｄ）を繰返して選
    択された横方向幅を有する長手方向の帯域として前記指
    定された範囲を形成する、 工程を含む請求項３に記載された磁気媒体の製造方法。
15. （１５）前記処理面積部分が実質的に総ての前記選択さ
    れた面を含んでいる請求項１に記載された磁気媒体の製
    造方法。
16. （１６）磁気データを記録し、読出すための磁気変換ヘ
    ッドに関連して通常制御された間隔をおかれた関係で作
    動される磁気ディスクの製造方法において、 剛性的な非磁化性基層上に実質的に平らな外側基層面を
    形成し、 前記基層上に大体均一な厚さで非磁化性下層を沈着させ
    て前記基層面に実質的に平行な外側下層面を形成し、 磁化可能のフィルムを前記非磁化性下層上に沈着させ、
    前記磁化可能のフィルムが実質的に均一な厚さを有して
    前記下層面に実質的に平行な外側フィルム面を形成する
    ようになし、 前記磁化可能のフィルム上に非磁化性カバー層を形成し
    て、前記カバー層が実質的に均一な厚さを有する、前記
    フィルム面に実質的に平行な露出された外側カバー面を
    形成するようになし、前記外側面の選択された面積部分
    にわたる多数の位置にエネルギーを集中させて、内方に
    伸長する凹部および前記凹部をそれぞれの前記位置にて
    取巻く外方に伸長する丸いリムを含むマークを形成し、
    これによって前記選択された処理面積部分にわたって前
    記選択された面の表面粗さを高々２．５４×１０＾−＾
    ６ｍｍ（０．１マイクロインチ）の公称値から少なくと
    も５．０８×１０＾−＾６ｍｍ（０．２マイクロインチ
    ）の増加された値まで増大させる、諸工程を含んでいる
    磁気ディスクの製造方法。
17. （１７）前記選択された面が基層面であって、前記下層
    、前記磁化可能のフィルムおよび前記カバー層を沈着さ
    せる工程が前記基層面にエネルギーを集中させる工程の
    後で順次行われるようになされている請求項１６に記載
    された磁気ディスクの製造方法。
18. （１８）前記基層面にエネルギーを集中させる工程が、 （ａ）予め定められた回転速度で前記ディスクを回転さ
    せ、 （ｂ）前記パルス化されたレーザーエネルギーのビーム
    を同時に前記基層面に指向させてそれぞれ１つのマーク
    が前記位置にそれぞれ対応するようにして前記多数のマ
    ークを形成させ、 （ｃ）前記レーザーのビームが指向された前記基層面の
    半径方向位置を変化させる、 副工程を含んでいる請求項１７に記載された磁気ディス
    クの製造方法。
19. （１９）磁気的に読出し可能のデータを記憶させる装置
    において、 実質的に平らな基層面を有する実質的に剛性的な、非磁
    化性基層を含むディスクであって、さらに実質的に厚さ
    が均一な層として前記基層面上に沈着される磁化可能の
    フィルムを含み、前記ディスクが公称平面を有する外面
    を有するようになされている前記ディスクと、 前記外面がそれぞれ前記公称平面から内方に前記基層に
    向って１．２７×１０＾−＾５ないし２．５４×１０＾
    −＾４ｍｍ（０．５ないし１０マイクロインチ）の範囲
    の距離だけ伸長する凹部およびそれぞれ実質的に前記凹
    部を取巻いて少なくとも５．０８×１０＾−＾６ｍｍ（
    ０．２マイクロインチ）の高さだけ前記公称平面から外
    方に伸長し、それぞれ０．００２５ないし０．１２５ｍ
    ｍ（０．１ないし５ｍｉｌ）の範囲の直径を有する丸い
    リムを含む多数のマークを含むようになされる、 ことを含んでいる磁気的に読出し可能のデータを記憶さ
    せる装置。
20. （２０）前記外面が磁気変換ヘッドと面接触するように
    なされた第１の面積部分および磁気データの記憶を行う
    ようになされた第２の面積部分を含み、前記ヘッドが記
    録および読出し作動の間に前記ディスクの回転によって
    発生される空気膜によつて前記第２の面積部分に対して
    間隔をおかれた関係に保持され、また前記凹部および前
    記リムが前記第１の面積部分にだけ形成されている、 請求項１９に記載された磁気的に読出し可能のデータを
    記憶させる装置。
21. （２１）前記第１の面積部分が少なくとも１．２７×１
    ０＾−＾５ｍｍ（０．５マイクロインチ）の粗さを有し
    、一方前記第２の面積部分が高々０．００２５ｍｍ（０
    ．１マイクロインチ）の粗さを有する、請求項２０に記
    載された磁気的に読出し可能のデータを記憶させる装置
    。
22. （２２）前記第１の面積部分が前記ディスクの回転軸線
    と実質的に同心的な環状帯域になされていて、前記変換
    ヘッドの幅を超過する半径方向寸法を有する、 請求項２０に記載された磁気的に読出し可能のデータを
    記憶させる装置。
23. （２３）隣接する前記マークが互いに０．１２５ｍｍ（
    ５ｍｉｌ）よりも大きくない距離だけ間隔をおかれてい
    る、 請求項２０に記載された磁気的に読出し可能のデータを
    記憶させる装置。
24. （２４）前記凹部およびこれに対応するリムが前記第１
    の面積部分の表面積の少なくとも５０％を含んでいる、 請求項２０に記載された磁気的に読出し可能のデータを
    記憶させる装置。
25. （２５）前記基層がアルミニウム本体およびこの本体に
    メッキされたニッケル−燐合金層を含んでいて、前記凹
    部および前記リムか前記ニッケル−燐合金内に形成され
    ており、また前記磁化可能のフィルムが前記合金上に形
    成されて前記基層面の表面輪郭を模写するようになされ
    ている、 請求項２０に記載された磁気的に読出し可能のデータを
    記憶させる装置。
26. （２６）厚さが実質的に均一な層として前記磁化可能の
    フィルム上に沈着されて、これにより前記磁化可能のフ
    ィルムの表面輪郭を模写するようになされている保護カ
    バー層であって、前記外面がこのカバー層の露出面にな
    されている前記保護カバー層を、 さらに含んでいる請求項２５に記載された磁気的に読出
    し可能のデータを記憶させる装置。
27. （２７）磁気データを記録し、読出す装置において、非
    磁化性基層、前記基層の基層面上に沈着させた磁化可能
    のフィルムであって、実質的に均一な厚さを有し、これ
    により前記フィルムが前記基層の表面の形状を実質的に
    模写する前記磁化可能のフィルムおよび前記磁化可能の
    フィルム上に沈着されて実質的に均一な厚さを有し、こ
    れにより前記フィルムの表面の形状を実質的に模写する
    ようになされているカバー層を含んでいる回転可能のデ
    ィスクと、 磁気変換ヘッド、およびこのヘッドを選択された配向位
    置に支持して前記ディスクに対して相対的な大体半径方
    向の制御された運動を行わせる装置と、 を含んでいて、 前記基層面が高々５．０８×１０＾−＾６ｍｍ（０．２
    マイクロインチ）の表面粗さを有する環状のデータ支持
    範囲およびこれに隣接する環状の第２の範囲を有し、前
    記基層面が公称平面を有し、前記第２の範囲にわたって
    前記公称平面から内方に少なくとも６．３５×１０＾−
    ＾６ｍｍ（０．２５マイクロインチ）たけ伸長する多数
    の凹部および前記凹部に隣接して前記公称平面から外方
    に少なくとも１．０２×１０＾−＾５ｍｍ（０．２５マ
    イクロインチ）の高さだけ伸長する隆起部を含み、前記
    隆起部が丸くて、鋭い縁部がないようになされている、
    磁気データを記録し、読出す装置。
28. （２８）前記第２の範囲が前記第１の範囲の半径方向の
    内方に位置している、 請求項２７に記載された磁気データを記録し、読出す装
    置。
29. （２９）前記第２の範囲が前記ディスクの半径方向に１
    ．２７ないし１２．７ｍｍ（０．０５ないし０．５イン
    チ）の範囲の幅を有する、 請求項２８に記載された磁気データを記録し、読出す装
    置。
30. （３０）前記凹部および前記リムが大体円形であって、
    隣接する前記凹部が互いに高々０．１２７ｍｍ（５ｍｉ
    ｌ）だけ間隔をおかれている、 請求項２９に記載された磁気データを記録し、読出す装
    置。
31. （３１）前記リムが２．５４×１０＾−＾３ないし１．
    ２７×１０＾−＾１ｍｍ（０．１ないし５．０ｍｉｌ）
    の範囲の直径を有する、 請求項３０に記載された磁気データを記録し、読出す装
    置。