JPH0327335A - カルボニル化合物の水素化方法 - Google Patents

カルボニル化合物の水素化方法

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JPH0327335A
JPH0327335A JP1162014A JP16201489A JPH0327335A JP H0327335 A JPH0327335 A JP H0327335A JP 1162014 A JP1162014 A JP 1162014A JP 16201489 A JP16201489 A JP 16201489A JP H0327335 A JPH0327335 A JP H0327335A
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JP1162014A
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Akinobu Wakayama
若山 晃伸
Toshihiro Kawakami
川上 利弘
Kiyoshi Kadowaki
角脇 清
Nobuyuki Murai
村井 信行
Kiichi Yamada
紀一 山田
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Mitsubishi Chemical Corp
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Mitsubishi Kasei Corp
Mitsubishi Chemical Industries Ltd
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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はカルボニル化合物を水素化し、各種化学工業原
料、高性能溶剤等として有用なアルコールを得る方法に
関する。
〔従来の技術〕
従来から、アルデヒド筐たはケトンを水素化する際にル
テニウム触媒を使用する方法が知られている(例えば、
「反応別実用触媒」(化学工業社刊)P/7A〜P/9
!参照)。
ルテニウム触媒の製造法としては、一般に塩化ルテニウ
ムの水溶液担体に含浸させ、水洗、乾燥を行ない、水素
ガスによル還元する方法(例えば、Platinum 
Metal Rev.A P / 2 〜/ 9(/?
64〕参照ノが採用されている。
しかしながら、この方・法で得られるルテニウム触媒は
依然として活性が低く、特にルテニウムのごとき高価な
金属を触媒として工業的に利用する際には、よーシ高い
活性の発現が望壕れている。
鵞た出願人は以前、ルテニウム酸アルカリを還元して得
られるルテニウム触媒について特許出願したが、(%願
昭64ー/g01,Q’! )実権例で示されている触
媒はルテニウムを活性炭に担持した触媒であう、触媒運
搬時、触媒充填時などに活性炭からルテニウムメタルが
はがれて、活性の低下および寿命の低下などの問題があ
った。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明は、カルボニル化合物を水素化する際のルテニウ
ム触媒として、上記の問題点を解消し、極めて高活性、
高選択性、長寿命のルテニウム触媒を提供することを目
的とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の要旨は、カルポニル化合物をルテニウム触媒の
存在下水素化する方法において、ルテニウム触媒が無機
酸化物担体にルテニウム含有溶液を含浸し、アルカリで
水酸化物にして固定化した後、還元剤で還元して得られ
たものであることを特徴とするカルボニル化合物の水素
化方法に存する。
以下,本発明を更に詳細に説明する。
本発明において対象とするカルボニル化合物としてはア
ルデヒド類またはケトン類が挙げられる。詳しくは、置
換基を有していてもよい脂肪族アルデヒド類1たはケト
ン類で6L具体的にはアセトアルデヒド、ブロピオンア
ルデヒド、n−ブチルアルデヒド、イソプチルアルデヒ
ド,/−アセトキシーブタンークーアール、l−ヒドロ
キシープタンー亭一アールのコトキ、アセトキシ基ある
いはヒドロキシ基金置換基として有していてもよい脂肪
族アルデヒド類及びジメチルケトン,メチルエチルケト
ン,l−アセトキシーブタンーコーオン,l−ヒドロキ
シーブタン一二一オンのごときアセトキシあるいはヒド
ロキシ基を置換基として有していてもよい脂肪族ケトン
類が挙げられる。
本発明のルテニウム触媒は無機酸化物担体にルテニウム
含有溶液を含浸法で担持した後、アルカリで中和するこ
とにより担体中にルテニウムを固定化し、還元剤で還元
して得られる。
ルテニウム源であるルテニウム化合物としては、無機酸
塩、有機酸塩あるいは錯化合物が使用され,具体的には
,塩化ルテニウム、ヨウ化ルテニウム、臭化ルテニウム
、硝酸ルテニウム、i[ルテニウム,トリス(アセチル
アセトンノルテニウムなどが挙げられる。これらは水溶
液、またはメタノール等の有機溶媒溶液として用いられ
る。
担体の無機酸化物としてはアルミナ、シリカ,チタニア
、ジルコニア及びケインウ士などが挙げられる。
尚、担体の形状は反応方式に依存するので特に限定され
ないが、通常は粒状、ペレット状のものが用いられる。
ルテニウム含有溶液の担体への含浸は、担体金よく乾燥
しておき、所望の担持率となる濃度に調節したルテニウ
ム含有溶液を担体にスプレーによる含浸或は単に浸漬後
余剰のルテニウム含有溶液を液切りすることによって実
施される。
得られた触媒液を含んだ担体は乾燥され、ルテニウム化
合物を固着させる。乾燥は通常の方法で乾燥させてもよ
いが、高い活性を発揮させる為にはコニカルドンイヤー
やロータリーキルンの様に絶えず触媒に動きを与える方
法が望ましい。尚、乾燥濡度は300℃以下、好ましく
はSO−200℃の範囲が好適である。
次に5ルテニウム化合物を担持した粒金液相還元しよう
とするとルテニウムが溶出してくるので、等当量ないし
4倍当量のアルカリの担体吸水量相当溶液を振bかけ攪
拌し、乾燥することによbルテニウムを担体に固定化さ
せる。
ルテニウム化合物を担体内に固定化するアルカリ化合物
は水溶液中でアルカリ性を示すものであれば何んでも良
いが、中でもカ性ソーダ、カ性カリが好適である。
還元剤としては,メタノール、ホルムアルデヒド、ギ酸
,ヒドラジンあるいは水素化ホウ素ナトリウム等から選
ばれる少なくともl種ヲ使用する。
これらの還元剤は通常液状のもの’t−筐用する。
還元剤は、ルテニウム塩をルテニウム金属ニ還元するの
に必要な量を用いれば良く、過剰量の使用も、もちろん
可能である。通常、ルテニウム金属に対し,/−jTO
Oモル倍の範囲から適宜選択される。
得られた担体付ルテニウム触媒は次に水洗によりアルカ
リ分が除去されるが、触媒中のアルカリの濃度は40 
0 0 ppm以下に調整するのが好ましく特に!; 
0 0 ppm以下にしたものは水素化能が高いので好
筐しい。
ルテニウム触媒を用いて,カルボニル化合物を水素化し
アルコールt−製造する条件は通常良く知られている水
素化反応条件が適宜採用できなんら限定されるものでは
ないが、水素圧力は通常、常圧〜t o o kg/c
rl..よシ好ましくは/θk9/crI〜6θk9/
df7)範囲、反応m 度tri/j℃〜lSθ℃、よ
う好ましくは.2o℃〜/θO℃の範囲が好適である。
尚、反応に供するカルボニル化合物は単独或は種々の混
合物として用いられるが、アルコール、エステル、脂肪
族炭化水素などを溶媒として用いることも、もちろん可
能である。
〔実施例〕
以下に本発明を実施例によb更に詳細に説明するが、本
発明はその要旨を越えない限シ以下の実施例に限定され
るものではない。
実施例l 塩化ルテニウムの水溶液(ルテニウム金属に換算して、
.y.ost含有)=QOfに、直径コ.SljI1l
の球状シリカ担体(乾燥重量/009)を室温下で加え
た後、ロータリーエバボレータ中で室温下でl時間攪拌
し、ルテニウム塩をシリカ担体に含浸させた。含没後6
0℃水槽付ロータリーエバボレータ中で真空下蒸発乾固
し、ルテニウム塩をシリカ担体上に吸着させた。
室湛1で冷却後、シリカ担体付ルテニウム塩にカ性ンー
ダグ.62を含有する水溶液l.2θ2を室湛下加え、
室湛下でθ.S時間攪拌し、さらに60℃水槽付ロータ
リーエバボレータ中で真空下蒸発乾固させた。
室mまで冷却後、シリカ担体付水酸化ルテニウムにホル
ムアルデヒドs.sy2含有する水溶液コθ01を室温
下加え、その後AO℃の温度でl時間保持し、還元処理
を行った。P別後、得られたシリカ担体付ルテニウムを
60℃の加湛水/000f/で3回水洗処理を行った。
続いて再びP別後、触媒を空気中6θ℃で2q時間乾燥
処理を行い、完全に水分を除去して触媒IO’t’2を
得た〇 かくして得られた触媒には、ルテニウム金属が3重量係
担持されていた。
実施例λ 実施例lにおいて、塩化ルテニウムに変えて硝酸ルテニ
ウム水溶液(ルテニウム金属に換算して3.0!;f含
有)コ410f′t−用いた事以外は、実施例lと同様
にして触媒を得た。
実施例3 実施例/において、担体として直径.7 MMの球状チ
タニアを用いた事以外は実施例/と同様にして触媒を得
た。
実施例ダ 実施例lにおいて、還元剤としてホルムアルデヒドに変
えてメタノールs.g r 1含有する水溶液を用いた
事以外は実施例lと同様にして触媒を得た。
比較例l ルテニ.ウム酸ナトリウムのアルカリ水溶液(ルテニウ
ム金属に換算して、/]!!−%含有)QOOfに、予
め水洗した直径’I IAMの柱状水含み活性炭(乾燥
重量iooy)2室湛下で加えた後,10℃の温度下で
7時間保持しルテ゜ニウム塩を活性炭上に吸着させた。
P別後,活性炭付ルテニウム塩を、ホルムアルデヒドク
2を含有する水溶液3ooyに室温下加え、その後60
℃の温度で4時間保持し、還元処理を行った。r別後、
得られた活性炭付ルテニウムt−60℃の加湛水7θO
θ2でS回水洗処理を行った。続いて再びP別後、触媒
を窒素流通下、iso℃でコ時間乾燥処理を行い、完全
に水分を除去して触媒/0/ fを得た。
かくして得られた触媒には、ルテニウム金属が3重it
z担持されておル、ナトリウムの含有率は4to o 
ppmであった。
実施例/−1)及び比較例/で得られた各触媒について
触媒/コ2を連続流通反応装置の有効断面積λdのステ
ンレス製反応管に充填し、水素圧力” ”9 / cr
tt y反応温度gθ℃の条件下、/−アセトキシーブ
タンーグーアール(以下ABDと略す)4重量%、i−
ヒドロキシープタンーλ一オン(以下HMEKと略す)
コ重量多、/−アセトキシーブタン−2−オン(以下M
EKAと略す)l.5重量係及び溶媒l,ダージアセト
キシブタンよシなる混合物1/時間当b、SOt連続的
に仕込み、/000時間反応を行い%コθ時間% JO
θ時間、60θ時問およびiooo時間後反応液をサン
プリングし、反応液をガスクロマトグラフィーで分析し
、触媒の寿命を確認した。各成分の転化率を経過時間毎
にオ/表に示す。
ABD,HMEK及びMEKAは夫々対応するアルコー
ルへ選択的に転化した。尚ABD.HMEK,MEKA
の転化率は、夫々下式によシ算出した。
未反応ABD重量 ABD転化率””””” 一仕込みABDMt)x”’
未反応HMEK重童ノ。ioo HMEK転化率(wt%)=(l一仕込みHMEK重量
未反応MEKA重量 ?VEKA 転化率(wt%ノ=(l一仕込みMEKA
1ILm)×7Oθ1た、実施例/−9及び比較例lで
得られた各触媒について、触媒表面のルテニウムメタル
のハガレの程度を以下の摩耗強度試験によシもとめた。
得られた触媒lOθ2をilビーカーに取シ、空気中に
一夜放置し、gyoμmのふるいで軽くふるった後、ふ
るい上から/009をはかシとシ、バクフル/枚のつい
たコ2 k mp X / 4I71IIIwのSUS
製ドラムの摩耗強度試験器に入れ、フタをしめた後、試
験器をボールミル架台にのせ、毎分60回転で30分間
回転させる。その後、触媒fgQOμmふるい、受皿上
にとり出し、手篩いを行い、ふるい上及び受皿に残った
触媒を秤量し、またふるい上の触媒のRu含有率を分析
する。
尚摩耗強度は下式によシ算出した。
結果を半λ表に示した。
学4表 〔発明の効果〕 以上のように本発明によると活性が高く、長寿命のルテ
ニウム触綜ヲ得ることができ、カルボニル化合物の水素
化に好適に院用できる。
出 願 人 三菱化成株式会社 代 理 人  弁理士 長谷川 ほかl名

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)カルボニル化合物を触媒の存在下水素化する方法
    において、触媒として無機酸化物担体にルテニウム含有
    溶液を含浸させアルカリで固定化した後、還元剤で還元
    して得られたルテニウム触媒を使用することを特徴とす
    るカルボニル化合物の水素化方法。
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