JPH0327637B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0327637B2
JPH0327637B2 JP58015699A JP1569983A JPH0327637B2 JP H0327637 B2 JPH0327637 B2 JP H0327637B2 JP 58015699 A JP58015699 A JP 58015699A JP 1569983 A JP1569983 A JP 1569983A JP H0327637 B2 JPH0327637 B2 JP H0327637B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plating
lead frame
plate
hole
box
Prior art date
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Expired
Application number
JP58015699A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS59143085A (ja
Inventor
Takao Tokunaga
Toshinobu Banjo
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP58015699A priority Critical patent/JPS59143085A/ja
Publication of JPS59143085A publication Critical patent/JPS59143085A/ja
Publication of JPH0327637B2 publication Critical patent/JPH0327637B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/10Electrodes, e.g. composition, counter electrode
    • C25D17/12Shape or form

Landscapes

  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は、半導体装置のリードフレームを部
分的にめつき処理するための、改良されたリード
フレームの部分めつき装置に関する。
〔従来技術〕
従来、この種の装置として第1図に縦断面図で
示すものがあつた。1は半導体装置のリードフレ
ームで、表面を下にして置かれ部分的めつきが施
される。2は装置の固定板で、耐めつき液性の導
電材からなる。3はこの固定板上に固着され、ガ
ラスエポキシなどからなる耐めつき液性の絶縁材
の箱体で、中央にめつき液を通す穴部3aが設け
られている。4は箱体3上に取付けられ、シリコ
ンゴムなど耐めつき液性の絶縁材からなるマスク
で、所定範囲のめつきをさせるための案内孔4a
が形成されてあり、上記リードフレーム1が所要
のめつき部位を案内孔4aに位置決めして載せら
れる。5は箱体3内で固定板2に取付けられ、チ
タン材など耐めつき液性導電材からなるノズル、
6はこのノズルに連結された供給配管で、めつき
液がポンプ等の圧送手段により圧送される。7は
めつき液の排出配管、8はエアシリンダなどの押
圧手段により上昇・下降される押え板で、下面に
スポンジ材など軟質当て板9を接着しており、下
降されてリードフレーム1を押え付け保持する。
上記従来の装置において、リードフレーム1を
マスク4上に、所要のめつき部位がマスクの案内
孔4aになるように位置合わせして載せ、押え板
8を下降し軟質当て板9を介して押え付けてお
く。次に、ノズル5からめつき液を上方に吐出
し、マスク4の案内孔4aの範囲でリードフレー
ム1表面のめつき部位に浴びせる。めつき用直流
電源により、固定板2及びノズル5は陽極(+)
に印加され、リードフレーム1は陰極(−)に印
加されており、リードフレーム1にめつきが施さ
れる。箱体3内の落下しためつき液は排出配管7
から排出されて回収される。
上記従来の部分めつき装置では、リードフレー
ム1のめつき部位のめつき電流はマスク4の案内
孔4aの中央部位置に集中しやすく、特に、長方
形状の案内孔のあるマスク4でめつき加工を施し
た場合には、めつき電流は中央部に集中的とな
り、端部には電流があまり流れないため、付着し
ためつき厚に不同ができ、中央部が厚く端部が薄
くなつていた。
これを、第2図及び第3図により説明する。第
2図は第1図の装置により表面にめつきが施され
たリードフレーム1の概要平面図であり、10は
めつき層である。第3図Aは第2図の中央部Dを
通るA−A1線における断面のめつき厚の分布図
であり、Bは中央部Dを通るB−B1線における
断面のめつき厚の分布図である。このように、め
つき厚は中央部Dが最も厚く、端部A,A1が薄
く、角の端部B,B1が最も薄くなつている。こ
のため、角の端部が所定のめつき厚になるように
するためには、中央部は所定厚さ以上のめつき厚
にしなければならず、めつき時間が長くなり、め
つき材も多く要していた。
〔発明の概要〕
この発明は、上記従来の装置の欠点を除くため
になされたもので、箱体上とマスクとの間に補助
アノード板を設け、リードフレームのめつき部位
のめつき電流を均等化し、均一なめつき厚が得ら
れ、めつき時間を短縮し、めつき資材を節減した
リードフレームの部分めつき装置を提供すること
を目的としている。
〔発明の実施例〕
第4図はこの発明の一実施例によるリードフレ
ームの部分めつき装置の縦断面図であり、1〜
9,3a,4aは上記従来装置と同一のもので、
説明は省く。11は箱体3上にマスク4との間に
挿入された補助アノード板で、耐めつき液性の導
電材からなり、めつき電源の陽極(+)に接続さ
れており、ノズル5と同一電位にされている。こ
の補助アノード板11には、マスク4の案内孔4
aよりわずか内方に突出した孔部11aが設けら
れてある。
上記一実施例の装置において、リードフレーム
1にめつき処理をする手順は、前記従来装置の場
合と同様である。めつき処理のためめつき電源に
より通電すると、ノズル5の陽極(+)印加と共
に補助アノード板11も陽極に印加され、リード
フレーム1はめつき液を浴びめつき加工がされ
る。ノズル5から吐出されるめつき液を通りリー
ドフレーム1のめつき部位至るめつき電流の外
に、途中に設けられ、マスク4の案内孔4aから
わずか内方に突出する補助アノード板11の孔部
11aの陽極電位による、リードフレーム1のめ
つき部位へのめつき電流が流れる。これにより、
めつき電流はリードフレーム1のめつき部位の中
央に集中することなく、端部や角部にも均一に流
すことができ、析出しためつき厚さは均一にな
る。
なお、上記実施例では、補助アノード板11に
はマスク4の案内孔4aよりわずかに内方に突出
する孔部11aを設けた場合を示したが、所望の
めつき電流均一化が得られれば、局所的であつて
も、種々の形状の孔部としてよい。
また、上記実施例ではノズル5はチタン材を用
いたが、めつき液に侵されず導電性体であれば他
の材料を用いてもよい。
〔発明の効果〕
以上のように、この発明によれば、箱体上にマ
スクとの間に補助アノード板を挿入し、陽極に接
続し、リードフレームのめつき電流分布を均等化
したので、めつき厚が均一になり、従来のように
中央部が余分な厚さになることなく、めつき加工
時間が短縮され、めつき材を節減することがで
き、価格が低減される。特に、貴金属めつきの場
合、材料節減効果は大である。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の部分めつき装置の縦断面図、第
2図は第1図の装置によりめつき加工されたリー
ドフレームをめつき層を上にして示す説明図、第
3図A及びBは第2図のめつき層のA−A1線断
面及びB−B1線断面におけるめつき厚の分布図、
第4図はこの発明の一実施例による部分めつき装
置の縦断面図である。 1……リードフレーム、2……取付板、3……
箱体、3a……孔部、4……マスク、4a……案
内孔、5……ノズル、8……押え板、9……軟質
当て板、11……補助アノード板、11a……孔
部。なお、図中同一符号は同一又は相当部分を示
す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 耐めつき液性の絶縁材からなり、内方から吹
    上げられるめつき液を通す孔部が上部中央に設け
    られており固定板上に固着された箱体、耐めつき
    液性の導電材からなり、上記箱体の孔部に連通し
    所要の形状の孔部が中央に設けられていて上記箱
    体上部上に当てられ、陽極に印加される補助アノ
    ード板、耐めつき液性の絶縁材からなり、所定範
    囲のめつきをさせるための案内孔が中央に設けら
    れ上記補助アノード板上に取付けられており、上
    部にリードフレームがめつき部位を位置合わせし
    て載せられるマスク、このマスク上に載せられた
    リードフレームを、上方から軟質当て板を介し押
    圧しておく押え板、及び耐めつき液性の導電材か
    らなり、上記固定板上に取付けられ上記箱体内に
    配設されてあり、下方から圧送されるめつき液を
    上部の吐出口から上向きに上記リードフレームの
    めつき部位に浴びせるようにしており、陰極に印
    加されている上記リードフレームに対し陽極に印
    加されるノズルを備えたことを特徴とするリード
    フレームの部分めつき装置。
JP58015699A 1983-02-01 1983-02-01 リ−ドフレ−ムの部分めつき装置 Granted JPS59143085A (ja)

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JP58015699A JPS59143085A (ja) 1983-02-01 1983-02-01 リ−ドフレ−ムの部分めつき装置

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JP58015699A JPS59143085A (ja) 1983-02-01 1983-02-01 リ−ドフレ−ムの部分めつき装置

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Publication Number Publication Date
JPS59143085A JPS59143085A (ja) 1984-08-16
JPH0327637B2 true JPH0327637B2 (ja) 1991-04-16

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CN107354491B (zh) * 2017-07-03 2019-03-22 富加宜连接器(东莞)有限公司 一种均匀镀膜方法

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JPS59143085A (ja) 1984-08-16

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