JPH03277792A - 振動表面処理方法および振動表面処理装置 - Google Patents
振動表面処理方法および振動表面処理装置Info
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- JPH03277792A JPH03277792A JP2088868A JP8886890A JPH03277792A JP H03277792 A JPH03277792 A JP H03277792A JP 2088868 A JP2088868 A JP 2088868A JP 8886890 A JP8886890 A JP 8886890A JP H03277792 A JPH03277792 A JP H03277792A
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- Japan
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- support frame
- supply
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G3/00—Apparatus for cleaning or pickling metallic material
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Coating With Molten Metal (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、各種鉄綱製品の表面処理、例えば、酸洗処理
、洗浄処理、塗装処理等の表面処理方法とその装置に関
するもので、特に、コイル状に巻回された線材を酸洗液
中に浸漬して、線材の表面に発生しているスケールを酸
洗除去する所謂、酸洗処理に好適な処理方法とその装置
を提供せんとするものである。
、洗浄処理、塗装処理等の表面処理方法とその装置に関
するもので、特に、コイル状に巻回された線材を酸洗液
中に浸漬して、線材の表面に発生しているスケールを酸
洗除去する所謂、酸洗処理に好適な処理方法とその装置
を提供せんとするものである。
鉄鋼製品の表面処理、例えば、熱間圧延で製造された線
材、２次加工工程中において熱処理された線材の表面に
はスケールが発生しており、これらの線材を次工程にお
いてさらに各種の加工を行うに際しては、適当な手段で
もってスケールを除去する必要がある。以下、理解を容
易にするために、線材コイルの酸洗処理について説明を
行うこととする。この脱スケール処理法としては、機械
的方法と化学的方法とがあるが、線材の用途、線材の表
面状況、さらには、工場の立地条件等々に応じて前記処
理法が使い分けられており、−船釣にこれら線材の脱ス
ケール処理法としてバッチ式酸洗法が広く採用されてい
る。
材、２次加工工程中において熱処理された線材の表面に
はスケールが発生しており、これらの線材を次工程にお
いてさらに各種の加工を行うに際しては、適当な手段で
もってスケールを除去する必要がある。以下、理解を容
易にするために、線材コイルの酸洗処理について説明を
行うこととする。この脱スケール処理法としては、機械
的方法と化学的方法とがあるが、線材の用途、線材の表
面状況、さらには、工場の立地条件等々に応じて前記処
理法が使い分けられており、−船釣にこれら線材の脱ス
ケール処理法としてバッチ式酸洗法が広く採用されてい
る。
このバッチ式酸洗法は、線材コイルを搬送に使用される
フックに懸吊し、このフックと共に酸洗液中に暫時浸漬
し、線材表面の酸化鉄を化学的に溶解除去させる。とこ
ろで、かかるバッチ式酸洗法において、処理速度を増大
せしめ、また、均一な表面性状を得る目的のもとに、酸
洗液中における線材コイルに振動を付与し、フックに懸
吊された線材を揺振せしめ、線材同士の間隙内に酸洗液
を充分に侵入させることによって酸洗処理をする振動酸
洗法が実施されている。即ち、第１１図に示すように、
線材コイル１はフックビーム２の下部に固設されたかぎ
状フック３ （ヘアピンフックと呼ばれる）に懸吊され
、フックビーム２は走行うレーンまたはホイストによっ
て搬送され、所定部で昇降する。またフックビーム２の
頂面には加振装置４が固定され該加振装置としては、電
動モータに直結された偏心クランク型、或いは偏心おも
り型等が利用される。図は線材コイルｌが浴槽５内に浸
漬された状態を示し、該浴槽５内には酸洗液６が収容さ
れている。またフックビーム２の設置に際しては、浴槽
５の両側に立設した架台７．７に緩衝装置８．８を介し
て担持されるように設けられる。そして浸漬された線材
コイルｌは加振装置４の起動によって振動するが、その
振動は線材コイルの懸吊方向であって、該線材コイルｌ
を上下に振動して線材同土間の間隙を開いたり、狭めて
均一な処理を施すものであった。
フックに懸吊し、このフックと共に酸洗液中に暫時浸漬
し、線材表面の酸化鉄を化学的に溶解除去させる。とこ
ろで、かかるバッチ式酸洗法において、処理速度を増大
せしめ、また、均一な表面性状を得る目的のもとに、酸
洗液中における線材コイルに振動を付与し、フックに懸
吊された線材を揺振せしめ、線材同士の間隙内に酸洗液
を充分に侵入させることによって酸洗処理をする振動酸
洗法が実施されている。即ち、第１１図に示すように、
線材コイル１はフックビーム２の下部に固設されたかぎ
状フック３ （ヘアピンフックと呼ばれる）に懸吊され
、フックビーム２は走行うレーンまたはホイストによっ
て搬送され、所定部で昇降する。またフックビーム２の
頂面には加振装置４が固定され該加振装置としては、電
動モータに直結された偏心クランク型、或いは偏心おも
り型等が利用される。図は線材コイルｌが浴槽５内に浸
漬された状態を示し、該浴槽５内には酸洗液６が収容さ
れている。またフックビーム２の設置に際しては、浴槽
５の両側に立設した架台７．７に緩衝装置８．８を介し
て担持されるように設けられる。そして浸漬された線材
コイルｌは加振装置４の起動によって振動するが、その
振動は線材コイルの懸吊方向であって、該線材コイルｌ
を上下に振動して線材同土間の間隙を開いたり、狭めて
均一な処理を施すものであった。
しかしながら、かかる装置にあっては、線材コイルを振
動させる加振手段を個々のフックに備えなければならず
、この場合、 ■）生産性、作業性の向上のためフックの数を増すと、
その数だけ加振装置が必要となり、設備コストが上昇す
る。
動させる加振手段を個々のフックに備えなければならず
、この場合、 ■）生産性、作業性の向上のためフックの数を増すと、
その数だけ加振装置が必要となり、設備コストが上昇す
る。
ｒｌ）フックの重量は加振装置を含むので、大重量とな
り作業性がよくない。
り作業性がよくない。
■）フック上の加振装置は、処理時における酸液の飛散
、酸液のヒユームからの保護を必要とするが、フック自
身が移動する物であるだけに、保護構造を取りつけるた
めの構造上制約をうける。
、酸液のヒユームからの保護を必要とするが、フック自
身が移動する物であるだけに、保護構造を取りつけるた
めの構造上制約をうける。
さらに、■）処理に際しては、フック上の加振装置と動
力源とを接続する作業が必要となり、常に作業者を配置
する必要があって、生産性が悪い。
力源とを接続する作業が必要となり、常に作業者を配置
する必要があって、生産性が悪い。
等々の問題がある。
こような問題を解決するために、線材コイルに揺振運動
を与えるための加振装置を、フックを支持する支持フレ
ームに設けた表面処理装置（酸洗装置）が提案されるに
いたり（実開昭６１−６９２７６号公報）実用化されて
いる。即ち、第１２図ないし第１３図にその一例を示す
ように、浴槽１０の外側にそれぞれ枠状の架台１１を立
設し、各架台１１には支持座１２を設け、この支持座１
２にフックの振動を吸収する空気ばねあるいはスプリン
グからなる緩衝部材、図示の例では空気バネ１３を取り
付けその上に各支持フレーム１４を支持させている。前
記それぞれの支持フレーム１４の上面には、フック３を
支持フレームと一体化させるためにフック３を吸着固定
する電磁石１７が取りつけられており、また、支持フレ
ーム１４の下面中央部には、例えば、ロータリバイブレ
ータからなる加振装置１５が固定されており、また支持
フレーム１４の上面にはそれぞれフック３の進入を案内
し、かつ、所定位置に保持するためのガイド部材１６を
設けてなるもので、線材コイルの処理に際しては、フッ
ク３は線材コイル１を吊り下げた状態でガイド部材１６
により案内され、支持フレーム１４上に移動され、電磁
石１７によって吸着固定されることにより処理浴液６中
に線材コイルＩを浸漬する。次いで、この状態において
支持フレーム１４の加振装置１５を起動させてフック３
に懸吊された線材コイルに対して振動を付与し、前述す
る方法と同様に処理が行われる。
を与えるための加振装置を、フックを支持する支持フレ
ームに設けた表面処理装置（酸洗装置）が提案されるに
いたり（実開昭６１−６９２７６号公報）実用化されて
いる。即ち、第１２図ないし第１３図にその一例を示す
ように、浴槽１０の外側にそれぞれ枠状の架台１１を立
設し、各架台１１には支持座１２を設け、この支持座１
２にフックの振動を吸収する空気ばねあるいはスプリン
グからなる緩衝部材、図示の例では空気バネ１３を取り
付けその上に各支持フレーム１４を支持させている。前
記それぞれの支持フレーム１４の上面には、フック３を
支持フレームと一体化させるためにフック３を吸着固定
する電磁石１７が取りつけられており、また、支持フレ
ーム１４の下面中央部には、例えば、ロータリバイブレ
ータからなる加振装置１５が固定されており、また支持
フレーム１４の上面にはそれぞれフック３の進入を案内
し、かつ、所定位置に保持するためのガイド部材１６を
設けてなるもので、線材コイルの処理に際しては、フッ
ク３は線材コイル１を吊り下げた状態でガイド部材１６
により案内され、支持フレーム１４上に移動され、電磁
石１７によって吸着固定されることにより処理浴液６中
に線材コイルＩを浸漬する。次いで、この状態において
支持フレーム１４の加振装置１５を起動させてフック３
に懸吊された線材コイルに対して振動を付与し、前述す
る方法と同様に処理が行われる。
この装置が提案されたことにより、前記第１の装置にお
ける問題点を解消しつるものであるが、前述する何れの
型式の装置を用いて表面処理を行うに際しても、線材コ
イルを懸吊したフックを支持する支持フレームの緩衝装
置として空気バネを採用する場合（第１１図における緩
衝装置８はコイルスプリングであるが、これを空気バネ
に変更したような場合）において、新たに、次のような
問題が派生してきた。即ち、かかる装置を用いて線材コ
イルを処理するに場合において、緩衝装置としての空気
バネの設定高さを如何に設定するかであるが、−船釣に
は表面処理対象とする線材コイル群の中で平均的重量（
例えば、１〜４ Ｔｏｎの線材コイルを処理するのであ
れば２．５Ｔｏｎ）を高さ設定における基準重量として
、空気バネの高さが最適標準高さとなるように空気バネ
の内圧を設定するとともに、この設定された標準高さで
もって全線材コイルの表面処理を行っている。従って、
線材コイルを支持フレームに載置した時、空気バネの容
積が一定であるために、線材コイルの重量によって空気
バネの高さが種々に変化し、該バネ固有の最適標準高さ
（空気バネの設計上の最適高さ）よりも高くなったり、
低くなったりし、このため次の如き問題を生しる。
ける問題点を解消しつるものであるが、前述する何れの
型式の装置を用いて表面処理を行うに際しても、線材コ
イルを懸吊したフックを支持する支持フレームの緩衝装
置として空気バネを採用する場合（第１１図における緩
衝装置８はコイルスプリングであるが、これを空気バネ
に変更したような場合）において、新たに、次のような
問題が派生してきた。即ち、かかる装置を用いて線材コ
イルを処理するに場合において、緩衝装置としての空気
バネの設定高さを如何に設定するかであるが、−船釣に
は表面処理対象とする線材コイル群の中で平均的重量（
例えば、１〜４ Ｔｏｎの線材コイルを処理するのであ
れば２．５Ｔｏｎ）を高さ設定における基準重量として
、空気バネの高さが最適標準高さとなるように空気バネ
の内圧を設定するとともに、この設定された標準高さで
もって全線材コイルの表面処理を行っている。従って、
線材コイルを支持フレームに載置した時、空気バネの容
積が一定であるために、線材コイルの重量によって空気
バネの高さが種々に変化し、該バネ固有の最適標準高さ
（空気バネの設計上の最適高さ）よりも高くなったり、
低くなったりし、このため次の如き問題を生しる。
即ち、（ａ）空気バネの固有振動数が変化し、これによ
り防振率が低下し、周囲の建物等の構造物へ影響を与え
る。
り防振率が低下し、周囲の建物等の構造物へ影響を与え
る。
（ｂ）線材コイルの重量が小さいとき、該コイルが表面
処理浴より突出して完全に浸漬されず、処理が均一に行
われず、表面処理上の品質低下をもたらす。
処理浴より突出して完全に浸漬されず、処理が均一に行
われず、表面処理上の品質低下をもたらす。
（Ｃ）線材コイルの重量が小さいとき、フックの８部と
クレーンの吊具との間隔が小さくなり、フックの搬送を
自動化する時の支障の原因となる。
クレーンの吊具との間隔が小さくなり、フックの搬送を
自動化する時の支障の原因となる。
等々の問題を生じることになる。
前記（ａ）、（ｂ）の問題に対しては、線材コイル重量
の変動に対応じて作業者がチエツクし、空気バネの内圧
を調整することにより空気バネの高さを最適高さに調整
すれば前記諸問題は一応解消するのであるが、かかる作
業はその都度実施されなければならず、また時間を要す
ることから、作業を煩雑にするのみならず、前記（Ｃ）
の問題点とも関連して自動化を阻み、設備の生産性を阻
害することとなる。
の変動に対応じて作業者がチエツクし、空気バネの内圧
を調整することにより空気バネの高さを最適高さに調整
すれば前記諸問題は一応解消するのであるが、かかる作
業はその都度実施されなければならず、また時間を要す
ることから、作業を煩雑にするのみならず、前記（Ｃ）
の問題点とも関連して自動化を阻み、設備の生産性を阻
害することとなる。
本発明は前述の問題に対応せんとしてなされたものであ
って、その目的とするところは振動表面処理上の生産性
の低下を招くことなく、被処理対象としての線材コイル
の重量変化に対し、緩衝装置としての空気バネの高さを
その最適標準高さに簡単に調整可能とする振動表面処理
方法および振動表面処理装置を提供せんとするものであ
る。
って、その目的とするところは振動表面処理上の生産性
の低下を招くことなく、被処理対象としての線材コイル
の重量変化に対し、緩衝装置としての空気バネの高さを
その最適標準高さに簡単に調整可能とする振動表面処理
方法および振動表面処理装置を提供せんとするものであ
る。
また、本発明の第２の目的とするところは、被処理対象
（線材コイル）の重量変化に対して、均一な表面処理を
なすことができ、安定した品質の物を提供しうる振動表
面処理方法および振動表面処理装置を提供せんとするも
のである。
（線材コイル）の重量変化に対して、均一な表面処理を
なすことができ、安定した品質の物を提供しうる振動表
面処理方法および振動表面処理装置を提供せんとするも
のである。
さらに本発明の第３の目的は、被処理対象（線材コイル
）の重量変化に対し、緩衝装置としての空気バネの高さ
をその最適標準高さに簡単に調整可能とすることによっ
て、搬送作業の自動化を可能とし、振動表面処理設備の
生産性を向上させる得る振動表面処理方法および振動表
面処理装置を提供せんとするものである。
）の重量変化に対し、緩衝装置としての空気バネの高さ
をその最適標準高さに簡単に調整可能とすることによっ
て、搬送作業の自動化を可能とし、振動表面処理設備の
生産性を向上させる得る振動表面処理方法および振動表
面処理装置を提供せんとするものである。
上記目的を達成するために、本発明に係る振動表面処理
方法および振動表面処理装置は次のような構成を採用す
る。
方法および振動表面処理装置は次のような構成を採用す
る。
即ち、振動表面処理方法として、被処理物をフックに懸
吊し、該フックを空気バネを有する支持フレームにより
フックを支持せしめて表面処理浴に浸漬する場合に、被
処理物の重量に応じて空気バネの高さを該バネ固有の最
適標準高さに自動調整した後、フックを振動させながら
表面処理することを特徴とするものである。
吊し、該フックを空気バネを有する支持フレームにより
フックを支持せしめて表面処理浴に浸漬する場合に、被
処理物の重量に応じて空気バネの高さを該バネ固有の最
適標準高さに自動調整した後、フックを振動させながら
表面処理することを特徴とするものである。
さらに詳しくは、表面処理浴槽と、該浴槽の両側に架台
を配置し、この架台に被処理物を懸吊するフックを支承
する支持フレームを空気バネを介して支持せしめるとと
もに、前記空気バネと圧力空気源とを給排弁を介して接
続し、前記給排弁を被処理物の重量に応じて開閉して前
記支持フレームの高さが最適標準高さとなるように調整
する給排弁自動開閉手段を備えたことを特徴とする振動
表面処理装置に存するものである。
を配置し、この架台に被処理物を懸吊するフックを支承
する支持フレームを空気バネを介して支持せしめるとと
もに、前記空気バネと圧力空気源とを給排弁を介して接
続し、前記給排弁を被処理物の重量に応じて開閉して前
記支持フレームの高さが最適標準高さとなるように調整
する給排弁自動開閉手段を備えたことを特徴とする振動
表面処理装置に存するものである。
以下、第１図ないし第７図に示す実施例に基づいて本発
明の詳細な説明する。
明の詳細な説明する。
本発明を実施する振動表面処理装置の基本的な構成は、
フックを支承する支持フレームの緩衝装置として空気バ
ネを採用するものであれば、第１１図および第１２図に
示される何れの型式の表面処理装置であっても実現可能
であるが、特に、第１２図に示される型式のものが望ま
しく、第１２図に示される型式のものに基づいて以下に
説明する。
フックを支承する支持フレームの緩衝装置として空気バ
ネを採用するものであれば、第１１図および第１２図に
示される何れの型式の表面処理装置であっても実現可能
であるが、特に、第１２図に示される型式のものが望ま
しく、第１２図に示される型式のものに基づいて以下に
説明する。
即ち、処理液を収容する浴槽の両側に立設された各架台
１１には支持座１２を設け、この支持座】２にフック３
の振動を吸収する緩衝部材として空気バネ１３が固定さ
れ、該空気バネ１３の上にフック３を支承する支持フレ
ームＪ４が載置される。前記支持フレーム１４の下面中
央部には、加振装置１５が固定されている。また支持フ
レーム１４の上面にはフック３の進入を案内するガイド
部材１６と、このガイド部材１６の間で支持フレーム１
４の上面に電磁石１７が固定されている。
１１には支持座１２を設け、この支持座】２にフック３
の振動を吸収する緩衝部材として空気バネ１３が固定さ
れ、該空気バネ１３の上にフック３を支承する支持フレ
ームＪ４が載置される。前記支持フレーム１４の下面中
央部には、加振装置１５が固定されている。また支持フ
レーム１４の上面にはフック３の進入を案内するガイド
部材１６と、このガイド部材１６の間で支持フレーム１
４の上面に電磁石１７が固定されている。
そして、前記支持フレーム１４の緩衝装置である空気バ
ネＩ３には、第１図〜第２図に示すように、支持フレー
ム１４の高さを自動的に調整するための機構が設けられ
ている。空気バネ１３に圧縮空気を供給する圧力空気源
（図示を省略した。）に連通する給気配管１８および空
気バネ１３内の圧力を開放する排気配管１９の途中に回
転型の給排弁２０を介設してなり、この給排弁２０の回
転軸２５と支持フレーム１４とを第１、第２リンク部材
２１．２２により連結している。
ネＩ３には、第１図〜第２図に示すように、支持フレー
ム１４の高さを自動的に調整するための機構が設けられ
ている。空気バネ１３に圧縮空気を供給する圧力空気源
（図示を省略した。）に連通する給気配管１８および空
気バネ１３内の圧力を開放する排気配管１９の途中に回
転型の給排弁２０を介設してなり、この給排弁２０の回
転軸２５と支持フレーム１４とを第１、第２リンク部材
２１．２２により連結している。
給排弁２０の詳細構造は、第３図〜第７図に示すように
、ケーシング２３内に回転するように弁体２４を嵌挿さ
れており、弁体２４から突出する回転軸２５が第２リン
ク部材２２に連結されている。前記給排弁２０のケーシ
ング２３には、弁体２４がら空気バネ１３に至る給気配
管１８ａが接続される給気ポート２６を圧力空気源に連
通する給気配管１８が接続される給気ポート２７とが９
０″の位相差で開設され、また同様に軸方向に間隔を設
けて、ケーシング２３がら空気バネ】３に至る給気配管
１８ａから分岐された配管１８ｂが接続される排気ポー
ト２８と、大気に開放する排気配管１９が接続される排
気ポート２９とが９０６の位相差で開設されている。一
方、弁体２４の外周には、前記給気ポート２６．２７、
および、排気２８．２９を連通せしめるように、それぞ
れの位置に対応じて給気連通路３０および排気連通路３
１が約９００の範囲にわたって設けられる。それぞれの
連通路は、振動処理時において支持フレーム１３の振動
にともない、加振装置１５の振幅の範囲において第１リ
ンク部材２１が上下に昇降運動を繰り返すことになり、
この結果、第２リンク部材２２が揺動乙弁体２４が極め
て微小な回転角度で反復回転するがこの時において給気
配管系および排気配管系が連通しないように、換言すれ
ば、反復回転を許容する如く前記給気連通路３０、排気
連通路３１を削設しておくのが望ましい。
、ケーシング２３内に回転するように弁体２４を嵌挿さ
れており、弁体２４から突出する回転軸２５が第２リン
ク部材２２に連結されている。前記給排弁２０のケーシ
ング２３には、弁体２４がら空気バネ１３に至る給気配
管１８ａが接続される給気ポート２６を圧力空気源に連
通する給気配管１８が接続される給気ポート２７とが９
０″の位相差で開設され、また同様に軸方向に間隔を設
けて、ケーシング２３がら空気バネ】３に至る給気配管
１８ａから分岐された配管１８ｂが接続される排気ポー
ト２８と、大気に開放する排気配管１９が接続される排
気ポート２９とが９０６の位相差で開設されている。一
方、弁体２４の外周には、前記給気ポート２６．２７、
および、排気２８．２９を連通せしめるように、それぞ
れの位置に対応じて給気連通路３０および排気連通路３
１が約９００の範囲にわたって設けられる。それぞれの
連通路は、振動処理時において支持フレーム１３の振動
にともない、加振装置１５の振幅の範囲において第１リ
ンク部材２１が上下に昇降運動を繰り返すことになり、
この結果、第２リンク部材２２が揺動乙弁体２４が極め
て微小な回転角度で反復回転するがこの時において給気
配管系および排気配管系が連通しないように、換言すれ
ば、反復回転を許容する如く前記給気連通路３０、排気
連通路３１を削設しておくのが望ましい。
振動表面処理の実施に際しては、空気バネの高さが最適
標準高さとなるように、空気バネ１３に圧縮空気を供給
し、該バネ１３の高さ・Ｈを最適標準高さに設定すると
ともに、給排弁２０における弁体２４の位置を第６図お
よび第８図に示す中立にュートラル）状態に設定してお
く。
標準高さとなるように、空気バネ１３に圧縮空気を供給
し、該バネ１３の高さ・Ｈを最適標準高さに設定すると
ともに、給排弁２０における弁体２４の位置を第６図お
よび第８図に示す中立にュートラル）状態に設定してお
く。
この様な状態において、今、表面処理対象とする線材コ
イル群の中で最大重量のものを処理する場合について説
明すると、線材コイル１を懸吊してなるフック３を支持
フレーム１３に載置し、電磁石１７を励磁してフック３
を該指示フレーム１３に吸着固定し、指示フレーム１３
と一体化させ、線材コイルｌを浴槽ＩＯ内の表面処理浴
６に浸漬する。この時、線材コイル１の重量（フック３
の重量も含む総重量）によって支持フレームＩ３が下降
するとこの支持フレーム１３に取りつけられた第１リン
ク部材２１が同時に下降し、これにより第２リンク部材
２２が揺動することになり、第２リンク部材２２に連結
された給排弁２０の回転軸２５が回転し、第７図に示す
ように、弁体２４に設けられた給気連通路３０が給気ポ
ート２７と２６とを連通ずる事になり、空気バネ１３に
圧力空気が供給され、空気バネ１３の高さは徐々に回復
（上昇）し、併せて、弁体２４も支持フレーム１４の上
昇にともなって復帰回転を始め、空気バネ１３が初期に
設定された線材コイル１の重量に応じた最適標準高さに
到達した時点において給気ポート２７．２６を閉鎖する
ことになり、空気バネに対する圧力空気の供給は遮断さ
れ、空気バネ１３における内圧と、線材コイルｌの重量
とがバランスした状態において線材コイルｌは最適な浸
漬状態となる。
イル群の中で最大重量のものを処理する場合について説
明すると、線材コイル１を懸吊してなるフック３を支持
フレーム１３に載置し、電磁石１７を励磁してフック３
を該指示フレーム１３に吸着固定し、指示フレーム１３
と一体化させ、線材コイルｌを浴槽ＩＯ内の表面処理浴
６に浸漬する。この時、線材コイル１の重量（フック３
の重量も含む総重量）によって支持フレームＩ３が下降
するとこの支持フレーム１３に取りつけられた第１リン
ク部材２１が同時に下降し、これにより第２リンク部材
２２が揺動することになり、第２リンク部材２２に連結
された給排弁２０の回転軸２５が回転し、第７図に示す
ように、弁体２４に設けられた給気連通路３０が給気ポ
ート２７と２６とを連通ずる事になり、空気バネ１３に
圧力空気が供給され、空気バネ１３の高さは徐々に回復
（上昇）し、併せて、弁体２４も支持フレーム１４の上
昇にともなって復帰回転を始め、空気バネ１３が初期に
設定された線材コイル１の重量に応じた最適標準高さに
到達した時点において給気ポート２７．２６を閉鎖する
ことになり、空気バネに対する圧力空気の供給は遮断さ
れ、空気バネ１３における内圧と、線材コイルｌの重量
とがバランスした状態において線材コイルｌは最適な浸
漬状態となる。
その後、加振装置１５を起動し、フック３を振動させ、
線材コイルｌを揺振させながら表面処理を行う。この時
、フック３は電磁石１７により支持フレーム１４に強固
に吸着され、これと一体化された剛性的な結合がなされ
、円滑に振動し、表面処理が行われる。
線材コイルｌを揺振させながら表面処理を行う。この時
、フック３は電磁石１７により支持フレーム１４に強固
に吸着され、これと一体化された剛性的な結合がなされ
、円滑に振動し、表面処理が行われる。
処理後において、線材コイル１を搬出すると、支持フレ
ーム１４から荷重が取り除かれるために空気バネ１３が
その内圧によつ上昇を始める。この時、前述の作用とは
逆に第１リンク部材２１が上昇し、第２リンク部材２２
を引き上げることにより弁体２４を回動し、この結果第
９図に示すように、弁体２４に設けられた排気連通路３
１が排気ポート２８．２９を連通する事になり、空気バ
ネ１３の内圧は分岐配管＋８ｂを通り、さらに、排気連
通路３１を経て排気配管１９から大気に放出され、徐々
に初期の設定高さに向かって復帰することになり、この
高さの変動に従って弁体２４は回動し、初期の設定高さ
に到達すると前記排気連通路３１による各ボート２Ｂ、
２９の連通を遮断し、初期の設定高さにに復帰する。
ーム１４から荷重が取り除かれるために空気バネ１３が
その内圧によつ上昇を始める。この時、前述の作用とは
逆に第１リンク部材２１が上昇し、第２リンク部材２２
を引き上げることにより弁体２４を回動し、この結果第
９図に示すように、弁体２４に設けられた排気連通路３
１が排気ポート２８．２９を連通する事になり、空気バ
ネ１３の内圧は分岐配管＋８ｂを通り、さらに、排気連
通路３１を経て排気配管１９から大気に放出され、徐々
に初期の設定高さに向かって復帰することになり、この
高さの変動に従って弁体２４は回動し、初期の設定高さ
に到達すると前記排気連通路３１による各ボート２Ｂ、
２９の連通を遮断し、初期の設定高さにに復帰する。
尚、前述の説明においては線材コイル重量が最大の場合
について説明したものであるが、線材コイルの重量如何
に関わらず支持フレーム１４、換言すれば、緩衝装置と
しての空気バネ１３の最適高さにたいする自動調整は前
述の作用の順序によりなされることが理解されるであろ
う。
について説明したものであるが、線材コイルの重量如何
に関わらず支持フレーム１４、換言すれば、緩衝装置と
しての空気バネ１３の最適高さにたいする自動調整は前
述の作用の順序によりなされることが理解されるであろ
う。
第８図以降に示す実施例は、支持フレームの自動高さ調
整機構における各種の変形例を示すもので、第８図は一
体型の給排弁に換えて 給気配管系、および、排気配管
系に独立の制御弁４０．４Ｉを使用し、また、高さ調整
機構として、上限、下限にリミットスイッチ４２．４３
を設け、一方、支持フレーム１４に前記リミットスイッ
チ４２．４３を蹴るストライカ−４４を設けたもので、
下限のリミットスイッチ４３が作動すると給気配管１８
に設けた制御弁４０が作動し、また、上限のリミットス
イッチ４２が作動すると排気配管１９に設けた制御弁４
１が作動するように構成したもので、その支持フレーム
の自動高さ調整作動は基本的に前述の実施例におけるそ
れと同一である。
整機構における各種の変形例を示すもので、第８図は一
体型の給排弁に換えて 給気配管系、および、排気配管
系に独立の制御弁４０．４Ｉを使用し、また、高さ調整
機構として、上限、下限にリミットスイッチ４２．４３
を設け、一方、支持フレーム１４に前記リミットスイッ
チ４２．４３を蹴るストライカ−４４を設けたもので、
下限のリミットスイッチ４３が作動すると給気配管１８
に設けた制御弁４０が作動し、また、上限のリミットス
イッチ４２が作動すると排気配管１９に設けた制御弁４
１が作動するように構成したもので、その支持フレーム
の自動高さ調整作動は基本的に前述の実施例におけるそ
れと同一である。
また、第９図に示される実施例においては、高さ調整機
構に光学的な検出手段と、これに基づき制御弁の作動を
行わせるもので、架台７に投光器４５と受光器４６とを
設け、この間に位置するように遮光板４７を支持フレー
ム１４に設けたものである。
構に光学的な検出手段と、これに基づき制御弁の作動を
行わせるもので、架台７に投光器４５と受光器４６とを
設け、この間に位置するように遮光板４７を支持フレー
ム１４に設けたものである。
さらにまた、第１０図に示すものは、支持フレーム１４
のフック３の載置位置にロードセル５０を配置り該ロー
ドセル５０により線材コイル１の重量を計測し、この検
出値を関数発生器５１に入力し、制御弁４０．４１の開
閉を制御するものである。
のフック３の載置位置にロードセル５０を配置り該ロー
ドセル５０により線材コイル１の重量を計測し、この検
出値を関数発生器５１に入力し、制御弁４０．４１の開
閉を制御するものである。
本発明によれば、振動表面処理を実施するにあたり、支
持フレームの高さを自動的に調整することにより、被処
理物の重量が種々に変化した場合にあっても被処理物の
処理浴中における浸漬深さを自動的に調整することが可
能であり、したがって、表面品質の低下を防止でき、ま
た、振動表面処理を実施するに際し、緩衝装置の固有振
動数を最適化ならしめ、建屋等周囲に対する振動の影響
を極力防止するとともに、搬送の自動化を可能とする等
産業上きわめて大なる効果を奏するものである。
持フレームの高さを自動的に調整することにより、被処
理物の重量が種々に変化した場合にあっても被処理物の
処理浴中における浸漬深さを自動的に調整することが可
能であり、したがって、表面品質の低下を防止でき、ま
た、振動表面処理を実施するに際し、緩衝装置の固有振
動数を最適化ならしめ、建屋等周囲に対する振動の影響
を極力防止するとともに、搬送の自動化を可能とする等
産業上きわめて大なる効果を奏するものである。
第１図は本発明に係る振動表面処理方法を実施する表面
処理装置における緩衝装置部を示す概略正面図、第２図
は同側面図、第３図は給排弁を示す部分断正面図、第４
図は第３図Ａ−Ａ線断面図、第５図は同作動状態を示す
断面図、第６図は第３図Ｂ−Ｂ線断面図、第７図は同作
動状態を示す断面図、第８図〜第１０図は緩衝装置部に
おける他の変形実施例をしめず概略正面図、第１Ｊ図は
従来における振動表面処理方法を実施する処理装置の概
略正面図、第１２図は従来における他の実施例を示す概
略正面図、第１３図は第１２図の同部分拡大側面図であ
る。 図において、１０は浴槽、１１は架台、１３は空気バネ
、１４は支持フレーム、１５は加振装置、１７は電磁石
、 ２０は給排弁、 ２１は第 リンク部材、 ２２は第２ リンク部材、 ２４は弁体、 ３０． ３１は連通路である。
処理装置における緩衝装置部を示す概略正面図、第２図
は同側面図、第３図は給排弁を示す部分断正面図、第４
図は第３図Ａ−Ａ線断面図、第５図は同作動状態を示す
断面図、第６図は第３図Ｂ−Ｂ線断面図、第７図は同作
動状態を示す断面図、第８図〜第１０図は緩衝装置部に
おける他の変形実施例をしめず概略正面図、第１Ｊ図は
従来における振動表面処理方法を実施する処理装置の概
略正面図、第１２図は従来における他の実施例を示す概
略正面図、第１３図は第１２図の同部分拡大側面図であ
る。 図において、１０は浴槽、１１は架台、１３は空気バネ
、１４は支持フレーム、１５は加振装置、１７は電磁石
、 ２０は給排弁、 ２１は第 リンク部材、 ２２は第２ リンク部材、 ２４は弁体、 ３０． ３１は連通路である。
Claims (5)
- （１）被処理物をフックに懸吊し、空気バネを有する支
持フレームにより前記フックを支持せしめて表面処理浴
に浸漬すると共に、次いで被処理物の重量に応じて空気
バネの高さを最適標準高さに自動調整した後、フックを
振動させながら表面処理することを特徴とする振動表面
処理方法。 - （２）表面処理浴槽と、該浴槽の両側に架台を配置し、
この架台に被処理物を懸架するフックを支承する支持フ
レームを空気バネを介して支持せしめ、前記空気バネと
圧力空気源とを給排弁を介して接続し、前記給排弁を被
処理物の重量に応じて開閉して前記支持フレームの高さ
が最適標準高さとなるように調整する給排弁自動開閉手
段を備えたことを特徴とする振動表面処理装置。 - （３）表面処理浴槽と、該浴槽の両側に架台を配置し、
この架台に被処理物を懸架するフックを支承する支持フ
レームを空気バネを介して支持せしめ、支持フレームに
前記フックを揺振させる加振手段を取り付けるとともに
、支持フレームの上面にはフックのガイド部材と、当該
ガイド部材に挾まれた支持フレームの上面にフックを吸
着固定する電磁石とを設けるほか、前記空気バネと圧力
空気源とを給排弁を介して接続し、前記給排弁を被処理
物の重量に応じて開閉して前記支持フレームの高さが最
適標準高さとなるように調整する給排弁自動開閉手段を
備えたことを特徴とする振動表面処理装置。 - （４）給排弁自動開閉手段が支持フレームと給排弁とを
連結するリンクレバー構成で特許請求の範囲第２項、第
３項記載の振動表面処理装置。 - （５）給排弁自動開閉手段が支持フレームの高さを検出
する手段と、検出された高さと最適標準高さとを比較し
その差に応じて給排弁の開度を制御する給排弁自動開閉
手段とを備えた請求の範囲第２項、第３項記載の振動表
面処理装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2-24133 | 1990-02-01 | ||
| JP2413390 | 1990-02-01 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03277792A true JPH03277792A (ja) | 1991-12-09 |
| JPH0573832B2 JPH0573832B2 (ja) | 1993-10-15 |
Family
ID=12129813
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2088868A Granted JPH03277792A (ja) | 1990-02-01 | 1990-04-02 | 振動表面処理方法および振動表面処理装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5035752A (ja) |
| JP (1) | JPH03277792A (ja) |
| CA (1) | CA2019326C (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012255181A (ja) * | 2011-06-07 | 2012-12-27 | Isuzu Seisakusho:Kk | 振動装置および振動装置の運転方法 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4308552A1 (de) * | 1993-03-17 | 1994-09-22 | Branson Ultraschall | Vorrichtung zum Reinigen und/oder Oberflächenbehandeln von Werkstücken |
| US6558620B1 (en) | 2000-02-07 | 2003-05-06 | Steris Inc. | Liquid cleaning and sterilization method |
| US6582654B1 (en) | 2000-02-07 | 2003-06-24 | Steris Inc. | Fluid spray system for cleaning and sterilizing medical devices supported on a rack |
| US6585943B1 (en) | 2000-02-07 | 2003-07-01 | Steris Inc. | Liquid cleaning and sterilization system |
| US6383505B1 (en) | 2000-11-09 | 2002-05-07 | Steris Inc | Fast-acting antimicrobial lotion with enhanced efficacy |
| US20060248778A1 (en) * | 2005-05-03 | 2006-11-09 | Todd Ward | Apparatus for jigging fishing pole |
| US10022189B2 (en) | 2013-12-16 | 2018-07-17 | Stryker Sustainability Solutions, Inc. | Apparatus and method for cleaning an instrument |
| TWI867691B (zh) * | 2023-08-17 | 2024-12-21 | 聚亨企業股份有限公司 | 線材除鏽設備之進料裝置 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3246905A (en) * | 1963-04-11 | 1966-04-19 | Frank S Morgan | Apparatus and method for supporting variable static loads by fluid pressure spring-shock absorber means including thermoelectrically controlled vapor pressure varying means and lock-out |
| US4468739A (en) * | 1981-11-17 | 1984-08-28 | Woods Lonnie K | Computer optimized adaptive suspension system having combined shock absorber/air spring unit |
| JPS6169276A (ja) * | 1984-09-12 | 1986-04-09 | Fujitsu Ltd | 固体撮像装置の駆動方法 |
| IT1209599B (it) * | 1984-11-15 | 1989-08-30 | Siette Spa | Sistema di rilevamento di livello per veicoli. |
| US4677263A (en) * | 1985-07-18 | 1987-06-30 | C&K Venture Income I-Coast | Air spring position switch |
| US4712777A (en) * | 1986-08-25 | 1987-12-15 | Lord Corporation | Fluid filled vibration isolator having precisely adjustable dynamic operating characteristics |
| US4826141A (en) * | 1987-04-20 | 1989-05-02 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Electronic controlled air suspension system |
| JPH0625365Y2 (ja) * | 1987-06-12 | 1994-07-06 | 株式会社ユニシアジェックス | 車両用アンチスカット制御装置 |
| US4798369A (en) * | 1987-11-03 | 1989-01-17 | The Firestone Tire & Rubber Company | Ultrasonic air spring system |
-
1990
- 1990-04-02 JP JP2088868A patent/JPH03277792A/ja active Granted
- 1990-06-19 CA CA002019326A patent/CA2019326C/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-06-20 US US07/540,700 patent/US5035752A/en not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-05-07 US US07/696,702 patent/US5119850A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012255181A (ja) * | 2011-06-07 | 2012-12-27 | Isuzu Seisakusho:Kk | 振動装置および振動装置の運転方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5119850A (en) | 1992-06-09 |
| CA2019326C (en) | 1994-09-27 |
| US5035752A (en) | 1991-07-30 |
| JPH0573832B2 (ja) | 1993-10-15 |
| CA2019326A1 (en) | 1991-08-01 |
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