JPH03278082A - Photosensitive material for hologram recording - Google Patents

Photosensitive material for hologram recording

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JPH03278082A
JPH03278082A JP7849090A JP7849090A JPH03278082A JP H03278082 A JPH03278082 A JP H03278082A JP 7849090 A JP7849090 A JP 7849090A JP 7849090 A JP7849090 A JP 7849090A JP H03278082 A JPH03278082 A JP H03278082A
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JP
Japan
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hologram recording
photosensitive material
formula
group
poly
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Application number
JP7849090A
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Japanese (ja)
Inventor
Kunihiro Ichimura
市村 国宏
Tsugio Yamaoka
亜夫 山岡
Kenichi Koseki
小関 健一
Shuichi Ikui
生井 秀一
Madoka Yasuike
安池 円
Yasumasa Toba
泰正 鳥羽
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Artience Co Ltd
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
Toyo Ink Mfg Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide the photosensitive material which has excellent chemical stability, high resolution, high diffraction efficiency, etc., and has an excellent photosensitive characteristic to long-wavelength laser beams by combining poly-N-vinyl carbazole, a compd. having polymerizable ethylenic unsatd. bonds and a specific photopolymn. initiator. CONSTITUTION:The photopolymn. initiator, consisting of the combination of the tetrabenzoporphyrins expressed by formula I or metal complex thereof and an electron-accepting radical generator, the poly-N-vinyl carbazole as a supporting material having a refractive index as high as 1.68 and the compd. having at least >=1 pieces of the polymerizable ethylenic unsatd. bonds are combined. In the formula I, R denotes a hydrogen atom, alkyl group or a residual arom. group which may have a substituent; the respective benzene rings may have an alkyl group or alkoxy group as a substituent. The photosensitive material for hologram recording which has the excellent chemical stability, the high resolution and the high diffraction efficiency based on high-refractive index modulation and has the excellent photosensitive material to the long- wavelength laser beams of >=600nm is obtd. in this way.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は新規なホログラム記録用感光材料に関する。さ
らに詳しくは、600nm以上の長波長レーザー光、例
えばHe−Neレーザー(633nm) 、Krレーザ
ー(647nmおよび676nm) 、ルビーレーザー
(694nm)等のレーザー光によるホログラム記録に
好適なホログラム記録用感光材料に間する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a novel photosensitive material for hologram recording. More specifically, it is a photosensitive material for hologram recording suitable for hologram recording using a long wavelength laser beam of 600 nm or more, such as a He-Ne laser (633 nm), a Kr laser (647 nm and 676 nm), or a ruby laser (694 nm). Pause.

[従来の技術] 従来長波長光用ホログラム記録材料としては1真に用い
られる銀塩乳剤、メチレンブルー等の含素で分光増感し
た重クロム酸−ゼラチン系の感黄材料が一般に使用され
てきた。しかしこれらのホログラム記録用感光材料は、
いずれも感光板の製作、記録後の処理等に煩雑な湿式処
理を必要とする、あるいは耐環境特性、例えば耐湿性、
耐候性に劣るという問題点を有していた。
[Prior Art] Traditionally, as hologram recording materials for long wavelength light, yellow-sensitive dichromate-gelatin-based materials spectrally sensitized with a silver salt emulsion, methylene blue, etc. have been generally used. . However, these photosensitive materials for hologram recording,
All of them require complicated wet processing for manufacturing photosensitive plates, post-recording processing, etc., or have environmental resistance properties such as moisture resistance, etc.
It had the problem of poor weather resistance.

このような問題点を解決するなめ、光重合を利用した乾
式定着可能な金属アクリレート、アクリルアミド、メチ
レンブルー、p−)ルエンスルホン酸ナトリウム、p−
ニトロフェニル酢酸ナトリウムからなる光重合性記録材
料が提案された[「フォトグラフィック・アンド・サイ
エンチフィツク・エンジニアリング(Photogr、
SciEng、)」第12巻第177ページ(1968
年)、および「アプライドフィジックス・レター(Ap
pl、Phys、Lett、)J第14巻第5号、第1
59ページ(1969年)、シかしこの記録材料は、材
料保存中に暗反応が進行するため材料の特性が劣化する
という問題点を有しているため、実用性に乏しい。
To solve these problems, metal acrylate, acrylamide, methylene blue, p-) sodium luenesulfonate, p-
A photopolymerizable recording material consisting of sodium nitrophenylacetate was proposed [Photogr.
SciEng, )” Volume 12, Page 177 (1968
), and Applied Physics Letters (Ap.
pl, Phys, Lett,) J Vol. 14 No. 5, No. 1
Page 59 (1969), However, this recording material has a problem in that the properties of the material deteriorate due to the progress of dark reactions during storage, so it is of little practical use.

耐環境特性に優れかつ高解像度、高回折効率等のホログ
ラム記録用感光材料の有すべき特性を備えた材料、例え
ばポリ−N−ビニルカルバゾールと環状シス−α−ジカ
ルボニル化合物と増感剤からなるホログラム記録材f1
(特開昭第60−45283号公報)、ポリ−N−ビニ
ルカルバゾールと1.4.4.5.6.7.7−ヘキサ
クロロ−5−ノルボルネン−無水−2,3−ジカルボン
酸と色素からなるホログラム記録材料(特開昭第60−
227280号公報)・、ポリ−N−ビニルカルバゾー
ルとフリルとからなるホログラム記録材料(特開昭第6
0−227281号公報)、ポリ−N−ビニルカルバゾ
ールと2,3−ボルナンジオンとチオフラビンとからな
るホログラム記録材料(特開昭第60−260080号
公報)、ポリ−N−ビニルカルバゾールとチオフラビン
Tならびにヨードホルムとからなるホログラム記録材料
(特開昭第62−123489号公報)等が提案された
Materials with excellent environmental resistance, high resolution, high diffraction efficiency, and other properties that a photosensitive material for hologram recording should have, such as poly-N-vinylcarbazole, a cyclic cis-α-dicarbonyl compound, and a sensitizer. hologram recording material f1
(Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-45283), from poly-N-vinylcarbazole, 1.4.4.5.6.7.7-hexachloro-5-norbornene-anhydride-2,3-dicarboxylic acid, and a dye. Hologram recording material
227280), hologram recording material consisting of poly-N-vinylcarbazole and frill (Japanese Patent Laid-Open No. 6
0-227281), hologram recording material consisting of poly-N-vinylcarbazole, 2,3-bornanedione, and thioflavin (JP-A-60-260080), poly-N-vinylcarbazole, thioflavin T, and iodoform A hologram recording material (Japanese Unexamined Patent Publication No. 62-123489) consisting of the following has been proposed.

これらのホログラム記録用感光材料は、ポリ−N−ビニ
ルカルバゾールを主剤としたフォトポリマー系であるた
め、化学的に安定でかつ高い解像度、耐湿、耐熱、耐候
性を有しているものの、He−Neレーザー、Krレー
ザー、ルビーレーザー等の600nm以上の赤色光領域
に発振波長を有するレーザー光源に対しては全く感光し
ないという重要な問題点を有している。
These photosensitive materials for hologram recording are photopolymer-based materials based on poly-N-vinylcarbazole, so they are chemically stable and have high resolution, moisture resistance, heat resistance, and weather resistance. It has an important problem that it is not sensitive at all to laser light sources having an oscillation wavelength in the red light region of 600 nm or more, such as Ne laser, Kr laser, and ruby laser.

600nm以上の長波長レーザーにより光硬化できる材
料として、重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化
合物、テトラベンゾポルフィリン誘導体および電子受容
性ラジカル発生剤からなる光硬化性樹脂組成物<fft
N昭第63−243102号公報)が提案された。しが
しこの光硬化性樹脂組成物は、ホログラム記録において
重要な屈折率差を充分には有しないなめ、ホログラム記
録用としての性能は満足出来るものではなかった。
A photocurable resin composition consisting of a compound having a polymerizable ethylenically unsaturated bond, a tetrabenzoporphyrin derivative, and an electron-accepting radical generator as a material that can be photocured with a long wavelength laser of 600 nm or more.
No. 63-243102) was proposed. However, this photocurable resin composition did not have a sufficient refractive index difference which is important in hologram recording, and therefore its performance for hologram recording was not satisfactory.

[発明が解決しようとする課題] 本発明は、化学的安定性例えば耐環境特性に優れ、高解
像度、高回折効率等に優れているばかりではなく、60
0nm以上の長波長レーザー光に対して優れた感光特性
を有するホログラム記録用感光材料を提供する。
[Problems to be Solved by the Invention] The present invention not only has excellent chemical stability, such as environmental resistance, high resolution, and high diffraction efficiency, but also has 60%
Provided is a photosensitive material for hologram recording that has excellent photosensitivity to long wavelength laser light of 0 nm or more.

[課題を解決するための手段] 本発明は、ポリ−N−ビニルカルバゾール、重合可能な
エチレン性不飽和結合を少なくとも1個以上有する化合
物および下記光重合間始剤式(I) (式中、Rは水素原子、アルキル基または置換基を有し
てよい芳香族性残基を表し、各ベンゼン環は置換基とし
てアルキル基またはアルコキシ基を有してもよい、式中
の各Rはそれぞれ独立に水素原子、アルキル基または芳
香族性残基であることができ、かつ芳香族性残基の置換
基も各Rについてそれぞれ独立であることができる)の
テトラベンゾポルフィリン類またはその金属錯体と電子
受容性ラジカル発生剤との組合わせ、とからなることを
特徴とするホログラム記録用感光材料を提供する。
[Means for Solving the Problems] The present invention provides poly-N-vinylcarbazole, a compound having at least one polymerizable ethylenically unsaturated bond, and the following photopolymerization initiator formula (I) (in the formula, R represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aromatic residue that may have a substituent; each benzene ring may have an alkyl group or an alkoxy group as a substituent; each R in the formula is independently tetrabenzoporphyrins (which can be a hydrogen atom, an alkyl group, or an aromatic residue, and the substituents of the aromatic residues can also be independent for each R) or metal complexes thereof and electrons. Provided is a photosensitive material for hologram recording, which is characterized by comprising a combination of a receptive radical generator and a receptive radical generator.

本発明は、特定構造のテトラベンゾポルフィリン類ある
いはその金属錯体と電子受容性ラジカル発生剤との組合
わせからなる光重合開始剤、屈折率1.68と大きい支
持物質としてのポリ−N−ビニルカルバゾールおよび重
合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1個以上有
する化合物を組合わせることにより、化学的安定性、高
解像度、高い屈折率変調に基づく高回折効率を有すると
共に、600nm以上の長波長レーザー光に対して優れ
た感光特性を有するホログラム記録用感光材料が得られ
ることを見いだし、この知見に基づき完成された。
The present invention provides a photopolymerization initiator consisting of a combination of tetrabenzoporphyrins with a specific structure or a metal complex thereof and an electron-accepting radical generator, and poly-N-vinylcarbazole as a supporting material with a large refractive index of 1.68. By combining a compound having at least one polymerizable ethylenically unsaturated bond, it has chemical stability, high resolution, high diffraction efficiency based on high refractive index modulation, and a long wavelength laser beam of 600 nm or more. It was discovered that a photosensitive material for hologram recording having excellent photosensitive properties could be obtained, and the work was completed based on this knowledge.

本発明で用いるポリ−N−ビニルカルバゾールは、ハロ
ゲン、アルキル基、アミノ基、ニトロ基、チオシアノ基
等により置換されたものであってもよい。
The poly-N-vinylcarbazole used in the present invention may be substituted with a halogen, an alkyl group, an amino group, a nitro group, a thiocyano group, or the like.

本発明で用いる重合可能なエチレン性不飽和結合を少な
くとも1個以上有する化合物としては、1官能であるビ
ニルモノマーの他にオリゴマーを含むものであり、さら
には高分子量化合物であってもよく、またこれらの混合
物であってもよい。
The compound having at least one polymerizable ethylenically unsaturated bond used in the present invention includes an oligomer in addition to a monofunctional vinyl monomer, and may also be a high molecular weight compound. A mixture of these may be used.

次にこれらの化合物を例示する。Next, these compounds will be illustrated.

アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、
アクリルアミド、メタクリルアミド、ジアセトンアクリ
ルアミド、2−ヒドロキシエチルアクリレート、N−ビ
ニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール等の高沸点ビ
ニルモノマー、エチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、ポリエチレングリコール、1.3−プロパンジオ
ール、1.4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオ
ール、1.6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、ポリプロピレングリコール、トリメチロールプロ
パン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール
、ソルビトール、マンニトール等のジあるいはポリ(メ
タ)アクリルエステル、インシアヌル酸のエチレンオキ
シド変性(メタ)アクリレートさらには、(メタ)アク
リル化されたエポキシ樹脂、ポリエステルアクリレート
オリゴマー (メタ)アクリル化つレタンオリゴマーア
クロレイン化ポリ゛ビニルアルコール等、これらの化合
物は適宜混合して使用してもよい。
Acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid,
High boiling point vinyl monomers such as acrylamide, methacrylamide, diacetone acrylamide, 2-hydroxyethyl acrylate, N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, ethylene glycol, diethylene glycol, polyethylene glycol, 1.3-propanediol, 1.4- Di- or poly(meth)acrylic esters such as butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, polypropylene glycol, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, sorbitol, mannitol, incyanur Ethylene oxide-modified acid (meth)acrylates, (meth)acrylated epoxy resins, polyester acrylate oligomers, (meth)acrylated urethane oligomers, acroleinated polyvinyl alcohol, etc. These compounds can be mixed as appropriate and used. It's okay.

本発明で用いる前記式(I)のテトラベンゾポルフィリ
ン類におけるRは、水素原子、アルキル基家たはフェニ
ル基、ナフチル基、ピリジル基等の芳香族性残基を示す
、芳香族性残基は、置換基を有してもよい、この置換基
としては、ハロゲン原子、炭素数1〜5の低級アルキル
基または低級アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、
カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、スルホン基等を例
示できる。これらの置換基は、それぞれ独立に各ベンゼ
ン環に1個または2個以上導入されていてもよい。
R in the tetrabenzoporphyrins of formula (I) used in the present invention represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aromatic residue such as a phenyl group, a naphthyl group, or a pyridyl group. , which may have a substituent, such as a halogen atom, a lower alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a lower alkoxy group, an alkoxycarbonyl group,
Examples include a carboxy group, nitro group, amino group, and sulfone group. One or more of these substituents may be independently introduced into each benzene ring.

テトラベンゾポルフィリン類を次に具体的に例示する。Specific examples of tetrabenzoporphyrins are given below.

無置換のテトラベンゾポルフィリン、メン位の少なくと
も1つがフェニル基で置換されたメソ−フェニルテトラ
ベンゾポルフィリン、メン位の少なくとも1つがナフチ
ル基で置換されたメソ−ナフチルテトラベンゾポルフィ
リン、メン位の少なくとも1つがピリジル基で置換され
たメソ−ピリジルテトラベンゾポルフィリン、2.9,
16゜23−テトラ−t−ブチルテトラベンゾポルフィ
リン、1,4,8.11,15.18,22.25−オ
クタメチルテトラベンゾポルフィリン、2゜9.16.
23−テトラメトキシテトラベンゾポルフィリン、2.
3,9,10.16.17,23.24−オクタメトキ
シテトラベンゾポルフィリン、メソ位の少なくとも1つ
がトリル基で置換されたメソ−トリルテトラベンゾポル
フィリン、メソ位の少なくとも1つがアニシル基で置換
されたメソーアニシルテトラベンゾポルフィリン等。
Unsubstituted tetrabenzoporphyrin, meso-phenyltetrabenzoporphyrin in which at least one men's position is substituted with a phenyl group, meso-naphthyltetrabenzoporphyrin in which at least one men's position is substituted with a naphthyl group, at least one men's position meso-pyridyltetrabenzoporphyrin substituted with a pyridyl group, 2.9,
16゜23-tetra-t-butyltetrabenzoporphyrin, 1,4,8.11,15.18,22.25-octamethyltetrabenzoporphyrin, 2゜9.16.
23-tetramethoxytetrabenzoporphyrin, 2.
3,9,10.16.17,23.24-octamethoxytetrabenzoporphyrin, meso-tolyltetrabenzoporphyrin substituted with tolyl group at least one meso position, meso-tolyltetrabenzoporphyrin substituted with anisyl group at least one meso position mesoanisyltetrabenzoporphyrin, etc.

テトラベンゾポルフィリン類の金属錯体としては、前記
テトラベンゾポルフィリン類とMg、Zn、Cd、Pd
、Pb、Ni、Co、Cu等の三価の金属原子との錯体
、ヒドロキシル基、ハロゲン基等を垂直方向(式1の構
造式において紙面の裏表方向)に配位したAI、In、
Ga、Fe、Cr等の三価の金属原子あるいはSi、S
n等の四価の金属原子との錯体、酸素が配位したV、T
i等の四価の金属原子との錯体等を例示できる。
Examples of metal complexes of tetrabenzoporphyrins include the tetrabenzoporphyrins and Mg, Zn, Cd, Pd.
, complexes with trivalent metal atoms such as Pb, Ni, Co, Cu, etc., AI, In, in which hydroxyl groups, halogen groups, etc. are coordinated in the vertical direction (in the structural formula of Formula 1, the front and back directions of the paper).
Trivalent metal atoms such as Ga, Fe, Cr or Si, S
Complexes with tetravalent metal atoms such as n, V, T coordinated with oxygen
Examples include complexes with tetravalent metal atoms such as i.

本発明のテトラベンゾポルフィリン類またはその金属錯
体の製造は、公知の方法を採用できるがそれらの内の一
つを次に例示する。
The tetrabenzoporphyrins or metal complexes thereof of the present invention can be produced by any known method, one of which is exemplified below.

ベンジリデンフタルイミジンと各種金属塩とから固相法
で反応させる。得られた生成物をテトラヒドロフラン等
の溶媒に抽出し、その後カラム精製法によりテトラベン
ゾポルフィリンWtマたはその金属錯体が製造される。
Benzylidenephthalimidine and various metal salts are reacted using a solid phase method. The obtained product is extracted into a solvent such as tetrahydrofuran, and then a column purification method is used to produce tetrabenzoporphyrin Wt or its metal complex.

光重合開始剤のもう一方の成分である電子受容性ラジカ
ル発生剤として、好ましく用いられる化合物を次に例示
する。
Examples of compounds preferably used as the electron-accepting radical generator, which is the other component of the photopolymerization initiator, are shown below.

式(II) (式中、R’およびR2は、それぞれ水素原子、ハロゲ
ン原子、低級アルキル基、メトキシ基、シアノ基または
ニトロ基、X−はハロゲンイオン、BF、−1PF@−
1AsF、−1sbpps−1CIO<−を示す) のジアリールヨードニウム塩[「マクロモレキュールス
(Macromolecules)、第1O号、第13
07ページ(1977年)〕、式(III) (式中、R3およびR4はそれぞれアルキル基を示し、
R1およびR2は式(II)と同じ意味を表す)のフェ
ナシルスルホニウム塩[ジャーナル・オブ・ポリマー・
サイエンス(J、Polym、Sci。
Formula (II) (wherein R' and R2 are each a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group, a methoxy group, a cyano group, or a nitro group, and X- is a halogen ion, BF, -1PF@-
Diaryliodonium salt of 1AsF, -1sbpps-1CIO<-) [Macromolecules, No. 1O, No. 13
07 page (1977)], formula (III) (wherein R3 and R4 each represent an alkyl group,
R1 and R2 represent the same meanings as in formula (II)) [Journal of Polymers]
Science (J, Polym, Sci.

) 」第17巻、第2877ページ(1979年)] 式(1ν) (式中、R4およびRaはそれぞれアルキル基またはア
リール基を示し、R1およびX−は式(I)と同じ意味
を表す) のフェナシルスルホキソニウム塩[ヨーロッパ特許第4
4,274号公号公報 式(v) (式中、R1およびX−はそれぞれ式(I)と、R5お
よびR1はそれぞれ式(IV)と同じ意味を表す)のス
ルホキソニウム塩(ヨーロッパ特許第44.274号公
報)、 式(Vl) (式中、R7はアルキル基、X−は式(1)と同じ意味
を表す) の鉄アレーン錯体[ヨーロッパ特許第109,851号
公報、ヨーロッパ特許第126,712号公報、rジャ
ーナル・オブ・イメージング・サイエンス」 (J、I
mag、Sci、)J第30巻、第4号、第174ペー
ジ(1986年)]、および式(Vll ) 9 (式中、R1、R・およびR■Oはそれぞれメチル基ま
たはトリハロゲン化メチル基を示す)のトリアジン化合
物等である。
) Volume 17, Page 2877 (1979)] Formula (1ν) (In the formula, R4 and Ra each represent an alkyl group or an aryl group, and R1 and X- represent the same meaning as in formula (I)) phenacylsulfoxonium salt [European Patent No. 4]
Publication No. 4,274 Sulfoxonium salt of formula (v) (wherein R1 and No. 44,274), iron arene complexes of the formula (Vl) (wherein R7 is an alkyl group and X- has the same meaning as in formula (1)) [European Patent No. 109,851, European Patent Publication No. 126,712, Journal of Imaging Science (J, I
Mag, Sci,) J Vol. 30, No. 4, Page 174 (1986)], and the formula (Vll) 9 (wherein, R1, R and R O are each a methyl group or trihalogenated methyl triazine compounds (indicating groups), etc.

式(II)のジアリールヨードニウム塩としては、例え
ばジフェニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、ビ
ス(m−ニトロフェニル)ヨードニウム、ビス(ter
t−ブチルフェニル)ヨードニウム、ビス(p−シアノ
フェニル)ヨードニウム等のクロリド、プロミド、四フ
ッ化ホウ素塩、六フッ化リン塩、六フッ化ヒ素塩、過塩
素酸塩等が例示される。
Examples of the diaryliodonium salt of formula (II) include diphenyliodonium, ditolyliodonium, bis(m-nitrophenyl)iodonium, bis(ter
Examples include chlorides, bromides, boron tetrafluoride salts, phosphorous hexafluoride salts, arsenic hexafluoride salts, and perchlorates of t-butylphenyl)iodonium and bis(p-cyanophenyl)iodonium.

式(III)のフェナシルスルホニウム塩としては、例
えばジメチルフェナシルスルホニウム、フェナシルテト
ラメチレンスルホニウム、p−シアノフェナシルスルホ
ニウム等のクロリド、プロミド、四フッ化ホウ素塩、六
フッ化リン塩、六フッ化ヒ素塩、六フッ化リンアンチモ
ン塩、過塩素酸塩等が例示される。
Examples of the phenacylsulfonium salt of formula (III) include chlorides, bromides, boron tetrafluoride salts, phosphorous hexafluoride salts, and hexafluoride salts such as dimethylphenacylsulfonium, phenacyltetramethylenesulfonium, and p-cyanophenacylsulfonium. Examples include arsenic salts, phosphorus antimony hexafluoride salts, perchlorates, and the like.

式(IV)のフェナシルスルホキソニウム塩としては、
例えばジフェニルフェナシルスルホキソニウム、ジメチ
ルフェナシルスルホキソニウム等のクロリド、プロミド
、四フッ化ホウ素塩、六フッ化リン塩、六フッ化ヒ素塩
、六フッ化リンアンチモン塩、過塩素酸塩等が例示され
る。
As the phenacylsulfoxonium salt of formula (IV),
For example, chloride, bromide, boron tetrafluoride salt, phosphorus hexafluoride salt, arsenic hexafluoride salt, antimony phosphorus hexafluoride salt, perchlorate, etc. of diphenyl phenacylsulfoxonium, dimethylphenacylsulfoxonium, etc. is exemplified.

式(V)のスルホキソニウム塩としては、例えばジメチ
ルフェノキシスルホキソニウム、テトラメチレンフェノ
キシスルホキソニウム、ジフェニルフェノキシスルホキ
ソニウム等のクロリド、プロミド、四フッ化ホウ素塩、
六フッ化リン塩、六フッ化ヒ素塩、六フッ化リンアンチ
モン塩、過塩素酸塩等が例示される。
Examples of the sulfoxonium salt of formula (V) include chlorides, bromides, boron tetrafluoride salts such as dimethylphenoxysulfoxonium, tetramethylenephenoxysulfoxonium, and diphenylphenoxysulfoxonium;
Examples include phosphorus hexafluoride, arsenic hexafluoride, antimony phosphorus hexafluoride, and perchlorate.

式(vr)の鉄−アレン錯体としては、(η6−ベンゼ
ン) (ηS−シクロペンタジェニル)鉄、(η6−ク
メン) (η5−シクロペンタジェニル)鉄、(η6−
ナフタレン) (η5−シクロペンタジェニル)鉄等の
クロリド、プロミド、四フッ化ホウ素塩、六フッ化リン
塩、六フッ化ヒ素塩、過塩素酸塩等が例示される。
The iron-alene complexes of formula (vr) include (η6-benzene) (ηS-cyclopentadienyl)iron, (η6-cumene) (η5-cyclopentagenyl)iron, (η6-
Examples include chloride, bromide, boron tetrafluoride, phosphorus hexafluoride, arsenic hexafluoride, perchlorate, etc. of iron (η5-cyclopentagenyl) (naphthalene).

式(Vll)のトリアジン化合物としては、2゜4.6
−トリス(トリクロロメチル)−1,3゜5−トリアジ
ン、2,4.6−)−ジメチル−1゜3.5−トリアジ
ン等が例示される。
As the triazine compound of formula (Vll), 2°4.6
Examples include -tris(trichloromethyl)-1,3°5-triazine, 2,4,6-)-dimethyl-1°3,5-triazine, and the like.

本発明において、特に好家しく用いられる電子受容性ラ
ジカル発生剤としては、オニウム塩化合物、鉄アレン化
合物、少なくとも1つのモノ、ジ、あるいはトリハロメ
チル基により置換されたSトリアジンを例示できる。
In the present invention, examples of electron-accepting radical generators that are particularly preferably used include onium salt compounds, iron allene compounds, and S triazines substituted with at least one mono-, di-, or trihalomethyl group.

本発明のホログラム記録用感光材料は、ポリ−N−ビニ
ルカルバゾール、重合可能なエチレン性不飽和結合を少
なくとも1個有する化合物、およびテトラベンゾポルフ
ィリン類および電子受容性ラジカル発生剤とからなる光
重合開始剤とを、任意の濃度で適当な溶媒中に溶解させ
、得られた溶液をガラス板等の基板上に皮膜状に塗布し
て得ることができる。上記各成分の配合比に特定の制限
はないが、照射用レーザー光の透過率が1%以上となる
ようにテトラベンゾポルフィリン類の濃度を調整するこ
とが好ましい、さらに必要に応じて、各稲添加剤、例え
ば可塑剤、酸化防止剤、熱重合禁止剤等を添加してもよ
い。
The photosensitive material for hologram recording of the present invention is a photopolymerization initiator comprising poly-N-vinylcarbazole, a compound having at least one polymerizable ethylenically unsaturated bond, a tetrabenzoporphyrin, and an electron-accepting radical generator. It can be obtained by dissolving the agent at an arbitrary concentration in a suitable solvent and applying the resulting solution in the form of a film on a substrate such as a glass plate. Although there is no specific restriction on the blending ratio of each of the above components, it is preferable to adjust the concentration of tetrabenzoporphyrins so that the transmittance of the laser beam for irradiation is 1% or more. Additives such as plasticizers, antioxidants, thermal polymerization inhibitors, etc. may be added.

ポリ−N−ビニルカルバゾールの全感光材料中に占める
量は、高回折効率を有するホログラム記録を行うために
は10〜90重量%、好味しくは30〜70重量%であ
る0重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1個
以上有する化合物の使用量は、支持体であるポリ−N−
ビニルカルバゾール100重量部に対し10〜200重
量部、好ましくは40〜150重量部である。上記範囲
を逸脱すると高い回折効率の維持および感光特性の向上
が困難となるので好ましくない。
The amount of poly-N-vinylcarbazole in the total photosensitive material is 10 to 90% by weight, preferably 30 to 70% by weight in order to perform hologram recording with high diffraction efficiency. The amount of the compound having at least one unsaturated bond is determined based on the poly-N-
The amount is 10 to 200 parts by weight, preferably 40 to 150 parts by weight, per 100 parts by weight of vinylcarbazole. If it deviates from the above range, it will be difficult to maintain high diffraction efficiency and improve photosensitivity, which is not preferable.

本発明で使用する光重合開始剤の内、式(I)のテトラ
ベンゾポルフィリン類又はその金属錯体は、ポリ−N−
ビニルカルバゾール100重量部に対し、0.1〜30
重量部、好ましくは0.5〜15重量部の範囲で使用さ
れる。使用量は、感光層膜厚と、該膜厚の光学密度によ
って制限を受は電子受容性ラジカル発生剤は、ポリ−N
−ビニルカルバゾール100重量部に対し、0.1〜2
0重量部、好ましくは1〜15重量部の範囲で使用され
る。
Among the photopolymerization initiators used in the present invention, tetrabenzoporphyrins of formula (I) or metal complexes thereof are poly-N-
0.1 to 30 parts by weight of vinyl carbazole
It is used in parts by weight, preferably in the range of 0.5 to 15 parts by weight. The amount used is limited by the thickness of the photosensitive layer and the optical density of the thickness.
-0.1 to 2 parts per 100 parts by weight of vinylcarbazole
It is used in an amount of 0 parts by weight, preferably in the range of 1 to 15 parts by weight.

[作用コ 本発明のホログラム記録用感光材料は、支持体としての
ポリ−N−ビニルカルバゾール、重合可能なエチレン性
不飽和結合を少なくとも1個有する化合物、および60
0nm以上の赤色レーザー光照射によってラジカルを発
生できるテトラベンゾポルフィリン類と電子受容性のラ
ジカル発生剤との組合わせからなる。
[Function] The photosensitive material for hologram recording of the present invention comprises poly-N-vinylcarbazole as a support, a compound having at least one polymerizable ethylenically unsaturated bond, and 60
It consists of a combination of tetrabenzoporphyrins that can generate radicals by irradiation with red laser light of 0 nm or more and an electron-accepting radical generator.

ホログラム記録において、該光重合性の感光材料にレー
ザー光を照射すると、該レーザー照射部位中米干渉作用
の強い部位においては、重合可能なエチレン性不飽和結
合を少なくとも1個有する化合物の重合反応が生じ支持
体としてのポリ−N−ビニルカルバゾールと共に網目を
形成し、現像処理用有機溶媒に対し不溶となる。レーザ
ー照射部位中米干渉作用の弱い部位においては、重合可
能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1個有する化合
物の重合反応を生じないか、あるいは重合度が低いため
、該現像処理用有機溶媒によって、該重合可能なエチレ
ン性不飽和結合を少なくとも1個有する化合物が溶解し
、感光層中から除去される。これにより両部位において
密度差を生じ、その結果屈折率差を生じホログラム記録
が行われるものと推量される。その際、支持体として屈
折率の高い材料であるポリ−N−ビニルカルバゾールを
使用することにより、屈折率差を大きくすることが可能
となり、高回折効率のホログラム記録が達成されたもの
と推量される。
In hologram recording, when the photopolymerizable photosensitive material is irradiated with laser light, a polymerization reaction of a compound having at least one polymerizable ethylenically unsaturated bond occurs in the region where the laser beam irradiation site has a strong Sino-American interference effect. It forms a network together with poly-N-vinylcarbazole as a support, and becomes insoluble in organic solvents for development processing. In the laser irradiation area where the Central America interference effect is weak, the polymerization reaction of the compound having at least one polymerizable ethylenically unsaturated bond does not occur or the degree of polymerization is low, so the organic solvent for development processing The compound having at least one polymerizable ethylenically unsaturated bond is dissolved and removed from the photosensitive layer. It is presumed that this causes a density difference between the two parts, resulting in a refractive index difference and hologram recording. At that time, by using poly-N-vinylcarbazole, a material with a high refractive index, as a support, it was possible to increase the difference in refractive index, and it is assumed that hologram recording with high diffraction efficiency was achieved. Ru.

(実施例) 以下実施例に基づき、本発明をより詳細に説明する。以
下の各側において、部は特に断りの無い限り重量部を表
す。
(Example) The present invention will be explained in more detail based on the following example. In each side below, parts represent parts by weight unless otherwise specified.

実施例1 ポリ−N−ビニルカルバゾール  100部(商品名ツ
ビコールT−210,亜南香料産業(株)製) インシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリアクリレー
ト (商品名 アロニツクスM−315、東亜合成化学工業
(株)製)           700部メソ−ジフ
ェニルテトラベンゾポルフィリン鉛         
                4部ジフェニルヨー
ドニウムへキサフルオロホスフェート        
         5部ジオキサン         
  900部上記組成からなる感光液を50X50X2
mmのガラス板上に、感光液乾燥後の膜厚が10μmと
なるように4MILアプリケーターを用いて塗布し、ホ
ログラム記録用感光板を作成した。
Example 1 100 parts of poly-N-vinylcarbazole (trade name Tubicol T-210, manufactured by Anan Fragrance Industry Co., Ltd.) Incyanuric acid ethylene oxide modified triacrylate (trade name Aronix M-315, manufactured by Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.) 700 parts meso-diphenyltetrabenzoporphyrin lead
4-part diphenyliodonium hexafluorophosphate
5 part dioxane
900 parts of the photosensitive liquid having the above composition were mixed into 50×50×2
A photosensitive plate for hologram recording was prepared by applying the photosensitive liquid onto a 4 mm glass plate using a 4MIL applicator so that the film thickness after drying would be 10 μm.

この感光板に、第1図に示すホログラム作製用光学系で
He−Neレーザ−633nm光を用いてホログラム記
録を実施した後、キシレンとトルエンの容量比1:1か
らなる混合溶媒に2分間浸漬し感光層を現像および膨潤
処理した。ついで、n−へブタン中に浸漬して収縮処理
し、リップマン型ホログラムを作製した。
After performing hologram recording on this photosensitive plate using the hologram production optical system shown in Fig. 1 using He-Ne laser 633 nm light, it was immersed for 2 minutes in a mixed solvent consisting of xylene and toluene in a volume ratio of 1:1. The photosensitive layer was then subjected to development and swelling treatment. Then, it was immersed in n-hebutane for shrinkage treatment to produce a Lippmann hologram.

露光量を変えてホログラムを作製したときの露光量と回
折効率との関係を第2図に示す。
FIG. 2 shows the relationship between the exposure amount and the diffraction efficiency when holograms were produced by varying the exposure amount.

露光量50 m J / c m ’で回折効率60%
のホログラムが作製された。このホログラムを25℃、
60%RHの環境下に180日間放置しても回折効率の
低下は認められなかった。
Diffraction efficiency 60% at exposure dose 50 mJ/cm'
A hologram was created. This hologram was heated to 25 degrees Celsius.
No decrease in diffraction efficiency was observed even after being left in an environment of 60% RH for 180 days.

実施例2〜4 実施例1において、メソ−ジフェニルテトラベンゾポル
フィリンの中心金属をそれぞれカドミウム、マグネシウ
ムおよびパラジウムに変えて感光液を作成し、実施例1
と同様に操作して得られたりツブマン型ホログラムの回
折効率60%に達するに必要な露光量を第1表に示した
Examples 2 to 4 In Example 1, the central metals of meso-diphenyltetrabenzoporphyrin were changed to cadmium, magnesium, and palladium, respectively, and photosensitive solutions were prepared.
Table 1 shows the exposure amount required to achieve a diffraction efficiency of 60% for a Tubmann type hologram obtained by the same operation as above.

第1表 X亘1   史血皇且J   −1」JL−一−(m 
J / c m 2) I      Zn     50 2      Cd     40 3      Mg     70 4      Pd     70 実施例5〜7 実施例1において、電子受容性ラジカル発生剤としてジ
フェニルヨードニウムへキサフルオロホスフエートを、
それぞれ2.4.6−トリス(トリクロロメチル)−1
,3,5−)リアジン、(η6−クメン) (η“−ジ
クロロペンタジェニル)鉄へキサフルオロホスフェート
、ジメチルフェナシルスルホニウムヘキサフルオロホス
フェートに変えて感光液を作成し、実施例1と同様に操
作して得られたりツブマン型ホログラムの回折効率60
%に達するに必要な露光量を第2表に示した。
Table 1
J / cm 2) I Zn 50 2 Cd 40 3 Mg 70 4 Pd 70 Examples 5 to 7 In Example 1, diphenyliodonium hexafluorophosphate was used as the electron-accepting radical generator,
2.4.6-tris(trichloromethyl)-1 respectively
, 3,5-) riazine, (η6-cumene) (η“-dichloropentagenyl) iron hexafluorophosphate, and dimethylphenacylsulfonium hexafluorophosphate were used to prepare a photosensitive solution, and in the same manner as in Example 1. The diffraction efficiency of the Tubmann type hologram obtained by operation is 60
% is shown in Table 2.

第2表 幻l  動011 −IuL−一 (mJ/cm”) 5     A     80 5      B     200 7      C140 注:A:2,4.6−)リス(トリクロロメチル)−1
,3,5−)リアジン、 B;(ηロークメン) (η6−ジクロロペンタジェニ
ル)鉄へキサフルオロホスフェート、C;ジメチルフェ
ナシルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート 実施例8.9 実施例1においてテトラベンゾポルフィリンをメソ−テ
トラフェニルテトラベンゾポルフィリン、2.9.16
.23−テトラ−tert−ブチルテトラベンゾポルフ
ィリンマグネシウムにそれぞれ変えて感光液を作成した
。He−Neレーザ−633nmに変えてKrレーザ−
647nmを用いた他は実施例1と同様に操作してリッ
プマン型ホログラムを作製した。
Table 2 Phantom l Motion 011 -IuL-1 (mJ/cm") 5 A 80 5 B 200 7 C140 Note: A: 2,4.6-) Lis(trichloromethyl)-1
,3,5-) riazine, B; (η locumene) (η6-dichloropentadienyl) iron hexafluorophosphate, C; dimethylphenacylsulfonium hexafluorophosphate Example 8.9 Tetrabenzoporphyrin in Example 1 Meso-tetraphenyltetrabenzoporphyrin, 2.9.16
.. A photosensitive solution was prepared using 23-tetra-tert-butyltetrabenzoporphyrin magnesium. He-Ne laser - Kr laser instead of 633 nm
A Lippmann hologram was produced in the same manner as in Example 1 except that 647 nm was used.

第3表に回折効率60%に達するに必要な露光量を示し
た。
Table 3 shows the exposure amount required to reach a diffraction efficiency of 60%.

第3表 夾鳳1   もg倉11 −1允1−一−(mJ/cm
’) 8        D       1009    
    E         80注:D;メソ−テト
ラフェニルテトラベンゾポルフィリン、 E、2.9.16.23−テトラ−tert−ブチルテ
トラベンゾポルフィリンマグネシウム比較例1 実施例1におけるポリ−N−ビニルカルバゾールを屈折
率が1.49であるポリメチルメタクリレートに、また
現像・膨潤溶媒をエタノールに変えた以外は実施例1と
同様に操作してホログラム記録を行った。
Table 3 Kyoho 1 Mogura 11 -1 Yu 1-1- (mJ/cm
') 8 D 1009
E 80 Note: D; Meso-tetraphenyltetrabenzoporphyrin, E, 2.9.16.23-Tetra-tert-butyltetrabenzoporphyrin Magnesium Comparative Example 1 Poly-N-vinylcarbazole in Example 1 has a refractive index of Hologram recording was performed in the same manner as in Example 1, except that polymethyl methacrylate having a molecular weight of 1.49 was used and ethanol was used as the developing and swelling solvent.

露光量80mJ/cm’ではホログラム記録は可能であ
ったが、その回折効率は10%であった。
Although hologram recording was possible at an exposure dose of 80 mJ/cm', the diffraction efficiency was 10%.

比較例2 実施例1におけるポリ−N−ビニルカルバゾールを屈折
率が1.59であるポリスチレンに、また現像・膨潤溶
媒をベンゼン/エタノールの1=1混合溶媒に変えた以
外は実施例1と同様に操作して、ホログラム記録を行っ
た。
Comparative Example 2 Same as Example 1 except that the poly-N-vinylcarbazole in Example 1 was changed to polystyrene with a refractive index of 1.59, and the developing/swelling solvent was changed to a 1=1 mixed solvent of benzene/ethanol. The hologram was recorded using the following operations.

露光量80 m J / c m ”でホログラム記録
は可能であったが、その回折効率は40%であった。
Although hologram recording was possible with an exposure dose of 80 mJ/cm'', the diffraction efficiency was 40%.

比較例3 実施例1におけるポリ−N−ビニルカルバゾールを屈折
率が1.53であるポリビニルピロリドンに、また現像
・膨潤溶媒を酢酸エチルに変えた以外は、実施例1と同
様に操作してホログラム記録を行った。
Comparative Example 3 A hologram was produced in the same manner as in Example 1, except that the poly-N-vinylcarbazole in Example 1 was changed to polyvinylpyrrolidone with a refractive index of 1.53, and the developing/swelling solvent was changed to ethyl acetate. Recorded.

露光量40 m J / c rri 2でホログラム
記録は可能であったが、その回折効率は20%であった
Hologram recording was possible with an exposure dose of 40 mJ/c rri 2, but the diffraction efficiency was 20%.

また支持体であるポリビニルピロリドンの耐湿性不良の
ため、1日保存後ホログラム記録は完全に消失した。
Further, due to the poor moisture resistance of the polyvinylpyrrolidone support, the hologram recording completely disappeared after one day of storage.

比較例4 実施例1において、ポリ−N−ビニルカルバゾールを除
いた組成物を用いた以外は実施例1と同様に操作してホ
ログラム記録を行ったが、ホログラム記録は全く出来な
かった。
Comparative Example 4 Hologram recording was performed in the same manner as in Example 1 except that a composition excluding poly-N-vinylcarbazole was used, but hologram recording was not possible at all.

実施例1および比較例1〜4の測定結果を第4表に示す
Table 4 shows the measurement results of Example 1 and Comparative Examples 1 to 4.

第4表 支丘体 星近坐 露光1 皿近勿亭保充五−(鴫J/e
m2)   ($) 実施例I   A   1.59 50  60  1
80日以比較例I   B   1.49 80  1
0 180日以比較例2   C1,59803018
0日以比較例3   D   1.53 40  20
  1比較下比叙例4  E   −ホログラム記録不
可能注: A:ボリーN−ビニルカルバゾール B:ポリメチルメタクリレート C:ポリスチレン D:ポリビニルピロリドン 保存性:25℃、60%RH環境下における回り効率の
半減期 [発明の効果] 本発明によれば、従来のホログラム記録用感潜材料では
達成できなかった600nm以上の長沼長レーザー光に
対して優れた感光特性を有し、丑学的に安定であり、か
つ高解像度、高回折効率を有するホログラム記録用感光
材料が提供される。
Table 4 Subcondylar Body Hoshichikaza Exposure 1 Sarachinmokutei Yasujugo-(Suzuki J/e
m2) ($) Example I A 1.59 50 60 1
After 80 days Comparative Example I B 1.49 80 1
0 180 days or more Comparative Example 2 C1,59803018
Comparative example 3 after 0 days D 1.53 40 20
1 Comparison Example 4 E - Hologram recording impossible Note: A: Bory-N-vinylcarbazole B: Polymethyl methacrylate C: Polystyrene D: Polyvinylpyrrolidone Storage stability: Halving of rotation efficiency in an environment of 25°C and 60% RH [Effects of the Invention] According to the present invention, the material has excellent photosensitivity to Naganuma long laser light of 600 nm or more, which could not be achieved with conventional sensitive materials for hologram recording, and is chemically stable. A photosensitive material for hologram recording is provided which has high resolution and high diffraction efficiency.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、ホログラム作製用2光束露光装置のブロック
図を示し、第2図は作製されたホログラムのレーザー露
光量と回折効率との関係を示すグラフである。 1:レーザー   2:ビームスプリッタ−3,4,5
:ミラー 6.7,8.9:レンズ 10.11:ピンホール 12:感光板
FIG. 1 shows a block diagram of a two-beam exposure apparatus for producing a hologram, and FIG. 2 is a graph showing the relationship between the laser exposure amount and the diffraction efficiency of the produced hologram. 1: Laser 2: Beam splitter - 3, 4, 5
: Mirror 6.7, 8.9: Lens 10.11: Pinhole 12: Photosensitive plate

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)ポリ−N−ビニルカルバゾール、重合可能なエチ
レン性不飽和結合を少なくとも1個以上有する化合物お
よび下記光重合開始剤 式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは水素原子、アルキル基または置換基を有し
てもよい芳香族性残基を表し、各ベンゼン環は置換基と
してアルキル基またはアルコキシ基を有してもよい) のテトラベンゾポルフィリン類またはその金属錯体と電
子受容性ラジカル発生剤との組合わせ、とからなること
を特徴とするホログラム記録用感光材料。
(1) Poly-N-vinylcarbazole, a compound having at least one polymerizable ethylenically unsaturated bond, and the following photopolymerization initiator formula (I) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aromatic residue which may have a substituent, and each benzene ring may have an alkyl group or an alkoxy group as a substituent) or its metal A photosensitive material for hologram recording, comprising a combination of a complex and an electron-accepting radical generator.
(2)電子受容性ラジカル発生剤が、オニウム塩化合物
、鉄アレン化合物および少なくとも1つのモノ、ジ、あ
るいはトリハロメチル基により置換されたs−トリアジ
ンから選ばれた少なくとも1種の電子受容性ラジカル発
生剤である請求項1記載のホログラム記録用感光材料。
(2) The electron-accepting radical generator is at least one type of electron-accepting radical generator selected from onium salt compounds, iron allene compounds, and s-triazines substituted with at least one mono-, di-, or trihalomethyl group. The photosensitive material for hologram recording according to claim 1, which is a photosensitive material for hologram recording.
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