JPH03278082A - ホログラム記録用感光材料 - Google Patents
ホログラム記録用感光材料Info
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- JPH03278082A JPH03278082A JP7849090A JP7849090A JPH03278082A JP H03278082 A JPH03278082 A JP H03278082A JP 7849090 A JP7849090 A JP 7849090A JP 7849090 A JP7849090 A JP 7849090A JP H03278082 A JPH03278082 A JP H03278082A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は新規なホログラム記録用感光材料に関する。さ
らに詳しくは、600nm以上の長波長レーザー光、例
えばHe−Neレーザー(633nm) 、Krレーザ
ー(647nmおよび676nm) 、ルビーレーザー
(694nm)等のレーザー光によるホログラム記録に
好適なホログラム記録用感光材料に間する。
らに詳しくは、600nm以上の長波長レーザー光、例
えばHe−Neレーザー(633nm) 、Krレーザ
ー(647nmおよび676nm) 、ルビーレーザー
(694nm)等のレーザー光によるホログラム記録に
好適なホログラム記録用感光材料に間する。
[従来の技術]
従来長波長光用ホログラム記録材料としては1真に用い
られる銀塩乳剤、メチレンブルー等の含素で分光増感し
た重クロム酸−ゼラチン系の感黄材料が一般に使用され
てきた。しかしこれらのホログラム記録用感光材料は、
いずれも感光板の製作、記録後の処理等に煩雑な湿式処
理を必要とする、あるいは耐環境特性、例えば耐湿性、
耐候性に劣るという問題点を有していた。
られる銀塩乳剤、メチレンブルー等の含素で分光増感し
た重クロム酸−ゼラチン系の感黄材料が一般に使用され
てきた。しかしこれらのホログラム記録用感光材料は、
いずれも感光板の製作、記録後の処理等に煩雑な湿式処
理を必要とする、あるいは耐環境特性、例えば耐湿性、
耐候性に劣るという問題点を有していた。
このような問題点を解決するなめ、光重合を利用した乾
式定着可能な金属アクリレート、アクリルアミド、メチ
レンブルー、p−)ルエンスルホン酸ナトリウム、p−
ニトロフェニル酢酸ナトリウムからなる光重合性記録材
料が提案された[「フォトグラフィック・アンド・サイ
エンチフィツク・エンジニアリング(Photogr、
SciEng、)」第12巻第177ページ(1968
年)、および「アプライドフィジックス・レター(Ap
pl、Phys、Lett、)J第14巻第5号、第1
59ページ(1969年)、シかしこの記録材料は、材
料保存中に暗反応が進行するため材料の特性が劣化する
という問題点を有しているため、実用性に乏しい。
式定着可能な金属アクリレート、アクリルアミド、メチ
レンブルー、p−)ルエンスルホン酸ナトリウム、p−
ニトロフェニル酢酸ナトリウムからなる光重合性記録材
料が提案された[「フォトグラフィック・アンド・サイ
エンチフィツク・エンジニアリング(Photogr、
SciEng、)」第12巻第177ページ(1968
年)、および「アプライドフィジックス・レター(Ap
pl、Phys、Lett、)J第14巻第5号、第1
59ページ(1969年)、シかしこの記録材料は、材
料保存中に暗反応が進行するため材料の特性が劣化する
という問題点を有しているため、実用性に乏しい。
耐環境特性に優れかつ高解像度、高回折効率等のホログ
ラム記録用感光材料の有すべき特性を備えた材料、例え
ばポリ−N−ビニルカルバゾールと環状シス−α−ジカ
ルボニル化合物と増感剤からなるホログラム記録材f1
(特開昭第60−45283号公報)、ポリ−N−ビニ
ルカルバゾールと1.4.4.5.6.7.7−ヘキサ
クロロ−5−ノルボルネン−無水−2,3−ジカルボン
酸と色素からなるホログラム記録材料(特開昭第60−
227280号公報)・、ポリ−N−ビニルカルバゾー
ルとフリルとからなるホログラム記録材料(特開昭第6
0−227281号公報)、ポリ−N−ビニルカルバゾ
ールと2,3−ボルナンジオンとチオフラビンとからな
るホログラム記録材料(特開昭第60−260080号
公報)、ポリ−N−ビニルカルバゾールとチオフラビン
Tならびにヨードホルムとからなるホログラム記録材料
(特開昭第62−123489号公報)等が提案された
。
ラム記録用感光材料の有すべき特性を備えた材料、例え
ばポリ−N−ビニルカルバゾールと環状シス−α−ジカ
ルボニル化合物と増感剤からなるホログラム記録材f1
(特開昭第60−45283号公報)、ポリ−N−ビニ
ルカルバゾールと1.4.4.5.6.7.7−ヘキサ
クロロ−5−ノルボルネン−無水−2,3−ジカルボン
酸と色素からなるホログラム記録材料(特開昭第60−
227280号公報)・、ポリ−N−ビニルカルバゾー
ルとフリルとからなるホログラム記録材料(特開昭第6
0−227281号公報)、ポリ−N−ビニルカルバゾ
ールと2,3−ボルナンジオンとチオフラビンとからな
るホログラム記録材料(特開昭第60−260080号
公報)、ポリ−N−ビニルカルバゾールとチオフラビン
Tならびにヨードホルムとからなるホログラム記録材料
(特開昭第62−123489号公報)等が提案された
。
これらのホログラム記録用感光材料は、ポリ−N−ビニ
ルカルバゾールを主剤としたフォトポリマー系であるた
め、化学的に安定でかつ高い解像度、耐湿、耐熱、耐候
性を有しているものの、He−Neレーザー、Krレー
ザー、ルビーレーザー等の600nm以上の赤色光領域
に発振波長を有するレーザー光源に対しては全く感光し
ないという重要な問題点を有している。
ルカルバゾールを主剤としたフォトポリマー系であるた
め、化学的に安定でかつ高い解像度、耐湿、耐熱、耐候
性を有しているものの、He−Neレーザー、Krレー
ザー、ルビーレーザー等の600nm以上の赤色光領域
に発振波長を有するレーザー光源に対しては全く感光し
ないという重要な問題点を有している。
600nm以上の長波長レーザーにより光硬化できる材
料として、重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化
合物、テトラベンゾポルフィリン誘導体および電子受容
性ラジカル発生剤からなる光硬化性樹脂組成物<fft
N昭第63−243102号公報)が提案された。しが
しこの光硬化性樹脂組成物は、ホログラム記録において
重要な屈折率差を充分には有しないなめ、ホログラム記
録用としての性能は満足出来るものではなかった。
料として、重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化
合物、テトラベンゾポルフィリン誘導体および電子受容
性ラジカル発生剤からなる光硬化性樹脂組成物<fft
N昭第63−243102号公報)が提案された。しが
しこの光硬化性樹脂組成物は、ホログラム記録において
重要な屈折率差を充分には有しないなめ、ホログラム記
録用としての性能は満足出来るものではなかった。
[発明が解決しようとする課題]
本発明は、化学的安定性例えば耐環境特性に優れ、高解
像度、高回折効率等に優れているばかりではなく、60
0nm以上の長波長レーザー光に対して優れた感光特性
を有するホログラム記録用感光材料を提供する。
像度、高回折効率等に優れているばかりではなく、60
0nm以上の長波長レーザー光に対して優れた感光特性
を有するホログラム記録用感光材料を提供する。
[課題を解決するための手段]
本発明は、ポリ−N−ビニルカルバゾール、重合可能な
エチレン性不飽和結合を少なくとも1個以上有する化合
物および下記光重合間始剤式(I) (式中、Rは水素原子、アルキル基または置換基を有し
てよい芳香族性残基を表し、各ベンゼン環は置換基とし
てアルキル基またはアルコキシ基を有してもよい、式中
の各Rはそれぞれ独立に水素原子、アルキル基または芳
香族性残基であることができ、かつ芳香族性残基の置換
基も各Rについてそれぞれ独立であることができる)の
テトラベンゾポルフィリン類またはその金属錯体と電子
受容性ラジカル発生剤との組合わせ、とからなることを
特徴とするホログラム記録用感光材料を提供する。
エチレン性不飽和結合を少なくとも1個以上有する化合
物および下記光重合間始剤式(I) (式中、Rは水素原子、アルキル基または置換基を有し
てよい芳香族性残基を表し、各ベンゼン環は置換基とし
てアルキル基またはアルコキシ基を有してもよい、式中
の各Rはそれぞれ独立に水素原子、アルキル基または芳
香族性残基であることができ、かつ芳香族性残基の置換
基も各Rについてそれぞれ独立であることができる)の
テトラベンゾポルフィリン類またはその金属錯体と電子
受容性ラジカル発生剤との組合わせ、とからなることを
特徴とするホログラム記録用感光材料を提供する。
本発明は、特定構造のテトラベンゾポルフィリン類ある
いはその金属錯体と電子受容性ラジカル発生剤との組合
わせからなる光重合開始剤、屈折率1.68と大きい支
持物質としてのポリ−N−ビニルカルバゾールおよび重
合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1個以上有
する化合物を組合わせることにより、化学的安定性、高
解像度、高い屈折率変調に基づく高回折効率を有すると
共に、600nm以上の長波長レーザー光に対して優れ
た感光特性を有するホログラム記録用感光材料が得られ
ることを見いだし、この知見に基づき完成された。
いはその金属錯体と電子受容性ラジカル発生剤との組合
わせからなる光重合開始剤、屈折率1.68と大きい支
持物質としてのポリ−N−ビニルカルバゾールおよび重
合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1個以上有
する化合物を組合わせることにより、化学的安定性、高
解像度、高い屈折率変調に基づく高回折効率を有すると
共に、600nm以上の長波長レーザー光に対して優れ
た感光特性を有するホログラム記録用感光材料が得られ
ることを見いだし、この知見に基づき完成された。
本発明で用いるポリ−N−ビニルカルバゾールは、ハロ
ゲン、アルキル基、アミノ基、ニトロ基、チオシアノ基
等により置換されたものであってもよい。
ゲン、アルキル基、アミノ基、ニトロ基、チオシアノ基
等により置換されたものであってもよい。
本発明で用いる重合可能なエチレン性不飽和結合を少な
くとも1個以上有する化合物としては、1官能であるビ
ニルモノマーの他にオリゴマーを含むものであり、さら
には高分子量化合物であってもよく、またこれらの混合
物であってもよい。
くとも1個以上有する化合物としては、1官能であるビ
ニルモノマーの他にオリゴマーを含むものであり、さら
には高分子量化合物であってもよく、またこれらの混合
物であってもよい。
次にこれらの化合物を例示する。
アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、
アクリルアミド、メタクリルアミド、ジアセトンアクリ
ルアミド、2−ヒドロキシエチルアクリレート、N−ビ
ニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール等の高沸点ビ
ニルモノマー、エチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、ポリエチレングリコール、1.3−プロパンジオ
ール、1.4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオ
ール、1.6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、ポリプロピレングリコール、トリメチロールプロ
パン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール
、ソルビトール、マンニトール等のジあるいはポリ(メ
タ)アクリルエステル、インシアヌル酸のエチレンオキ
シド変性(メタ)アクリレートさらには、(メタ)アク
リル化されたエポキシ樹脂、ポリエステルアクリレート
オリゴマー (メタ)アクリル化つレタンオリゴマーア
クロレイン化ポリ゛ビニルアルコール等、これらの化合
物は適宜混合して使用してもよい。
アクリルアミド、メタクリルアミド、ジアセトンアクリ
ルアミド、2−ヒドロキシエチルアクリレート、N−ビ
ニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール等の高沸点ビ
ニルモノマー、エチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、ポリエチレングリコール、1.3−プロパンジオ
ール、1.4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオ
ール、1.6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、ポリプロピレングリコール、トリメチロールプロ
パン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール
、ソルビトール、マンニトール等のジあるいはポリ(メ
タ)アクリルエステル、インシアヌル酸のエチレンオキ
シド変性(メタ)アクリレートさらには、(メタ)アク
リル化されたエポキシ樹脂、ポリエステルアクリレート
オリゴマー (メタ)アクリル化つレタンオリゴマーア
クロレイン化ポリ゛ビニルアルコール等、これらの化合
物は適宜混合して使用してもよい。
本発明で用いる前記式(I)のテトラベンゾポルフィリ
ン類におけるRは、水素原子、アルキル基家たはフェニ
ル基、ナフチル基、ピリジル基等の芳香族性残基を示す
、芳香族性残基は、置換基を有してもよい、この置換基
としては、ハロゲン原子、炭素数1〜5の低級アルキル
基または低級アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、
カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、スルホン基等を例
示できる。これらの置換基は、それぞれ独立に各ベンゼ
ン環に1個または2個以上導入されていてもよい。
ン類におけるRは、水素原子、アルキル基家たはフェニ
ル基、ナフチル基、ピリジル基等の芳香族性残基を示す
、芳香族性残基は、置換基を有してもよい、この置換基
としては、ハロゲン原子、炭素数1〜5の低級アルキル
基または低級アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、
カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、スルホン基等を例
示できる。これらの置換基は、それぞれ独立に各ベンゼ
ン環に1個または2個以上導入されていてもよい。
テトラベンゾポルフィリン類を次に具体的に例示する。
無置換のテトラベンゾポルフィリン、メン位の少なくと
も1つがフェニル基で置換されたメソ−フェニルテトラ
ベンゾポルフィリン、メン位の少なくとも1つがナフチ
ル基で置換されたメソ−ナフチルテトラベンゾポルフィ
リン、メン位の少なくとも1つがピリジル基で置換され
たメソ−ピリジルテトラベンゾポルフィリン、2.9,
16゜23−テトラ−t−ブチルテトラベンゾポルフィ
リン、1,4,8.11,15.18,22.25−オ
クタメチルテトラベンゾポルフィリン、2゜9.16.
23−テトラメトキシテトラベンゾポルフィリン、2.
3,9,10.16.17,23.24−オクタメトキ
シテトラベンゾポルフィリン、メソ位の少なくとも1つ
がトリル基で置換されたメソ−トリルテトラベンゾポル
フィリン、メソ位の少なくとも1つがアニシル基で置換
されたメソーアニシルテトラベンゾポルフィリン等。
も1つがフェニル基で置換されたメソ−フェニルテトラ
ベンゾポルフィリン、メン位の少なくとも1つがナフチ
ル基で置換されたメソ−ナフチルテトラベンゾポルフィ
リン、メン位の少なくとも1つがピリジル基で置換され
たメソ−ピリジルテトラベンゾポルフィリン、2.9,
16゜23−テトラ−t−ブチルテトラベンゾポルフィ
リン、1,4,8.11,15.18,22.25−オ
クタメチルテトラベンゾポルフィリン、2゜9.16.
23−テトラメトキシテトラベンゾポルフィリン、2.
3,9,10.16.17,23.24−オクタメトキ
シテトラベンゾポルフィリン、メソ位の少なくとも1つ
がトリル基で置換されたメソ−トリルテトラベンゾポル
フィリン、メソ位の少なくとも1つがアニシル基で置換
されたメソーアニシルテトラベンゾポルフィリン等。
テトラベンゾポルフィリン類の金属錯体としては、前記
テトラベンゾポルフィリン類とMg、Zn、Cd、Pd
、Pb、Ni、Co、Cu等の三価の金属原子との錯体
、ヒドロキシル基、ハロゲン基等を垂直方向(式1の構
造式において紙面の裏表方向)に配位したAI、In、
Ga、Fe、Cr等の三価の金属原子あるいはSi、S
n等の四価の金属原子との錯体、酸素が配位したV、T
i等の四価の金属原子との錯体等を例示できる。
テトラベンゾポルフィリン類とMg、Zn、Cd、Pd
、Pb、Ni、Co、Cu等の三価の金属原子との錯体
、ヒドロキシル基、ハロゲン基等を垂直方向(式1の構
造式において紙面の裏表方向)に配位したAI、In、
Ga、Fe、Cr等の三価の金属原子あるいはSi、S
n等の四価の金属原子との錯体、酸素が配位したV、T
i等の四価の金属原子との錯体等を例示できる。
本発明のテトラベンゾポルフィリン類またはその金属錯
体の製造は、公知の方法を採用できるがそれらの内の一
つを次に例示する。
体の製造は、公知の方法を採用できるがそれらの内の一
つを次に例示する。
ベンジリデンフタルイミジンと各種金属塩とから固相法
で反応させる。得られた生成物をテトラヒドロフラン等
の溶媒に抽出し、その後カラム精製法によりテトラベン
ゾポルフィリンWtマたはその金属錯体が製造される。
で反応させる。得られた生成物をテトラヒドロフラン等
の溶媒に抽出し、その後カラム精製法によりテトラベン
ゾポルフィリンWtマたはその金属錯体が製造される。
光重合開始剤のもう一方の成分である電子受容性ラジカ
ル発生剤として、好ましく用いられる化合物を次に例示
する。
ル発生剤として、好ましく用いられる化合物を次に例示
する。
式(II)
(式中、R’およびR2は、それぞれ水素原子、ハロゲ
ン原子、低級アルキル基、メトキシ基、シアノ基または
ニトロ基、X−はハロゲンイオン、BF、−1PF@−
1AsF、−1sbpps−1CIO<−を示す) のジアリールヨードニウム塩[「マクロモレキュールス
(Macromolecules)、第1O号、第13
07ページ(1977年)〕、式(III) (式中、R3およびR4はそれぞれアルキル基を示し、
R1およびR2は式(II)と同じ意味を表す)のフェ
ナシルスルホニウム塩[ジャーナル・オブ・ポリマー・
サイエンス(J、Polym、Sci。
ン原子、低級アルキル基、メトキシ基、シアノ基または
ニトロ基、X−はハロゲンイオン、BF、−1PF@−
1AsF、−1sbpps−1CIO<−を示す) のジアリールヨードニウム塩[「マクロモレキュールス
(Macromolecules)、第1O号、第13
07ページ(1977年)〕、式(III) (式中、R3およびR4はそれぞれアルキル基を示し、
R1およびR2は式(II)と同じ意味を表す)のフェ
ナシルスルホニウム塩[ジャーナル・オブ・ポリマー・
サイエンス(J、Polym、Sci。
)
」第17巻、第2877ページ(1979年)]
式(1ν)
(式中、R4およびRaはそれぞれアルキル基またはア
リール基を示し、R1およびX−は式(I)と同じ意味
を表す) のフェナシルスルホキソニウム塩[ヨーロッパ特許第4
4,274号公号公報 式(v) (式中、R1およびX−はそれぞれ式(I)と、R5お
よびR1はそれぞれ式(IV)と同じ意味を表す)のス
ルホキソニウム塩(ヨーロッパ特許第44.274号公
報)、 式(Vl) (式中、R7はアルキル基、X−は式(1)と同じ意味
を表す) の鉄アレーン錯体[ヨーロッパ特許第109,851号
公報、ヨーロッパ特許第126,712号公報、rジャ
ーナル・オブ・イメージング・サイエンス」 (J、I
mag、Sci、)J第30巻、第4号、第174ペー
ジ(1986年)]、および式(Vll ) 9 (式中、R1、R・およびR■Oはそれぞれメチル基ま
たはトリハロゲン化メチル基を示す)のトリアジン化合
物等である。
リール基を示し、R1およびX−は式(I)と同じ意味
を表す) のフェナシルスルホキソニウム塩[ヨーロッパ特許第4
4,274号公号公報 式(v) (式中、R1およびX−はそれぞれ式(I)と、R5お
よびR1はそれぞれ式(IV)と同じ意味を表す)のス
ルホキソニウム塩(ヨーロッパ特許第44.274号公
報)、 式(Vl) (式中、R7はアルキル基、X−は式(1)と同じ意味
を表す) の鉄アレーン錯体[ヨーロッパ特許第109,851号
公報、ヨーロッパ特許第126,712号公報、rジャ
ーナル・オブ・イメージング・サイエンス」 (J、I
mag、Sci、)J第30巻、第4号、第174ペー
ジ(1986年)]、および式(Vll ) 9 (式中、R1、R・およびR■Oはそれぞれメチル基ま
たはトリハロゲン化メチル基を示す)のトリアジン化合
物等である。
式(II)のジアリールヨードニウム塩としては、例え
ばジフェニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、ビ
ス(m−ニトロフェニル)ヨードニウム、ビス(ter
t−ブチルフェニル)ヨードニウム、ビス(p−シアノ
フェニル)ヨードニウム等のクロリド、プロミド、四フ
ッ化ホウ素塩、六フッ化リン塩、六フッ化ヒ素塩、過塩
素酸塩等が例示される。
ばジフェニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、ビ
ス(m−ニトロフェニル)ヨードニウム、ビス(ter
t−ブチルフェニル)ヨードニウム、ビス(p−シアノ
フェニル)ヨードニウム等のクロリド、プロミド、四フ
ッ化ホウ素塩、六フッ化リン塩、六フッ化ヒ素塩、過塩
素酸塩等が例示される。
式(III)のフェナシルスルホニウム塩としては、例
えばジメチルフェナシルスルホニウム、フェナシルテト
ラメチレンスルホニウム、p−シアノフェナシルスルホ
ニウム等のクロリド、プロミド、四フッ化ホウ素塩、六
フッ化リン塩、六フッ化ヒ素塩、六フッ化リンアンチモ
ン塩、過塩素酸塩等が例示される。
えばジメチルフェナシルスルホニウム、フェナシルテト
ラメチレンスルホニウム、p−シアノフェナシルスルホ
ニウム等のクロリド、プロミド、四フッ化ホウ素塩、六
フッ化リン塩、六フッ化ヒ素塩、六フッ化リンアンチモ
ン塩、過塩素酸塩等が例示される。
式(IV)のフェナシルスルホキソニウム塩としては、
例えばジフェニルフェナシルスルホキソニウム、ジメチ
ルフェナシルスルホキソニウム等のクロリド、プロミド
、四フッ化ホウ素塩、六フッ化リン塩、六フッ化ヒ素塩
、六フッ化リンアンチモン塩、過塩素酸塩等が例示され
る。
例えばジフェニルフェナシルスルホキソニウム、ジメチ
ルフェナシルスルホキソニウム等のクロリド、プロミド
、四フッ化ホウ素塩、六フッ化リン塩、六フッ化ヒ素塩
、六フッ化リンアンチモン塩、過塩素酸塩等が例示され
る。
式(V)のスルホキソニウム塩としては、例えばジメチ
ルフェノキシスルホキソニウム、テトラメチレンフェノ
キシスルホキソニウム、ジフェニルフェノキシスルホキ
ソニウム等のクロリド、プロミド、四フッ化ホウ素塩、
六フッ化リン塩、六フッ化ヒ素塩、六フッ化リンアンチ
モン塩、過塩素酸塩等が例示される。
ルフェノキシスルホキソニウム、テトラメチレンフェノ
キシスルホキソニウム、ジフェニルフェノキシスルホキ
ソニウム等のクロリド、プロミド、四フッ化ホウ素塩、
六フッ化リン塩、六フッ化ヒ素塩、六フッ化リンアンチ
モン塩、過塩素酸塩等が例示される。
式(vr)の鉄−アレン錯体としては、(η6−ベンゼ
ン) (ηS−シクロペンタジェニル)鉄、(η6−ク
メン) (η5−シクロペンタジェニル)鉄、(η6−
ナフタレン) (η5−シクロペンタジェニル)鉄等の
クロリド、プロミド、四フッ化ホウ素塩、六フッ化リン
塩、六フッ化ヒ素塩、過塩素酸塩等が例示される。
ン) (ηS−シクロペンタジェニル)鉄、(η6−ク
メン) (η5−シクロペンタジェニル)鉄、(η6−
ナフタレン) (η5−シクロペンタジェニル)鉄等の
クロリド、プロミド、四フッ化ホウ素塩、六フッ化リン
塩、六フッ化ヒ素塩、過塩素酸塩等が例示される。
式(Vll)のトリアジン化合物としては、2゜4.6
−トリス(トリクロロメチル)−1,3゜5−トリアジ
ン、2,4.6−)−ジメチル−1゜3.5−トリアジ
ン等が例示される。
−トリス(トリクロロメチル)−1,3゜5−トリアジ
ン、2,4.6−)−ジメチル−1゜3.5−トリアジ
ン等が例示される。
本発明において、特に好家しく用いられる電子受容性ラ
ジカル発生剤としては、オニウム塩化合物、鉄アレン化
合物、少なくとも1つのモノ、ジ、あるいはトリハロメ
チル基により置換されたSトリアジンを例示できる。
ジカル発生剤としては、オニウム塩化合物、鉄アレン化
合物、少なくとも1つのモノ、ジ、あるいはトリハロメ
チル基により置換されたSトリアジンを例示できる。
本発明のホログラム記録用感光材料は、ポリ−N−ビニ
ルカルバゾール、重合可能なエチレン性不飽和結合を少
なくとも1個有する化合物、およびテトラベンゾポルフ
ィリン類および電子受容性ラジカル発生剤とからなる光
重合開始剤とを、任意の濃度で適当な溶媒中に溶解させ
、得られた溶液をガラス板等の基板上に皮膜状に塗布し
て得ることができる。上記各成分の配合比に特定の制限
はないが、照射用レーザー光の透過率が1%以上となる
ようにテトラベンゾポルフィリン類の濃度を調整するこ
とが好ましい、さらに必要に応じて、各稲添加剤、例え
ば可塑剤、酸化防止剤、熱重合禁止剤等を添加してもよ
い。
ルカルバゾール、重合可能なエチレン性不飽和結合を少
なくとも1個有する化合物、およびテトラベンゾポルフ
ィリン類および電子受容性ラジカル発生剤とからなる光
重合開始剤とを、任意の濃度で適当な溶媒中に溶解させ
、得られた溶液をガラス板等の基板上に皮膜状に塗布し
て得ることができる。上記各成分の配合比に特定の制限
はないが、照射用レーザー光の透過率が1%以上となる
ようにテトラベンゾポルフィリン類の濃度を調整するこ
とが好ましい、さらに必要に応じて、各稲添加剤、例え
ば可塑剤、酸化防止剤、熱重合禁止剤等を添加してもよ
い。
ポリ−N−ビニルカルバゾールの全感光材料中に占める
量は、高回折効率を有するホログラム記録を行うために
は10〜90重量%、好味しくは30〜70重量%であ
る0重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1個
以上有する化合物の使用量は、支持体であるポリ−N−
ビニルカルバゾール100重量部に対し10〜200重
量部、好ましくは40〜150重量部である。上記範囲
を逸脱すると高い回折効率の維持および感光特性の向上
が困難となるので好ましくない。
量は、高回折効率を有するホログラム記録を行うために
は10〜90重量%、好味しくは30〜70重量%であ
る0重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1個
以上有する化合物の使用量は、支持体であるポリ−N−
ビニルカルバゾール100重量部に対し10〜200重
量部、好ましくは40〜150重量部である。上記範囲
を逸脱すると高い回折効率の維持および感光特性の向上
が困難となるので好ましくない。
本発明で使用する光重合開始剤の内、式(I)のテトラ
ベンゾポルフィリン類又はその金属錯体は、ポリ−N−
ビニルカルバゾール100重量部に対し、0.1〜30
重量部、好ましくは0.5〜15重量部の範囲で使用さ
れる。使用量は、感光層膜厚と、該膜厚の光学密度によ
って制限を受は電子受容性ラジカル発生剤は、ポリ−N
−ビニルカルバゾール100重量部に対し、0.1〜2
0重量部、好ましくは1〜15重量部の範囲で使用され
る。
ベンゾポルフィリン類又はその金属錯体は、ポリ−N−
ビニルカルバゾール100重量部に対し、0.1〜30
重量部、好ましくは0.5〜15重量部の範囲で使用さ
れる。使用量は、感光層膜厚と、該膜厚の光学密度によ
って制限を受は電子受容性ラジカル発生剤は、ポリ−N
−ビニルカルバゾール100重量部に対し、0.1〜2
0重量部、好ましくは1〜15重量部の範囲で使用され
る。
[作用コ
本発明のホログラム記録用感光材料は、支持体としての
ポリ−N−ビニルカルバゾール、重合可能なエチレン性
不飽和結合を少なくとも1個有する化合物、および60
0nm以上の赤色レーザー光照射によってラジカルを発
生できるテトラベンゾポルフィリン類と電子受容性のラ
ジカル発生剤との組合わせからなる。
ポリ−N−ビニルカルバゾール、重合可能なエチレン性
不飽和結合を少なくとも1個有する化合物、および60
0nm以上の赤色レーザー光照射によってラジカルを発
生できるテトラベンゾポルフィリン類と電子受容性のラ
ジカル発生剤との組合わせからなる。
ホログラム記録において、該光重合性の感光材料にレー
ザー光を照射すると、該レーザー照射部位中米干渉作用
の強い部位においては、重合可能なエチレン性不飽和結
合を少なくとも1個有する化合物の重合反応が生じ支持
体としてのポリ−N−ビニルカルバゾールと共に網目を
形成し、現像処理用有機溶媒に対し不溶となる。レーザ
ー照射部位中米干渉作用の弱い部位においては、重合可
能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1個有する化合
物の重合反応を生じないか、あるいは重合度が低いため
、該現像処理用有機溶媒によって、該重合可能なエチレ
ン性不飽和結合を少なくとも1個有する化合物が溶解し
、感光層中から除去される。これにより両部位において
密度差を生じ、その結果屈折率差を生じホログラム記録
が行われるものと推量される。その際、支持体として屈
折率の高い材料であるポリ−N−ビニルカルバゾールを
使用することにより、屈折率差を大きくすることが可能
となり、高回折効率のホログラム記録が達成されたもの
と推量される。
ザー光を照射すると、該レーザー照射部位中米干渉作用
の強い部位においては、重合可能なエチレン性不飽和結
合を少なくとも1個有する化合物の重合反応が生じ支持
体としてのポリ−N−ビニルカルバゾールと共に網目を
形成し、現像処理用有機溶媒に対し不溶となる。レーザ
ー照射部位中米干渉作用の弱い部位においては、重合可
能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1個有する化合
物の重合反応を生じないか、あるいは重合度が低いため
、該現像処理用有機溶媒によって、該重合可能なエチレ
ン性不飽和結合を少なくとも1個有する化合物が溶解し
、感光層中から除去される。これにより両部位において
密度差を生じ、その結果屈折率差を生じホログラム記録
が行われるものと推量される。その際、支持体として屈
折率の高い材料であるポリ−N−ビニルカルバゾールを
使用することにより、屈折率差を大きくすることが可能
となり、高回折効率のホログラム記録が達成されたもの
と推量される。
(実施例)
以下実施例に基づき、本発明をより詳細に説明する。以
下の各側において、部は特に断りの無い限り重量部を表
す。
下の各側において、部は特に断りの無い限り重量部を表
す。
実施例1
ポリ−N−ビニルカルバゾール 100部(商品名ツ
ビコールT−210,亜南香料産業(株)製) インシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリアクリレー
ト (商品名 アロニツクスM−315、東亜合成化学工業
(株)製) 700部メソ−ジフ
ェニルテトラベンゾポルフィリン鉛
4部ジフェニルヨー
ドニウムへキサフルオロホスフェート
5部ジオキサン
900部上記組成からなる感光液を50X50X2
mmのガラス板上に、感光液乾燥後の膜厚が10μmと
なるように4MILアプリケーターを用いて塗布し、ホ
ログラム記録用感光板を作成した。
ビコールT−210,亜南香料産業(株)製) インシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリアクリレー
ト (商品名 アロニツクスM−315、東亜合成化学工業
(株)製) 700部メソ−ジフ
ェニルテトラベンゾポルフィリン鉛
4部ジフェニルヨー
ドニウムへキサフルオロホスフェート
5部ジオキサン
900部上記組成からなる感光液を50X50X2
mmのガラス板上に、感光液乾燥後の膜厚が10μmと
なるように4MILアプリケーターを用いて塗布し、ホ
ログラム記録用感光板を作成した。
この感光板に、第1図に示すホログラム作製用光学系で
He−Neレーザ−633nm光を用いてホログラム記
録を実施した後、キシレンとトルエンの容量比1:1か
らなる混合溶媒に2分間浸漬し感光層を現像および膨潤
処理した。ついで、n−へブタン中に浸漬して収縮処理
し、リップマン型ホログラムを作製した。
He−Neレーザ−633nm光を用いてホログラム記
録を実施した後、キシレンとトルエンの容量比1:1か
らなる混合溶媒に2分間浸漬し感光層を現像および膨潤
処理した。ついで、n−へブタン中に浸漬して収縮処理
し、リップマン型ホログラムを作製した。
露光量を変えてホログラムを作製したときの露光量と回
折効率との関係を第2図に示す。
折効率との関係を第2図に示す。
露光量50 m J / c m ’で回折効率60%
のホログラムが作製された。このホログラムを25℃、
60%RHの環境下に180日間放置しても回折効率の
低下は認められなかった。
のホログラムが作製された。このホログラムを25℃、
60%RHの環境下に180日間放置しても回折効率の
低下は認められなかった。
実施例2〜4
実施例1において、メソ−ジフェニルテトラベンゾポル
フィリンの中心金属をそれぞれカドミウム、マグネシウ
ムおよびパラジウムに変えて感光液を作成し、実施例1
と同様に操作して得られたりツブマン型ホログラムの回
折効率60%に達するに必要な露光量を第1表に示した
。
フィリンの中心金属をそれぞれカドミウム、マグネシウ
ムおよびパラジウムに変えて感光液を作成し、実施例1
と同様に操作して得られたりツブマン型ホログラムの回
折効率60%に達するに必要な露光量を第1表に示した
。
第1表
X亘1 史血皇且J −1」JL−一−(m
J / c m 2) I Zn 50 2 Cd 40 3 Mg 70 4 Pd 70 実施例5〜7 実施例1において、電子受容性ラジカル発生剤としてジ
フェニルヨードニウムへキサフルオロホスフエートを、
それぞれ2.4.6−トリス(トリクロロメチル)−1
,3,5−)リアジン、(η6−クメン) (η“−ジ
クロロペンタジェニル)鉄へキサフルオロホスフェート
、ジメチルフェナシルスルホニウムヘキサフルオロホス
フェートに変えて感光液を作成し、実施例1と同様に操
作して得られたりツブマン型ホログラムの回折効率60
%に達するに必要な露光量を第2表に示した。
J / c m 2) I Zn 50 2 Cd 40 3 Mg 70 4 Pd 70 実施例5〜7 実施例1において、電子受容性ラジカル発生剤としてジ
フェニルヨードニウムへキサフルオロホスフエートを、
それぞれ2.4.6−トリス(トリクロロメチル)−1
,3,5−)リアジン、(η6−クメン) (η“−ジ
クロロペンタジェニル)鉄へキサフルオロホスフェート
、ジメチルフェナシルスルホニウムヘキサフルオロホス
フェートに変えて感光液を作成し、実施例1と同様に操
作して得られたりツブマン型ホログラムの回折効率60
%に達するに必要な露光量を第2表に示した。
第2表
幻l 動011 −IuL−一
(mJ/cm”)
5 A 80
5 B 200
7 C140
注:A:2,4.6−)リス(トリクロロメチル)−1
,3,5−)リアジン、 B;(ηロークメン) (η6−ジクロロペンタジェニ
ル)鉄へキサフルオロホスフェート、C;ジメチルフェ
ナシルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート 実施例8.9 実施例1においてテトラベンゾポルフィリンをメソ−テ
トラフェニルテトラベンゾポルフィリン、2.9.16
.23−テトラ−tert−ブチルテトラベンゾポルフ
ィリンマグネシウムにそれぞれ変えて感光液を作成した
。He−Neレーザ−633nmに変えてKrレーザ−
647nmを用いた他は実施例1と同様に操作してリッ
プマン型ホログラムを作製した。
,3,5−)リアジン、 B;(ηロークメン) (η6−ジクロロペンタジェニ
ル)鉄へキサフルオロホスフェート、C;ジメチルフェ
ナシルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート 実施例8.9 実施例1においてテトラベンゾポルフィリンをメソ−テ
トラフェニルテトラベンゾポルフィリン、2.9.16
.23−テトラ−tert−ブチルテトラベンゾポルフ
ィリンマグネシウムにそれぞれ変えて感光液を作成した
。He−Neレーザ−633nmに変えてKrレーザ−
647nmを用いた他は実施例1と同様に操作してリッ
プマン型ホログラムを作製した。
第3表に回折効率60%に達するに必要な露光量を示し
た。
た。
第3表
夾鳳1 もg倉11 −1允1−一−(mJ/cm
’) 8 D 1009
E 80注:D;メソ−テト
ラフェニルテトラベンゾポルフィリン、 E、2.9.16.23−テトラ−tert−ブチルテ
トラベンゾポルフィリンマグネシウム比較例1 実施例1におけるポリ−N−ビニルカルバゾールを屈折
率が1.49であるポリメチルメタクリレートに、また
現像・膨潤溶媒をエタノールに変えた以外は実施例1と
同様に操作してホログラム記録を行った。
’) 8 D 1009
E 80注:D;メソ−テト
ラフェニルテトラベンゾポルフィリン、 E、2.9.16.23−テトラ−tert−ブチルテ
トラベンゾポルフィリンマグネシウム比較例1 実施例1におけるポリ−N−ビニルカルバゾールを屈折
率が1.49であるポリメチルメタクリレートに、また
現像・膨潤溶媒をエタノールに変えた以外は実施例1と
同様に操作してホログラム記録を行った。
露光量80mJ/cm’ではホログラム記録は可能であ
ったが、その回折効率は10%であった。
ったが、その回折効率は10%であった。
比較例2
実施例1におけるポリ−N−ビニルカルバゾールを屈折
率が1.59であるポリスチレンに、また現像・膨潤溶
媒をベンゼン/エタノールの1=1混合溶媒に変えた以
外は実施例1と同様に操作して、ホログラム記録を行っ
た。
率が1.59であるポリスチレンに、また現像・膨潤溶
媒をベンゼン/エタノールの1=1混合溶媒に変えた以
外は実施例1と同様に操作して、ホログラム記録を行っ
た。
露光量80 m J / c m ”でホログラム記録
は可能であったが、その回折効率は40%であった。
は可能であったが、その回折効率は40%であった。
比較例3
実施例1におけるポリ−N−ビニルカルバゾールを屈折
率が1.53であるポリビニルピロリドンに、また現像
・膨潤溶媒を酢酸エチルに変えた以外は、実施例1と同
様に操作してホログラム記録を行った。
率が1.53であるポリビニルピロリドンに、また現像
・膨潤溶媒を酢酸エチルに変えた以外は、実施例1と同
様に操作してホログラム記録を行った。
露光量40 m J / c rri 2でホログラム
記録は可能であったが、その回折効率は20%であった
。
記録は可能であったが、その回折効率は20%であった
。
また支持体であるポリビニルピロリドンの耐湿性不良の
ため、1日保存後ホログラム記録は完全に消失した。
ため、1日保存後ホログラム記録は完全に消失した。
比較例4
実施例1において、ポリ−N−ビニルカルバゾールを除
いた組成物を用いた以外は実施例1と同様に操作してホ
ログラム記録を行ったが、ホログラム記録は全く出来な
かった。
いた組成物を用いた以外は実施例1と同様に操作してホ
ログラム記録を行ったが、ホログラム記録は全く出来な
かった。
実施例1および比較例1〜4の測定結果を第4表に示す
。
。
第4表
支丘体 星近坐 露光1 皿近勿亭保充五−(鴫J/e
m2) ($) 実施例I A 1.59 50 60 1
80日以比較例I B 1.49 80 1
0 180日以比較例2 C1,59803018
0日以比較例3 D 1.53 40 20
1比較下比叙例4 E −ホログラム記録不
可能注: A:ボリーN−ビニルカルバゾール B:ポリメチルメタクリレート C:ポリスチレン D:ポリビニルピロリドン 保存性:25℃、60%RH環境下における回り効率の
半減期 [発明の効果] 本発明によれば、従来のホログラム記録用感潜材料では
達成できなかった600nm以上の長沼長レーザー光に
対して優れた感光特性を有し、丑学的に安定であり、か
つ高解像度、高回折効率を有するホログラム記録用感光
材料が提供される。
m2) ($) 実施例I A 1.59 50 60 1
80日以比較例I B 1.49 80 1
0 180日以比較例2 C1,59803018
0日以比較例3 D 1.53 40 20
1比較下比叙例4 E −ホログラム記録不
可能注: A:ボリーN−ビニルカルバゾール B:ポリメチルメタクリレート C:ポリスチレン D:ポリビニルピロリドン 保存性:25℃、60%RH環境下における回り効率の
半減期 [発明の効果] 本発明によれば、従来のホログラム記録用感潜材料では
達成できなかった600nm以上の長沼長レーザー光に
対して優れた感光特性を有し、丑学的に安定であり、か
つ高解像度、高回折効率を有するホログラム記録用感光
材料が提供される。
第1図は、ホログラム作製用2光束露光装置のブロック
図を示し、第2図は作製されたホログラムのレーザー露
光量と回折効率との関係を示すグラフである。 1:レーザー 2:ビームスプリッタ−3,4,5
:ミラー 6.7,8.9:レンズ 10.11:ピンホール 12:感光板
図を示し、第2図は作製されたホログラムのレーザー露
光量と回折効率との関係を示すグラフである。 1:レーザー 2:ビームスプリッタ−3,4,5
:ミラー 6.7,8.9:レンズ 10.11:ピンホール 12:感光板
Claims (2)
- (1)ポリ−N−ビニルカルバゾール、重合可能なエチ
レン性不飽和結合を少なくとも1個以上有する化合物お
よび下記光重合開始剤 式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは水素原子、アルキル基または置換基を有し
てもよい芳香族性残基を表し、各ベンゼン環は置換基と
してアルキル基またはアルコキシ基を有してもよい) のテトラベンゾポルフィリン類またはその金属錯体と電
子受容性ラジカル発生剤との組合わせ、とからなること
を特徴とするホログラム記録用感光材料。 - (2)電子受容性ラジカル発生剤が、オニウム塩化合物
、鉄アレン化合物および少なくとも1つのモノ、ジ、あ
るいはトリハロメチル基により置換されたs−トリアジ
ンから選ばれた少なくとも1種の電子受容性ラジカル発
生剤である請求項1記載のホログラム記録用感光材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7849090A JPH03278082A (ja) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | ホログラム記録用感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7849090A JPH03278082A (ja) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | ホログラム記録用感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03278082A true JPH03278082A (ja) | 1991-12-09 |
Family
ID=13663421
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7849090A Pending JPH03278082A (ja) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | ホログラム記録用感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03278082A (ja) |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5020713A (ja) * | 1973-06-21 | 1975-03-05 | ||
| JPS6078442A (ja) * | 1983-10-04 | 1985-05-04 | Agency Of Ind Science & Technol | 光硬化性樹脂組成物 |
| JPS63243102A (ja) * | 1987-03-30 | 1988-10-11 | Agency Of Ind Science & Technol | 光硬化性樹脂組成物 |
| JPS6435545A (en) * | 1987-07-31 | 1989-02-06 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | Resist composition used for processing with charged particle beam |
| JPH01216383A (ja) * | 1988-02-24 | 1989-08-30 | Fujitsu Ltd | ホログラム記録材料 |
| JPH02889A (ja) * | 1988-02-16 | 1990-01-05 | Canon Inc | ホログラム記録方法 |
| JPH0281080A (ja) * | 1988-09-19 | 1990-03-22 | Fujitsu Ltd | ホログラム記録材料 |
-
1990
- 1990-03-27 JP JP7849090A patent/JPH03278082A/ja active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH01216383A (ja) * | 1988-02-24 | 1989-08-30 | Fujitsu Ltd | ホログラム記録材料 |
| JPH0281080A (ja) * | 1988-09-19 | 1990-03-22 | Fujitsu Ltd | ホログラム記録材料 |
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