JPH03280447A - 基板有無検出方法 - Google Patents
基板有無検出方法Info
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- JPH03280447A JPH03280447A JP2081899A JP8189990A JPH03280447A JP H03280447 A JPH03280447 A JP H03280447A JP 2081899 A JP2081899 A JP 2081899A JP 8189990 A JP8189990 A JP 8189990A JP H03280447 A JPH03280447 A JP H03280447A
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- wafers
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Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、基板有無検出方法に関する。
(従来の技術)
周知の如く、半導体製造工程等においては、従来から基
板例えば半導体基板(半導体ウェハ)の搬送は、複数例
えば25枚程度の半導体ウェハを収容可能に構成された
樹脂等からなるカセット(ウェハカセット)を用いてい
る。また、このような半導体製造工程においては、クリ
ーン化等のために無人化が図られており、各種工程では
、自動化が行われている。
板例えば半導体基板(半導体ウェハ)の搬送は、複数例
えば25枚程度の半導体ウェハを収容可能に構成された
樹脂等からなるカセット(ウェハカセット)を用いてい
る。また、このような半導体製造工程においては、クリ
ーン化等のために無人化が図られており、各種工程では
、自動化が行われている。
このため、半導体製造装置、例えばイオン注入装置、プ
ローブ装置、エツチング装置、成膜装置等においては、
半導体ウェハをウエノ1カセットに搬出入するための基
板搬出入装置を設け、人手を介さずに自動的に半導体ウ
エノ\をロード・アンロードして処理を実行するよう構
成されたものが多い。
ローブ装置、エツチング装置、成膜装置等においては、
半導体ウェハをウエノ1カセットに搬出入するための基
板搬出入装置を設け、人手を介さずに自動的に半導体ウ
エノ\をロード・アンロードして処理を実行するよう構
成されたものが多い。
一般に、このような基板搬出入装置では、半導体ウェハ
がほぼ水平になるようウェハカセットを縦置きし、ウェ
ハハンドリングアーム等により半導体ウェハの下面(素
子の形成されていない面)を支持して搬入・搬出を行う
よう構成されている。
がほぼ水平になるようウェハカセットを縦置きし、ウェ
ハハンドリングアーム等により半導体ウェハの下面(素
子の形成されていない面)を支持して搬入・搬出を行う
よう構成されている。
また、基板搬出入装置には、ウェハカセット内の半導体
ウェハの有無を検出する基板有無検出機構が設けられて
いる。
ウェハの有無を検出する基板有無検出機構が設けられて
いる。
従来、一般にこのような基板有無検出機構は、光ビーム
を照射する発光素子と、ウェハカセットを挟んで発光素
子に対向する如く設けられた受光素子から構成されてお
り、これらの発光素子と受光素子は、光ビームが半導体
ウェハ面と所定角度となるよう固定されている。そして
、受光素子によって光ビームが検出されない場合は半導
体ウェハが存在し、光ビームが検出された場合は半導体
ウェハが存在しないと認識するよう構成されている。
を照射する発光素子と、ウェハカセットを挟んで発光素
子に対向する如く設けられた受光素子から構成されてお
り、これらの発光素子と受光素子は、光ビームが半導体
ウェハ面と所定角度となるよう固定されている。そして
、受光素子によって光ビームが検出されない場合は半導
体ウェハが存在し、光ビームが検出された場合は半導体
ウェハが存在しないと認識するよう構成されている。
また、発光素子と受光素子とを一体的に上下動させる機
構あるいはウェハカセットを上下動させる機構等、ウェ
ハカセットと、発光素子および受光素子とを相対的に上
下動させる機構が設けられており、この機構により、半
導体ウェハの搬入・搬出を開始する前にスキャンニング
を行い、ウェハカセット内のどこに半導体ウェハが存在
するかを予め認識しておき、この後、ウェハハンドリン
グアーム等により、半導体ウェハの搬入・搬出を開始す
るよう構成されている。
構あるいはウェハカセットを上下動させる機構等、ウェ
ハカセットと、発光素子および受光素子とを相対的に上
下動させる機構が設けられており、この機構により、半
導体ウェハの搬入・搬出を開始する前にスキャンニング
を行い、ウェハカセット内のどこに半導体ウェハが存在
するかを予め認識しておき、この後、ウェハハンドリン
グアーム等により、半導体ウェハの搬入・搬出を開始す
るよう構成されている。
なお、一般に基板搬出入装置は、例えば4インチ、6イ
ンチ、8インチ等の径の異なる半導体ウェハを取り扱え
るよう構成されている。
ンチ、8インチ等の径の異なる半導体ウェハを取り扱え
るよう構成されている。
(発明が解決しようとする課!fi)
しかしながら、上述した基板搬出入装置では、例えば振
動等により半導体ウェハがウェハカセットから飛び出し
、所定位置からずれた場合等においては、上下の半導体
ウェハからの反射光の影響(半導体ウェハ面は鏡面とさ
れている)等もあり、誤検出を起こし、正常な搬入・搬
出が行えなくなる場合があった。
動等により半導体ウェハがウェハカセットから飛び出し
、所定位置からずれた場合等においては、上下の半導体
ウェハからの反射光の影響(半導体ウェハ面は鏡面とさ
れている)等もあり、誤検出を起こし、正常な搬入・搬
出が行えなくなる場合があった。
本発明は、かかる従来の事情に対処してなされたもので
、基板の有無を正確に検出することができ、誤動作の発
生可能性を従来に較べて大幅に低減することのできる基
板有無検出方法を提供しようとするものである。
、基板の有無を正確に検出することができ、誤動作の発
生可能性を従来に較べて大幅に低減することのできる基
板有無検出方法を提供しようとするものである。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
すなわち本発明は、予め定められた間隔で収容された複
数枚の基板の有無を、基板に体して斜交するように光ビ
ームにより照射し、その透過光または反射光から検出す
るに際し、少なくとも、前記基板の有無の判定が不明の
時、前記基板面への前記光ビームの入射角を変更させて
検出する手段を具備してなることを特徴とする。
数枚の基板の有無を、基板に体して斜交するように光ビ
ームにより照射し、その透過光または反射光から検出す
るに際し、少なくとも、前記基板の有無の判定が不明の
時、前記基板面への前記光ビームの入射角を変更させて
検出する手段を具備してなることを特徴とする。
(作 用)
本発明の基板有無検出方法では、光ビームと基板面との
角度を最適に設定する。したがって、基板の有無を正確
に検出することができ、誤動作の発生可能性を従来に較
べて大幅に低減することができる。
角度を最適に設定する。したがって、基板の有無を正確
に検出することができ、誤動作の発生可能性を従来に較
べて大幅に低減することができる。
(実施例)
以下、本発明方法を半導体ウェハの搬入・搬出を行う基
板搬出入装置に適用した一実施例を図面を参照して説明
する。
板搬出入装置に適用した一実施例を図面を参照して説明
する。
第1図および第2図に示すように、この実施例の基板搬
出入装置には、複数の半導体ウェハ11を収容可能に構
成されたウェハカセット12を載置するためのカセット
載置台13が設けられている。
出入装置には、複数の半導体ウェハ11を収容可能に構
成されたウェハカセット12を載置するためのカセット
載置台13が設けられている。
なお、上記カセット載置台13は、図示しない駆動機構
により、上下動可能に構成されているが、カセット載置
台13を固定とし、後述する発光素子15と受光素子1
6を上下動させるよう構成してもよい。但し、カセット
載置台13を固定とすると、ウェハカセット12に半導
体ウェハ11を搬入・搬出するウェハハンドリングアー
ム等を上下動させるよう構成する必要がある。
により、上下動可能に構成されているが、カセット載置
台13を固定とし、後述する発光素子15と受光素子1
6を上下動させるよう構成してもよい。但し、カセット
載置台13を固定とすると、ウェハカセット12に半導
体ウェハ11を搬入・搬出するウェハハンドリングアー
ム等を上下動させるよう構成する必要がある。
また、上記ウェハカセット12内の半導体ウェハ11の
有無を検出する機構として、次のような基板検出機構が
設けられている。
有無を検出する機構として、次のような基板検出機構が
設けられている。
すなわち、上記ウェハカセット12を挾んで、光ビーム
14を照射する発光素子15と、受光素子16が設けら
れている。これらの発光素子15と受光素子16は、コ
テ状に形成された支持部材17の両側端部にそれぞれ内
側を向けて対向する如く設けられており、発光素子15
から射出された光ビーム14が受光素子16に入射する
ようその光軸を合せて固定されている。
14を照射する発光素子15と、受光素子16が設けら
れている。これらの発光素子15と受光素子16は、コ
テ状に形成された支持部材17の両側端部にそれぞれ内
側を向けて対向する如く設けられており、発光素子15
から射出された光ビーム14が受光素子16に入射する
ようその光軸を合せて固定されている。
また、上記支持部材17は、その中間部に設けられた回
転軸18によって図示しないフレームに支持されており
、第2図に矢印で示す如く、この回転軸18を中心とし
て図示しないモータにより所定角度、例えば数度ないし
士数度程度回転可能に構成されている。すなわち、回転
軸18を中心として支持部材17を回転させることによ
り、半導体ウェハ11の面と先ビーム14との角度θを
調節可能とする角度調節機構が構成されている。
転軸18によって図示しないフレームに支持されており
、第2図に矢印で示す如く、この回転軸18を中心とし
て図示しないモータにより所定角度、例えば数度ないし
士数度程度回転可能に構成されている。すなわち、回転
軸18を中心として支持部材17を回転させることによ
り、半導体ウェハ11の面と先ビーム14との角度θを
調節可能とする角度調節機構が構成されている。
なお、従来の基板搬出入装置と同様に、上記カセット載
置台13の側方には、ウェハカセット12に半導体ウェ
ハ11を搬入・搬出するための図示しないウェハハンド
リングアーム等が設けられている。
置台13の側方には、ウェハカセット12に半導体ウェ
ハ11を搬入・搬出するための図示しないウェハハンド
リングアーム等が設けられている。
上記構成のこの実施例の基板搬出入装置は、半導体製造
装置例えばイオン注入装置、プローブ装置、エツチング
装置、成膜装置等に設けられ、これらの装置の所定位置
にウェハカセット12内の半導体ウェハ11を自動的に
ロード・アンロードする機構として用いられる。この際
、ウェハハンドリングアーム等による半導体ウェハ11
の搬入・搬出を開始する前に、発光素子15から光ビー
ム14を照射した状態で、カセット載置台13を上昇あ
るいは下降させることにより、カセット載置台13が発
光素子15と受光素子16の間を通過するよう移動させ
、半導体ウエノ111の有無検出のスキャンニングを行
う。すなわち、カセット載置台13内に半導体ウエノ\
11が存在する場合は、発光素子15から射出された光
ビーム14がこの半導体ウニ/\11によって遮られ、
受光素子16に入射しなくなるので、受光素子16によ
って光ビーム14が検出されたか否かで、半導体ウェハ
11の有無を検知する。
装置例えばイオン注入装置、プローブ装置、エツチング
装置、成膜装置等に設けられ、これらの装置の所定位置
にウェハカセット12内の半導体ウェハ11を自動的に
ロード・アンロードする機構として用いられる。この際
、ウェハハンドリングアーム等による半導体ウェハ11
の搬入・搬出を開始する前に、発光素子15から光ビー
ム14を照射した状態で、カセット載置台13を上昇あ
るいは下降させることにより、カセット載置台13が発
光素子15と受光素子16の間を通過するよう移動させ
、半導体ウエノ111の有無検出のスキャンニングを行
う。すなわち、カセット載置台13内に半導体ウエノ\
11が存在する場合は、発光素子15から射出された光
ビーム14がこの半導体ウニ/\11によって遮られ、
受光素子16に入射しなくなるので、受光素子16によ
って光ビーム14が検出されたか否かで、半導体ウェハ
11の有無を検知する。
そして、上記スキャンニングによって得られた情報をメ
モリー等に記憶しておき、この情報に従ってウェハハン
ドリングアーム等による半導体ウェハ11の搬入・搬出
を実施する。例えば、ウェハカセット12内から半導体
ウエノ\11を搬出する際には、半導体ウニ/\11が
有ると認識された部位のみについてウエノ\ノ\ンドリ
ングアーム等による半導体ウエノ\11の搬出動作を行
う。
モリー等に記憶しておき、この情報に従ってウェハハン
ドリングアーム等による半導体ウェハ11の搬入・搬出
を実施する。例えば、ウェハカセット12内から半導体
ウエノ\11を搬出する際には、半導体ウニ/\11が
有ると認識された部位のみについてウエノ\ノ\ンドリ
ングアーム等による半導体ウエノ\11の搬出動作を行
う。
また、第3図に示すように、例えば径の小さな半導体ウ
ェハlla等を取り扱う場合は、支持部材17を所定角
度回転させ、その半導体ウェハ11aの径に応じて半導
体ウェハllaの面と光ビーム14との角度をθからθ
1に変更する。
ェハlla等を取り扱う場合は、支持部材17を所定角
度回転させ、その半導体ウェハ11aの径に応じて半導
体ウェハllaの面と光ビーム14との角度をθからθ
1に変更する。
このように、半導体ウェハ径によって光ビーム14の入
射角度を変更すれば、あらゆる径の半導体ウェハ11に
対して最適なビーム角度でその有無を検出することがで
きる。すなわち、例えば第4図に示すように、径の小さ
な半導体ウェハ11aに対して、光ビーム14の角度が
θのままで検出を実施すると、先ビーム14の位置a
−b間では、半導体ウェハllaの検出が行えず、光ビ
ーム14の位置b −c間でのみ半導体ウェハllaの
検出を行うことになる。このため、光ビーム14の角度
を01とした場合に較べて検出精度が悪くなり、例えば
半導体ウェハ11aの位置がずれていたりすると誤検出
が起きる可能性が生じる。
射角度を変更すれば、あらゆる径の半導体ウェハ11に
対して最適なビーム角度でその有無を検出することがで
きる。すなわち、例えば第4図に示すように、径の小さ
な半導体ウェハ11aに対して、光ビーム14の角度が
θのままで検出を実施すると、先ビーム14の位置a
−b間では、半導体ウェハllaの検出が行えず、光ビ
ーム14の位置b −c間でのみ半導体ウェハllaの
検出を行うことになる。このため、光ビーム14の角度
を01とした場合に較べて検出精度が悪くなり、例えば
半導体ウェハ11aの位置がずれていたりすると誤検出
が起きる可能性が生じる。
また、検出精度を上げるためには、検出のスキャンニン
グを行う際に、スキャンニング速度(カセット載置台1
3の昇降速度)を遅くする必要等が生じ、スルーブツト
の低下を招くことになる。
グを行う際に、スキャンニング速度(カセット載置台1
3の昇降速度)を遅くする必要等が生じ、スルーブツト
の低下を招くことになる。
なお、最適なビーム角度は、半導体ウェハ径およびウェ
ハピッチ(半導体ウェハと半導体ウェハとの間隔)等の
位置関係によって決まるので、例えば半導体ウェハ径を
入力すれば自動的に最適なビーム角度に設定されるよう
、支持部材17を回転させるモータ等を制御することも
できる。また、支持部材17の回転をモータ等によらず
、手動で行うようにしてもよい。
ハピッチ(半導体ウェハと半導体ウェハとの間隔)等の
位置関係によって決まるので、例えば半導体ウェハ径を
入力すれば自動的に最適なビーム角度に設定されるよう
、支持部材17を回転させるモータ等を制御することも
できる。また、支持部材17の回転をモータ等によらず
、手動で行うようにしてもよい。
すなわち、この実施例の基板搬出入装置では、谷径の半
導体ウェハに対して、最適なビーム角度で精度良くその
有無を検出することができ、誤動作の発生可能性を従来
に較べて大幅に低減することができる。特にウェハカセ
ットの搬送時移動した半導体ウェハの有無検出が困難な
時、上記した光ビームの入射角を変えることにより、正
確な検出を実行できる効果がある。
導体ウェハに対して、最適なビーム角度で精度良くその
有無を検出することができ、誤動作の発生可能性を従来
に較べて大幅に低減することができる。特にウェハカセ
ットの搬送時移動した半導体ウェハの有無検出が困難な
時、上記した光ビームの入射角を変えることにより、正
確な検出を実行できる効果がある。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明の基板有無検出方法によれ
ば、従来に較べて基板の有無を正確に検出することがで
き、誤動作の発生可能性を従来に較べて大幅に低減する
ことができる。
ば、従来に較べて基板の有無を正確に検出することがで
き、誤動作の発生可能性を従来に較べて大幅に低減する
ことができる。
第1図および第2図は本発明の一実施例の基板搬出入装
置の基板検出機構の構成を示す図、第3図は光ビーム角
度の設定方法を説明するための図、第4図は光ビーム角
度固定の場合の検出状態を説明するための図である。 11・・・・・・半導体ウェハ、12・・・・・・ウェ
ハカセット、13・・・・・・カセット載置台、14・
・・・・・光ビーム、15・・・・・・発光素子、16
・・・・・・受光素子、17・・・・・・支持部材、1
8・・・・・・回転軸。
置の基板検出機構の構成を示す図、第3図は光ビーム角
度の設定方法を説明するための図、第4図は光ビーム角
度固定の場合の検出状態を説明するための図である。 11・・・・・・半導体ウェハ、12・・・・・・ウェ
ハカセット、13・・・・・・カセット載置台、14・
・・・・・光ビーム、15・・・・・・発光素子、16
・・・・・・受光素子、17・・・・・・支持部材、1
8・・・・・・回転軸。
Claims (1)
- (1)予め定められた間隔で収容された複数枚の基板の
有無を、基板に体して斜交するように光ビームにより照
射し、その透過光または反射光から検出するに際し、 少なくとも、前記基板の有無の判定が不明の時、前記基
板面への前記光ビームの入射角を変更させて検出する手
段を具備してなることを特徴とする基板有無検出方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2081899A JPH03280447A (ja) | 1990-03-28 | 1990-03-28 | 基板有無検出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2081899A JPH03280447A (ja) | 1990-03-28 | 1990-03-28 | 基板有無検出方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03280447A true JPH03280447A (ja) | 1991-12-11 |
Family
ID=13759292
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2081899A Pending JPH03280447A (ja) | 1990-03-28 | 1990-03-28 | 基板有無検出方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03280447A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0425151A (ja) * | 1990-05-21 | 1992-01-28 | Canon Inc | 薄板検出装置 |
| KR100499166B1 (ko) * | 1998-03-26 | 2005-09-26 | 삼성전자주식회사 | 환경주사전자현미경 및 이를 이용한 반도체 제조설비 분석방법 |
| JP2008053302A (ja) * | 2006-08-22 | 2008-03-06 | Tokyo Electron Ltd | 基板検知機構および基板収容容器 |
-
1990
- 1990-03-28 JP JP2081899A patent/JPH03280447A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0425151A (ja) * | 1990-05-21 | 1992-01-28 | Canon Inc | 薄板検出装置 |
| KR100499166B1 (ko) * | 1998-03-26 | 2005-09-26 | 삼성전자주식회사 | 환경주사전자현미경 및 이를 이용한 반도체 제조설비 분석방법 |
| JP2008053302A (ja) * | 2006-08-22 | 2008-03-06 | Tokyo Electron Ltd | 基板検知機構および基板収容容器 |
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