JPH0425151A - 薄板検出装置 - Google Patents
薄板検出装置Info
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- JPH0425151A JPH0425151A JP2129181A JP12918190A JPH0425151A JP H0425151 A JPH0425151 A JP H0425151A JP 2129181 A JP2129181 A JP 2129181A JP 12918190 A JP12918190 A JP 12918190A JP H0425151 A JPH0425151 A JP H0425151A
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Geophysics And Detection Of Objects (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、薄板収納用のキャリアに対して薄板薄板を搬
出入するための装置に関し、特に、半導体焼付装置や表
面検査装置等の半導体製造装置において、マスク、レヂ
クルまたは半導体ウェハ等の薄板をキャリアから取り出
したり、キャリア内に収納するために用いて好適な薄板
搬出入装置に関する。
出入するための装置に関し、特に、半導体焼付装置や表
面検査装置等の半導体製造装置において、マスク、レヂ
クルまたは半導体ウェハ等の薄板をキャリアから取り出
したり、キャリア内に収納するために用いて好適な薄板
搬出入装置に関する。
［従来の技術］
第２図 （ａ）〜（Ｃ）は、従来のウェハ搬出入装置の
一例を示す。図の装置においては、複数枚のウェハ１を
収納したキャリア２から所定のウェハ１をハント３によ
り搬出入する場合、以下のように行なっていた。
一例を示す。図の装置においては、複数枚のウェハ１を
収納したキャリア２から所定のウェハ１をハント３によ
り搬出入する場合、以下のように行なっていた。
発光素子４から光ビームＬをウェハ１の平面に対し平行
に入射し、これを受光素子５て検知する。エレベータ機
構（駆動部は不図示）７によりキャリア２を上下に駆動
することによって、ウェハ１かビームを遮断し、第２図
（Ｃ）の如き信号が受光素子５に検出され半導体メモリ
等に記憶される。
に入射し、これを受光素子５て検知する。エレベータ機
構（駆動部は不図示）７によりキャリア２を上下に駆動
することによって、ウェハ１かビームを遮断し、第２図
（Ｃ）の如き信号が受光素子５に検出され半導体メモリ
等に記憶される。
第２図（Ｃ）の信号に対し一定のスライスレヘルを設定
することにより、任意のウェハ１の位置（所定の基準位
置からの高さ）を求めることかできる。この位置（高さ
）データからハンド３の高さに対する任意のウェハ１の
相対位置（ａ、 ｂ・・・・、ｅ）を算出し、エレベ
ータ７を駆動することによってハント３と任意のウェハ
１の高さを合わせていた。
することにより、任意のウェハ１の位置（所定の基準位
置からの高さ）を求めることかできる。この位置（高さ
）データからハンド３の高さに対する任意のウェハ１の
相対位置（ａ、 ｂ・・・・、ｅ）を算出し、エレベ
ータ７を駆動することによってハント３と任意のウェハ
１の高さを合わせていた。
［発明か解決しようとする課題］
しかしなから、従来例ては以下のような欠点かあった。
これを、第２図（ｂ） 、 （Ｃ）を用いて説明する
。ずなわち、ウェハ１とビームが平行に配置するため、
第２図（ｂ）の如くウェハ１が僅かな角度αたけ傾いた
場合、ビームＬはウェハ１の表面て反則しビームＬ°
となフて受光素子５で検知される。したかって、本来ウ
ェハ１て遮断されるへきビームしか受光素子５で検知さ
れ、あたかもその位置にはウェハ１か無いという誤検知
をしてしまう。
。ずなわち、ウェハ１とビームが平行に配置するため、
第２図（ｂ）の如くウェハ１が僅かな角度αたけ傾いた
場合、ビームＬはウェハ１の表面て反則しビームＬ°
となフて受光素子５で検知される。したかって、本来ウ
ェハ１て遮断されるへきビームしか受光素子５で検知さ
れ、あたかもその位置にはウェハ１か無いという誤検知
をしてしまう。
これを第２図（Ｃ）て見る。ウェハ１の傾ぎか無い時の
受光素子５の理想的な出力信号を°゛実線゛。
受光素子５の理想的な出力信号を°゛実線゛。
て示す時、傾きがあるウェハでは点線で表わしたように
信号がずれてしまう。このずれｉｃ’ −Ｃか検出誤差
となり、この検出信号に従ってハント３をキャリア２内
に挿入した場合、ハント３またはそのハント３に士答載
されたウェハがそこにあるウェハに接触してしまうおそ
れか生しる。
信号がずれてしまう。このずれｉｃ’ −Ｃか検出誤差
となり、この検出信号に従ってハント３をキャリア２内
に挿入した場合、ハント３またはそのハント３に士答載
されたウェハがそこにあるウェハに接触してしまうおそ
れか生しる。
加えて、ウェハが傾いていると検出するエツジの位置に
より゛検出条件゛が異フてしまう。すなわち、第２図（
ｂ）においてハント３か搬出入されるＰ 側のエツジと
反対側のＱ側のエツジのいずれかビームを遮光するかに
よって、受光素子５に対する距離が異なる位置で検出す
ることになる。エツジによる散乱の位置か異れば検出す
る信号の差となり、Ｐ側とＱ側とて検出差を生しる。Ｐ
側とＱ側のいずれを検出するかはウェハの傾ぎによるた
め特定することはて奸ず、補正てきないため検出誤差の
要因となっている。
より゛検出条件゛が異フてしまう。すなわち、第２図（
ｂ）においてハント３か搬出入されるＰ 側のエツジと
反対側のＱ側のエツジのいずれかビームを遮光するかに
よって、受光素子５に対する距離が異なる位置で検出す
ることになる。エツジによる散乱の位置か異れば検出す
る信号の差となり、Ｐ側とＱ側とて検出差を生しる。Ｐ
側とＱ側のいずれを検出するかはウェハの傾ぎによるた
め特定することはて奸ず、補正てきないため検出誤差の
要因となっている。
木発明は、」上記従来例における問題点に鑑みてノｚさ
れたもので、複数個の薄板を互いの平面を対向させかつ
所定の間隙をおいて保持可能なキャリアに対して薄板を
収納したり、取り出したりする薄板搬送装置において、
キャリア内の薄板が傾いた際の薄板の有無および位置の
誤検知を防止することを目的とする。
れたもので、複数個の薄板を互いの平面を対向させかつ
所定の間隙をおいて保持可能なキャリアに対して薄板を
収納したり、取り出したりする薄板搬送装置において、
キャリア内の薄板が傾いた際の薄板の有無および位置の
誤検知を防止することを目的とする。
［課題を解決するための手段および作用コ上記目的を達
成するため、本発明では、キャリア内の薄板の位置を検
出する手段と、キャリア番二対して薄板を収納および／
または取出する搬出入−Ｌ段とを具備する薄板搬出入装
置において、キャリア（・コ正常に収納された薄板の表
面に対し、入射ビームを予め仰りて配置したことを特徴
としてい木発明の１つの態様においては、薄板の搬出入
手段剥とその反対側のエツジのうち一方を検出する。
成するため、本発明では、キャリア内の薄板の位置を検
出する手段と、キャリア番二対して薄板を収納および／
または取出する搬出入−Ｌ段とを具備する薄板搬出入装
置において、キャリア（・コ正常に収納された薄板の表
面に対し、入射ビームを予め仰りて配置したことを特徴
としてい木発明の１つの態様においては、薄板の搬出入
手段剥とその反対側のエツジのうち一方を検出する。
［作用］
上記構成によれは、薄板の表面に対し入射ビームを傾け
たことにより、薄板の上面または下面の一方を検出する
ことかでき、薄板表面からの反射光を除去して、薄板の
正確な高さ検出を可能にすることかできる。また、搬出
入手段剥とその反対側のエツジの一方を検出するように
すれば、ビーム検出位置とビーム遮断位置との距離が一
定となり、薄板位置の検出誤差を小さくすることができ
る。
たことにより、薄板の上面または下面の一方を検出する
ことかでき、薄板表面からの反射光を除去して、薄板の
正確な高さ検出を可能にすることかできる。また、搬出
入手段剥とその反対側のエツジの一方を検出するように
すれば、ビーム検出位置とビーム遮断位置との距離が一
定となり、薄板位置の検出誤差を小さくすることができ
る。
［実施例］
以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第１の実施例
第１図（ａ） ｌｊ、本発明の第１の実施例に係るウェ
ハ１般出入装置の構成を示す。
ハ１般出入装置の構成を示す。
同図において、１ （Ａ、Ｂ、・・・・、Ｅ）は検出
対象とノ、＜るウェハである。２はウェハを収納するキ
ャリアで、エレベータ７上に搭載されている。
対象とノ、＜るウェハである。２はウェハを収納するキ
ャリアで、エレベータ７上に搭載されている。
３はウェハ１を搬出入するためのハント、４は半導体レ
ーザなとの発光素子、５はフオＩ−センサ等の受光素子
である。発光素子４からのビームは、ウェハ１て遮断さ
ねない場合、受光素子で検知される。６ａはビームを°
°所望の径゛°にするためのビンポールである。ビーム
径は小さい方が、５て検知される信号波形（第１図（Ｃ
）参照）かシャープとなり検出精度か向上する。但し、
小さくし過ぎると、光量か不足したり、ピンホールの回
折によりビーム拡かり角か大きくなったりして検出精度
か低下したり、検出不能となる。このため、ビンポール
６ａの大きさは、光源である発光素子４の発光部の大き
さや輝度とマツチングして決める必要かある。また、６
ｂはウェハエツジ等からの散乱光を遮断するためのピン
ホールである。
ーザなとの発光素子、５はフオＩ−センサ等の受光素子
である。発光素子４からのビームは、ウェハ１て遮断さ
ねない場合、受光素子で検知される。６ａはビームを°
°所望の径゛°にするためのビンポールである。ビーム
径は小さい方が、５て検知される信号波形（第１図（Ｃ
）参照）かシャープとなり検出精度か向上する。但し、
小さくし過ぎると、光量か不足したり、ピンホールの回
折によりビーム拡かり角か大きくなったりして検出精度
か低下したり、検出不能となる。このため、ビンポール
６ａの大きさは、光源である発光素子４の発光部の大き
さや輝度とマツチングして決める必要かある。また、６
ｂはウェハエツジ等からの散乱光を遮断するためのピン
ホールである。
ここで、発光素子４、受光素子５およびビンホル６ａ
６ｂからなる検出系９は、第１図（ｂｌの如く、ハン
ド３の搬出入方向において、収納されているウェハ平面
に対しθ傾りて配置しである。キャリア２内におけるウ
ェハ１の傾きαがα１〈２０′程度であれは、傾きθは
２０′くθ＜］°（時別回りを正）でよい。ハント３は
、ウェハ搬出入の際、検出系とメカ的に干渉しないよう
に、第１図（ａ）に示す如く、検出位置Ｈに列し文たり
ずらした位置にある。
６ｂからなる検出系９は、第１図（ｂｌの如く、ハン
ド３の搬出入方向において、収納されているウェハ平面
に対しθ傾りて配置しである。キャリア２内におけるウ
ェハ１の傾きαがα１〈２０′程度であれは、傾きθは
２０′くθ＜］°（時別回りを正）でよい。ハント３は
、ウェハ搬出入の際、検出系とメカ的に干渉しないよう
に、第１図（ａ）に示す如く、検出位置Ｈに列し文たり
ずらした位置にある。
今、エレベータ７から各ウェハＡ−Ｅまての高さをａｘ
ｅ（ウェハ下面まで）、基準位置からのエレベータの駆
動量をＸ、検出位置Ｈの高さをｂ、そして検出位置Ｈと
ハンド３の上面との距離をぶとする。
ｅ（ウェハ下面まで）、基準位置からのエレベータの駆
動量をＸ、検出位置Ｈの高さをｂ、そして検出位置Ｈと
ハンド３の上面との距離をぶとする。
エレベータ７を上方から下方へ駆動する時、ますウェハ
Ａの下面がビームＬを遮断し、センサ５の受光光量は小
さくなる。さらに、エレヘータフの駆動に伴い、ウェハ
Ａの上面がビームを通過するとき同受光光量は増加して
もとのレベルまで戻る。以下、ウェハＢ−Ｆについて同
様に受光光量か増減する。エレヘータフの駆動量Ｘに対
する検出位置Ｈの相対高さ（ｈ−ｘ）を横軸に出力信号
を表したものか第１図（Ｃ）である。
Ａの下面がビームＬを遮断し、センサ５の受光光量は小
さくなる。さらに、エレヘータフの駆動に伴い、ウェハ
Ａの上面がビームを通過するとき同受光光量は増加して
もとのレベルまで戻る。以下、ウェハＢ−Ｆについて同
様に受光光量か増減する。エレヘータフの駆動量Ｘに対
する検出位置Ｈの相対高さ（ｈ−ｘ）を横軸に出力信号
を表したものか第１図（Ｃ）である。
第１図の装置においては、前述の如く、ウェハ１の傾き
±αに対しそれ以上ビームＬを傾けていることにより、
必ずＰ側（ハント搬出入側）のエツジを検出しており、
加えてビームＬはウニへ下面で反射することはなく、ま
たウェハ上面で反射してもθ±２α傾いた方向に進んで
ビンポール６１〕で遮断される。したがフて、第１図（
Ｃ）の出力信号に刻し一定のスライスレベルを設定する
ことにより、ウニへの位置ａ、ｂ、・・・・、ｅを定め
ることかできる。ここで、ａ〜ｅはエレベータ」二面か
らウニへ下面までの高さを表している。これらの高さの
データをメモリ等に記憶しておき、任意のウェハ、例え
はウェハＡを搬出入する場合、基準位置からｂ ＝ａ−
ｆｌ （ｈ−ａ＝ｘ、ｆｌは検出位置とハント上面との
Ｖ巨１Ｉｌ（＋）たりエレベータを駆動し、ハンド上面
とウニへ下面の高さ合わせを行なう。
±αに対しそれ以上ビームＬを傾けていることにより、
必ずＰ側（ハント搬出入側）のエツジを検出しており、
加えてビームＬはウニへ下面で反射することはなく、ま
たウェハ上面で反射してもθ±２α傾いた方向に進んで
ビンポール６１〕で遮断される。したがフて、第１図（
Ｃ）の出力信号に刻し一定のスライスレベルを設定する
ことにより、ウニへの位置ａ、ｂ、・・・・、ｅを定め
ることかできる。ここで、ａ〜ｅはエレベータ」二面か
らウニへ下面までの高さを表している。これらの高さの
データをメモリ等に記憶しておき、任意のウェハ、例え
はウェハＡを搬出入する場合、基準位置からｂ ＝ａ−
ｆｌ （ｈ−ａ＝ｘ、ｆｌは検出位置とハント上面との
Ｖ巨１Ｉｌ（＋）たりエレベータを駆動し、ハンド上面
とウニへ下面の高さ合わせを行なう。
以上のようにウェハ１に列し検出ビームＬを傾Ｇづるこ
とにより次の効果が得られた。
とにより次の効果が得られた。
（１）ウェハかキャリア２中で傾いてもウェハ表面によ
る反射等の影響を受けない。
る反射等の影響を受けない。
（２）ハント側のウェハエツジと反対側のウェハエツジ
とを別々に検出てきる。
とを別々に検出てきる。
（３）これらにより、従来より検出精度の向上か実現さ
れた。
れた。
［他の実施例］
第３図（ａ）は、本発明の他の実施例を示す。同図（ｂ
）は同図（ａ）を左側面から見た図である。この装置は
、前記第１の実施例におりると同様の検出系を９Ａと９
Ｂとの２系列設り、図示のように配置したものである。
）は同図（ａ）を左側面から見た図である。この装置は
、前記第１の実施例におりると同様の検出系を９Ａと９
Ｂとの２系列設り、図示のように配置したものである。
検出系９Ａは第１の実施例にて述へた如くウェハＡ−Ｅ
の下面をハント搬出入側（Ｐ側）で検出し、検出系９Ｂ
は同様の方法てウェハＡ〜Ｅの上面を同しＰ側て検出す
る。このように配置したことによりウェハかキャリア２
のウェハ保持溝８（８ａ〜８ｅ）に段違いに（例えば図
中右側の保持溝８ａと左側の保持溝８ｂとに跨がって）
収納されていても検出てき、ハンド３か１般出入するス
ペースが確実に検出てきる。このようにウェハの検出位
置とハンド３の搬出入する位置か違うような動作も、エ
レベータの上下機構の停止精度が十分みあっていれは成
り立つ。
の下面をハント搬出入側（Ｐ側）で検出し、検出系９Ｂ
は同様の方法てウェハＡ〜Ｅの上面を同しＰ側て検出す
る。このように配置したことによりウェハかキャリア２
のウェハ保持溝８（８ａ〜８ｅ）に段違いに（例えば図
中右側の保持溝８ａと左側の保持溝８ｂとに跨がって）
収納されていても検出てき、ハンド３か１般出入するス
ペースが確実に検出てきる。このようにウェハの検出位
置とハンド３の搬出入する位置か違うような動作も、エ
レベータの上下機構の停止精度が十分みあっていれは成
り立つ。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば、薄板に対し検出
ビームを傾けたことにより、薄板かキャリア内で傾いて
もその影響を受すす、また、薄板の搬出入側のエツジと
反対側のエツジとを別々に検出できる。これにより、検
出精度の向上か実現された。
ビームを傾けたことにより、薄板かキャリア内で傾いて
もその影響を受すす、また、薄板の搬出入側のエツジと
反対側のエツジとを別々に検出できる。これにより、検
出精度の向上か実現された。
第１図（ａ）は、本発明の第１の実施例に係るウェハ搬
出入装置の概略構成図、 第１図（ｂ）は、第１図（ａ）の装置の要部拡大説明図
、 第１図（Ｃ）は、’ｆ（％ １図（ａ）の装置におりる
ウニへ位首と光ビーム検出出力との関係を表わすグラ乙 第２図（ａ）〜（Ｃ）は、従来例のそれぞれ第１図（ａ
）〜（Ｃ）に相当する図、そして 第３図（ａ）および（ｂ）は、本発明の第２の実施例に
係るウェハ搬出入装置の概略構成を示す側面図および正
面図である。 ＡＢ ２、キャリア ３ ハンド ４、発光素子 ５ 受光素子 ６ａ ６ｂ ７・エレベ ａ８ｂ ９Ａ ビンホール タ ・・ ・・ ８ ｅ ９Ｂ 検出系 ウェハ ウェハ保持溝 １ つ
出入装置の概略構成図、 第１図（ｂ）は、第１図（ａ）の装置の要部拡大説明図
、 第１図（Ｃ）は、’ｆ（％ １図（ａ）の装置におりる
ウニへ位首と光ビーム検出出力との関係を表わすグラ乙 第２図（ａ）〜（Ｃ）は、従来例のそれぞれ第１図（ａ
）〜（Ｃ）に相当する図、そして 第３図（ａ）および（ｂ）は、本発明の第２の実施例に
係るウェハ搬出入装置の概略構成を示す側面図および正
面図である。 ＡＢ ２、キャリア ３ ハンド ４、発光素子 ５ 受光素子 ６ａ ６ｂ ７・エレベ ａ８ｂ ９Ａ ビンホール タ ・・ ・・ ８ ｅ ９Ｂ 検出系 ウェハ ウェハ保持溝 １ つ
Claims (2)
- （１）複数個の薄板を互いの平面を対向させかつ所定の
間隙をおいて保持可能なキャリアに対して薄板を収納お
よび／または取出する薄板搬出入手段と、 前記薄板の平面に対して傾斜するが前記間隙を通過し得
る方向に光ビームを照射する発光手段およびこの発光手
段から前記間隙を通過して来た光を検出する受光手段を
有し、取り出すべき薄板の位置および／または薄板を収
納すべきキャリア内の位置における他の薄板の有無を非
接触で検出する検出手段と を具備することを特徴とする薄板搬出入装置。 - （２）前記検出手段が、前記薄板の前記搬出入手段側の
エッジまたは反対側のエッジを検出するものであること
を特徴とする請求項１記載の薄板搬出入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12918190A JP2826763B2 (ja) | 1990-05-21 | 1990-05-21 | 薄板検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12918190A JP2826763B2 (ja) | 1990-05-21 | 1990-05-21 | 薄板検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0425151A true JPH0425151A (ja) | 1992-01-28 |
| JP2826763B2 JP2826763B2 (ja) | 1998-11-18 |
Family
ID=15003147
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12918190A Expired - Fee Related JP2826763B2 (ja) | 1990-05-21 | 1990-05-21 | 薄板検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2826763B2 (ja) |
Citations (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5091263A (ja) * | 1973-12-12 | 1975-07-21 | ||
| JPS55117986A (en) * | 1979-03-06 | 1980-09-10 | Mitsubishi Electric Corp | Pressure release time measuring unit |
| JPS58184841U (ja) * | 1982-06-04 | 1983-12-08 | 株式会社日立製作所 | ウエ−ハ搬送装置 |
| JPS59113638A (ja) * | 1982-12-20 | 1984-06-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体ウエハ供給装置 |
| JPS6085536A (ja) * | 1983-10-17 | 1985-05-15 | Hitachi Ltd | ウエハ位置決め装置 |
| JPS6197587A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-05-16 | Omron Tateisi Electronics Co | 微小物体検出用光電スイツチ |
| JPS6197578A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-05-16 | Toshiba Corp | 測定パルス処理装置 |
| JPS61112640U (ja) * | 1984-12-26 | 1986-07-16 | ||
| JPS63289828A (ja) * | 1987-05-21 | 1988-11-28 | Tokyo Electron Ltd | ウエハカセツト |
| JPH02198152A (ja) * | 1989-01-27 | 1990-08-06 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | カセット内ウェハのハンドリング方法および装置 |
| JPH03280447A (ja) * | 1990-03-28 | 1991-12-11 | Tel Varian Ltd | 基板有無検出方法 |
-
1990
- 1990-05-21 JP JP12918190A patent/JP2826763B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5091263A (ja) * | 1973-12-12 | 1975-07-21 | ||
| JPS55117986A (en) * | 1979-03-06 | 1980-09-10 | Mitsubishi Electric Corp | Pressure release time measuring unit |
| JPS58184841U (ja) * | 1982-06-04 | 1983-12-08 | 株式会社日立製作所 | ウエ−ハ搬送装置 |
| JPS59113638A (ja) * | 1982-12-20 | 1984-06-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体ウエハ供給装置 |
| JPS6085536A (ja) * | 1983-10-17 | 1985-05-15 | Hitachi Ltd | ウエハ位置決め装置 |
| JPS6197587A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-05-16 | Omron Tateisi Electronics Co | 微小物体検出用光電スイツチ |
| JPS6197578A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-05-16 | Toshiba Corp | 測定パルス処理装置 |
| JPS61112640U (ja) * | 1984-12-26 | 1986-07-16 | ||
| JPS63289828A (ja) * | 1987-05-21 | 1988-11-28 | Tokyo Electron Ltd | ウエハカセツト |
| JPH02198152A (ja) * | 1989-01-27 | 1990-08-06 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | カセット内ウェハのハンドリング方法および装置 |
| JPH03280447A (ja) * | 1990-03-28 | 1991-12-11 | Tel Varian Ltd | 基板有無検出方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2826763B2 (ja) | 1998-11-18 |
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