JPH03283429A - 洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電気製品の部品を高精密に洗浄する洗浄装置
に関する。

〔従来の技術〕

従来のものは、洗浄ユニットとしてフロンを使用してい
た。フロンは、オゾン層に悪影響を与えるものである。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明はフロンを使用しないでよく洗浄のできるものを
提供することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、搬入ユニット、スプレー式純水洗浄ユニット
、エアナイフ乾燥ユニット、ＵＶ処理ユニット、冷却搬
出ユニット、被洗浄物の搬送方向に沿って配置したこと
を特徴とする。

〔作用〕

フロンを使用せずとも１、スプレー式洗浄ユニットでよ
く洗浄できるものである。

〔実施例〕

以下、本発明の一実施例を第１図より第３１図により説
明する。

第１図、第２図の洗浄装置１は搬入ユニット２゜純水洗
浄ユニット３．エアナイフ乾燥ユニット４゜ＵＶ処理ユ
ニット５．冷却搬出ユニット６、操作盤７．超音波発振
器台９とダクト１１．ダクト１２より構成される。超音
波発振器台９の内部には純水洗浄ユニット３内部のＵＳ
　（超音波）スプレー６２に高周波電圧を付与する超音
波発振器１０が配置される。又、搬入ユニット２．エア
ナイフ乾燥ユニット４．冷却搬出ユニット６の上部には
、フィルタ濾過にて清浄化された空気を送風するクリー
ンユニット８が配置される。ｔＪＶ処理ユニット５後方
に設けられたダクト１２にはＵＶ処理ユニット５より発
生するオゾンを分解するオゾンキラー１３が備えられる
。洗浄装置１の前面には非常灯１４が備えられる。

洗浄を受ける基板１４は搬入ユニット２より洗浄装置１
へ搬入されローラコンベアにより搬送される。この搬入
方法は人手にて行われる他、上流装置からの自動搬出に
伴って行われる場合もある。

搬入された基板１４の表面は純水洗浄ユニット３内の超
音波スプレー６２により例えば１．１ＭＨｚにて超音波
励振された水１７２Ｃを吐出され、洗浄を受ける。又裏
面は裏面用シャワーノズル６８より吐出される水１７２
Ｃにより洗浄され、仕上シャワーノズル６４より吐出さ
れる水１７２ｂにより洗浄される。これにより基板１４
上に付着していた異物汚れは除去される。洗浄を受けた
基板１４はエアナイフ乾燥ユニット４へ搬送され、ここ
でエアナイフから吐出する清浄エアによって乾燥される
。乾燥時に発生する水のミストはダクト１１により排出
される。乾燥された基板１４はＵＶ処理ユニット５に搬
送され、ここで低圧水銀灯９２より発光する紫外線の照
射を受け、同時に大気中酸素と紫外線により生ずるオゾ
ン及び酸素ラジカルにさらされる。これにより基板１４
上に付着していた有機物汚れは除去される。発生したオ
ゾンはダクト１２へ排気される時、オゾンキラー１３を
通過する事で酸素に分解される。それゆえダクト１２へ
排気される時のオゾン濃度は０．ｌｐｐｍ以下となる。

ＵＶ処理を受けた基板１４は、冷却搬出ユニット６へ搬
送される。前工程のＵＶ処理ユニット５では低圧水銀灯
９２より紫外線と同時に赤外線が発生する。それゆえ基
板１４の温度はＵＶ処理ユニット５に搬送される時に例
えば２３℃であったとしてもＵＶ処理ユニット５内部で
は最大５０℃以上となる。一方洗浄された基板１４はそ
の後工程にて成膜、塗膜工程へ続くが、それらの工程で
は、温度が重要な管理パラメータとなる。それ故、冷却
搬出ユニット６にて目的とする温度に制御される。これ
らの動作は全ては自動又は手動で行われ、その動作の操
作は操作盤７にて行われる。又、洗浄装置１の上部にク
リーンユニット８を配置する事により、基板１４の搬送
路上を常に清浄な状態とする事が出来、１例として搬送
ユニット２．冷却搬出ユニット６の基板１４の搬送面に
おいて０．３μｍ以上の塵埃が存在しない環境となる。

特にエアナイフ乾燥では２組のエアナイフ８１の間にし
きり板４３を導入する事で、前段エアナイフ８１で発生
するミストが後工程に流れる事が防止出来る。それゆえ
エアナイフ乾燥ユニット４においては０．３μｍ以上の
塵埃がＩＱの大気中１個以下の環境となる。

本実施例によれば、基板１４は塵埃の少ない環境におい
て、１　、１　Ｍ　Ｈｚ　　の高周波超音波励振された
水１７２ａの吐出を受ける為、その高周波超音波により
生ずる約４０万Ｇの加速度により基板１４表面に付着し
た０、３μｍ以上の粒子が除去され、引続き、速かに乾
燥される為、基板１４上に水シミのない清浄面を作り、
引続きＵＶ処理を受け、表面に付着有機物のない清浄面
を作り、後工程に適した温度に制御する事が可能となる
。それ故、本洗浄装＠１は、後工程に適した表面清浄度
と温度を持つ基板１４を作成し、後工程装置に供給する
事が可能となるという効果がある。１例として、本洗浄
装置１で２７０Ｘ２００のサイズの液晶用ガラス基板の
洗浄を行った場合、付着異物数１０個／枚以下、接触角
５°以下温度２３℃±１℃となる。

第３図はガラス板洗浄装置の前半コンベア構造の正面図
で、２１は搬入ユニットコンベアを示し、２２は純水洗
浄ユニットコンベアを示し、２３はエアナイフ乾燥ユニ
ットコンベアを示す。第４図はガラス板洗浄装置の後半
コンベア構造の正面図で、３１はＵｖ処理ユニットコン
ベアを示し、３２は冷却搬出ユニットコンベアを示す。

第５図は第３図の上面図、第６図は第４図の上面図であ
る。各ユニットには各々駆動用のモータを備えている。

第５図の４１は搬入ユニットコンベアの駆動モータを示
し、２４は純水洗浄ユニットコンベアの駆動モータを示
し、２５はエアナイフ乾燥ユニットコンベアの駆動モー
タを示す。また、第４図の３３はＵＶ処理ユニットコン
ベアの駆動モータを示し３４は冷却搬送ユニットコンベ
アの駆動モータを示す。第３図の２６ａは連結シャフト
、２７は回転伝達用のタイミングベルト、２８は送りロ
ーラ回転伝達用のねじ歯車である。第１３図は第５図の
Ａ−Ａ断面である。第１４図は第５図のＢ−Ｂ断面であ
る。第１５図は第５図のＣ−ｃ断面である。第１６図は
第６図のＤ−Ｄ断面である。第１７図（その１）は第６
図のＥ−Ｅ断面である。第３１図は第６図のＦ−Ｆ断面
である。

第５図において、搬送ローラ２９ａは第１３図の１２１
シヤフトにねじ固定され、このシャフトの反対側にねじ
固定されている歯車１２２は第１４図の１３１のアイド
ルギヤと噛み合っている。

歯車１２２と歯車１３１が第５図に示す如く交互に噛み
合い搬送ローラ２９ａをそれぞれ同一速度で回転させる
。第５図の連結シャフト４２で両サイドの回転伝達を可
能とし、さらにこの連結シャフト４２はモータ４１と接
続されている。第３図の搬送ローラ２９ｂは第１５図の
シャフト１４１にねじ固定され、このシャフトの反対側
にねじ固定されているねじ歯車１４２はねじ歯車１４３
と噛み合い連結シャフト２６ａに接続されている。

この連結シャフト２６ａはタイミングベルト２７を介し
２６ｂ駆動シヤフトに連結されており、また駆動シャフ
ト２６ｂにねじ固定されている歯車２４ａはモータ２４
のギヤ２４ｂと噛み合っている。また第５図の４３のタ
イミングベルトで両サイドを連結している。第３図のエ
アナイフ乾燥ユニット２３および第４図の冷却ユニット
３２も同様な方式で連結されている。第４図のＵＶ処理
ユニット３１は同様な方式で第１６図の１５１ａ搬送ロ
ーラを回転させるための連結の他に第１７図（その１）
の１５１ｂのワークサイド方向案内用搬送ローラを備え
ており、この搬送ローラ１５１ｂはシャフト１６１を介
し１６２ギヤで連結シャフト１５２に接続され、さらに
タイミングベルト１５３で駆動シャフト２６ｂに接続さ
れている。

搬送ローラ１５１ａおよび１５２ａの材質はセラミンク
である。

第７図、第８図に示す純水洗浄ユニット３は洗浄槽６１
の中に搬送用のローラ２９と超音波スプレー６２と裏面
用シャワーノズル６８と仕上シャワーノズル６４が配置
された構成である。仕上シャワーノズル６４は仕上水供
給管６３の上に配置されている。超音波スプレー６２は
固定具６６によりガイドシフト６５と接続されている。

ガイドシャフト６５は、可動固定具６７に固定されてお
り、この可能固定具６７は扇状に動く事が出来る。

洗浄槽６１の最も低い位置には排水口６９は設けられて
いる。超音波スプレー６２は必ずしも洗浄を行う基板１
４の全幅に対し１台にて洗浄を行うに必要なスプレー吐
出幅を持つものではない。それ故、基板１４の全幅を洗
浄する為、超音波スプレー６２を複数個配置する。本例
では基板１４の幅２７０ｍｍに対し、超音波スプレー６
２を７個配置したものであるが、超音波スプレー６２の
洗浄に有効な吐出幅がさらに広い場合、用いる数量はこ
の限りではない。超音波スプレー６２にて水１７２ｃに
超音波を励振させる為の、超音波発振器１０で発振した
電圧を付与するケーブルは、穴７１にて純水洗浄ユニッ
ト３の外部から内部へ導かれる。

第１８図に示す様に洗浄槽６１の下方には回収タンク１
７６が備えられている。この回収タンク１７６には本訴
処理装置１７１へ回収水１７２ｃを送る方のポンプ１７
９が回収口６９ａを介して接続されている。又、ポンプ
１７９への送水命令及び各種の情報表示を行う為の水位
センサ１７５ａが備えられており、必要な水位に相当す
る端子（１７５ｃ、１７５ｄ、１７５ｅ）が備えられて
いる。

又、タンク中の水１７７ｂを外部へ放出する為のバルブ
１７７ａが備えられている。本訴処理装置１７１は供給
水１７８ａと回収水１７２Ｇを受入れ、水１７２ａと水
１７２ｂ及び排水１７８ｂを放出する。この本訴処理装
置１７１は水１７２ａと水１７２ｂの水温、比抵抗値、
異物数、生菌数を制御する事が出来、水１７２ａと水１
７３ｂの制御範囲は必ずしも同じものではない。１例と
して供給水１７８ａが水温１６℃、比抵抗値５ＭΩ１以
上、０．１μｍ以上異物数１０個／１０ｍＱ以下の時、
水１７２ｂを水温２３℃、比抵抗５ＭΩ１以上、０．１
　μｍｍ以上異物数１儒Ｉ　Ｍ　Ｑ　ａｍ以上．０．５
ｐｍ以上異物数１ｏ個／１　０　ｍ　Ｑ以下とする事が
出来る。特に水１７２ａが供給される超音波スプレー６
２は水温が変化する事で共振周波数が変わる為、水温を
±２℃の範囲で制御する必要があり、この水再生装置は
その機能を有する．水１７２ｂはバルブ１７３ｂ。

１７３ｃを経て仕上洗浄用ノズル６４へ供給される。水
１７２ａはバルブ１７３ａ，流量計１７４ｃ。

流量バルブ１７４ｂ，流量センサ１７４ｃを経て超音波
スプレー６２へ供給される。ここで流量バルブ１７４ｂ
及び流量計１７４ａは超音波スプレー６２へ供給する水
温を制御する為のものであり。

１例として６〜Ｉ　Ｑ　Ｑ　／ｗｉｎの範囲で制御する
。

又流量センサ１７４ｃは流量の異常を検知して超音波発
振器１０の発振を止め、超音波スプレー６２の破損を防
止するものであり、１例として６Ｑ／ｗｉｎ以下の流量
で、異常信号を発生させる。

水１７２ａは又バルブ１７３ａ，通過後バルブ１７３ｄ
を経て裏面用シャワーノズル６８へ供給される。超音波
スプレー６２，仕上用シャワーノズル６４，裏面用シャ
ワーノズル６８より吐出された水は洗浄槽６１底部に流
れ排水口６９より回収タンク１７６へ流れるが排水口６
９が封止され排水が停止し、洗浄槽６１に水が満ちた場
合は液面計１７５ｂによって検知され、警告信号が発せ
られる。

搬入ユニット２より搬送された基板１４の表面は超音波
スプレー６２で超音波励振した水１７２ａの洗浄を受け
る。ローラー２９により搬送される間に複数回の洗浄を
受け、基板１４上の異物は除去される。この時、基板１
４裏面も下方の裏面用シャワーノズル６８より吐出する
水１７２ａにより洗浄される。さらに搬送され仕上洗浄
シャワーノズル６４より吐出する水１７２ｂにより洗浄
される。１例として水１７２ａより水１７２ｂの純度を
上げた場合、より効果的な仕上洗浄が行える。

吐出されて水は前述の様に水再生装置１７１へ送られる
。

本実施例によれば、高周波超音波励振を行う超音波スプ
レー６２に最適に温調された水１７２ａで洗う事で異物
を効果的に除去出来る。又、基板１４の全力を洗うに必
要な超音波スプレーが多数の場合、全吐出水量は多量と
なり、１例として６０Ｑ／■ｉｎにもなるが水再生装置
１７１を用いる事でその水の消費量は供給水１７８ａの
みとなる．供給水１７８ａの消費量は１例として５Ｑ／
ｗｉｎである。又、水再生装置１７１を１個々の純水洗
浄ユニット３に備える事でその寸法を，小型化出来る。

第９図にエアナイフ乾燥ユニット４の基本構成を示す。

エアナイフ本体８１及びつば付搬送ローラ２９は乾燥槽
８２内の両側に設置される、つば付搬送ローラ２９は乾
燥槽８２の外壁面に配置されたネジ歯車２８とローラ駆
動軸１４１により連結され、乾燥槽８２の内側の複数個
のネジ歯車２８に同期回転を与えることによりすべての
つば付搬送ローラ２９が回転しワーク１４をエアナイフ
吐出側８２ｂから下流側８２ｃへ搬送する。エアナイフ
本体８１はワーク１４の上面及び下面に配置され、ヒン
ジ８１ａ，ヒンジカナグ８１ｂ。

及びホルダ８１ｃにより上下面用の２本のエアナイフ本
体はワーク１４が通過可能な間隙を形成し、かつ、ワー
クへのエア吐出角度が変更可能となるように連絡される
。更にエアナイフ８１の両側のホルダ８１ｃはθベース
８３に固定された連結シャフト８１ｄにより連結され。

θベース８３は乾燥槽８２の下面に固定されたエアナイ
フベース８６上にＹベース８５，Ｘベース８４を介して
上下エアナイフ本体８１間の間隙の中心とワークの厚み
方向中心が同一線上になるように固定されるθベース８
３はワーク１４に対し、エアナイフ本体８１がある転角
度θを有するように固定され、かつ、ワーク表面の性状
によりθを変更可能なように転角ピン８３ｂを中心とし
た曲形状としだ長穴８３ａが形成される。また同様にＸ
，Ｙベース８４．８５には、各々Ｘ方向（搬送方向）と
Ｙ方向にエアナイフ本体の位置を変更可能なるように長
穴８４ａ、８５ａが形成され、各々ネジにより固定され
る。

エアナイフが固定された部分はっばなし搬送ローラ８７
を千鳥状に配置しかつ長尺ローラ駆動軸１４１ａ又は１
４１ｂにより一方からの駆動方式にし、エアナイフ固定
の障害にならない構造となっている。なお８２ａは洗浄
槽に固定されたリブであり、本リブ８２ａに軸受８８を
固定し長尺ローラ駆動軸１４１ａ又は１４１ｂを保持し
軸のたわみ、ふれ回りを防止する。

第１９図、第２０図にエアナイフ本体の構造を示す。エ
アナイフ本体８１はエアナイフボディ１８１とエアナイ
フカバー１８２、及び両者の合せ面からのエアそれを防
止する丸形パツキン１８３により形成される。エアナイ
フボディ１８１には長手方向に第１のエア整流穴１８１
ｅ及び第２のエア整流穴１８１ｇと本整流穴１８１ｅ、
１８１ｇへトライクリーンエア１８５を供給するエア供
給口１８１ａが複数個形成され任意の位置に任意の数だ
け供給口として使用できる形状となっている。

また、本エア整流穴の反エア供給口側には機械加工によ
り長手方向に精度よく段差Ｇが形成され、エアナイフボ
ディ１８１上にネジ１８４によりエアナイフカバー１８
２を固定した後、本段差Ｇによりエア吐出口１８１ｄが
形成される。１例として１本設差Ｇは０．１ｍである。

なお、１８１ｄは丸形パツキン１８３が設置されるパツ
キン溝であり、エアナイフボディ１８１とエアナイフカ
バー１８２の合せ面が完全にメタルタッチとなり、かつ
エアもれのない寸法・形状が形成されている。

また１８１ｂはエア整流穴１８１ｇからの長手方向への
エアもれを防止する為のプラグであり、図示はないが使
用しないエア供給０１８１ａにも同様に取りつけられる
。

エア供給口１８１ａから供給されたドライクリーンエア
１８５は２つのエア整流穴およびエアナイフボディ１８
１内の衝突部１８１ｆとエアナイフカバー合せ面１８２
ａとの衝突によりエアナイフボディ内で均一な圧力とな
りエア吐出口１８１ｄから吐出する。

第２１図〜第２４図にエアナイフの固定構造について示
す。エアナイフ本体８１の両端にはヒンジ８１ａ及び８
１ａ′が取りつけられ、この上下１対のヒンジはワーク
１４へのエア吹き付は角度Ｔが調整可能なるように、１
対のエアナイフ本体８１を寸法の許す限りワーク１４の
表面に接近させ、更にワーク１４の表面に対する吐出角
度（＝１／２’ｆ’）を最小とした時の上下吐出口を結
ぶ線Ｑ上でかつ吐出口間距離Ｐの中点Ｔを転角の中心と
なる位置に転角ピン２０１とかん合する穴が形成されて
いる本中点Ｔを転角の中心とすることにより転角時に吐
出口１８１ｄの描く軌跡りは最小となり、ワーク１４に
対し最接近した状態になる。

転角ピン２０１はヒンジカナグ８１ｂに固定され、さら
のヒンジカナグ８１ｂはホルダ８１ｃにネジ等によって
固定される。またホルダ８１ｃは連結シャフト８１ｄに
より結ばれエアナイフ本体８１を両端から保持する。

そして、連結シャフトはθベース８３に固定され更に、
Ｘベース８４、つぎにＹベース８５．エアナイフベース
８５へと次々に固定され最終的にはエアナイフ乾燥ユニ
ットの乾燥槽にワーク１４の厚み方向の中心線１４ａが
転角ピンの中心Ｔと同一平面上になるように固定される
。

なおヒンジカナグ８１ｂには第２３図、第２４図に示す
ような長穴形の溝部２０８を有するストッパ部２０７が
形成されており、転角ネジ２０２の段付き部２０２ａが
溝部２０８とかん合している。

転角ネジ２０２には段付き部２０２ａをさかいとし上部
に左ネジ部２０４、下部に右ネジ部２０３が加工されて
いる。また、ヒンジ８１ａ及び８１ａ′には回転可能な
るように、左メネジ加工を行ったピン２０５と右メネジ
加工を行ったピン２０６の２つが転角ネジ２０２の各々
のネジ部同志でがん合している。

ストッパ部２０７の溝部２０８と転角ネジ２０２の段付
き部のかん合により上下１対となったエアナイフ本体８
１が下方へ下るのを防止でき更に転角ネジ２０２を時計
方向に回すことによりピン２０５．２０６はＲの軌跡を
描く円運動となり、エアナイフ本体８１のワークへの吐
出角度の調整を行うことができる。

第２５図にエアナイフ乾燥ユニット４のエア配管の構成
例を示す。エア配管はソレノイドバルブ２４２、フィル
タレギュレータ２４３．ミストセパレータ２４４．ミス
トセパレータ２４５及びエアナイフ８１より成る。フィ
ルタレギュレータ２４３はエア圧を調整すると機能と同
時に５μｍ以上の粒子を除去する能力を持つ。ミストセ
パレータ２４４は０．３μｍ以上の粒子を、ミストセパ
レータ２４５は０．０１μｍ以上の粒子を除去する能力
を持つ。本例は１実施例であり、エアの清浄方法は、こ
れに限定されるものではない。

ドライエア２４１は、ソレノイドバルブ２４２によって
供給、停止が制御される。装Ｍ１に供給されたドライエ
ア２４１は、フィルタレギュレータ２４３にて圧を調整
された後、フィルタレギュレータ２４３に内蔵するフィ
ルタにより濾過され、引続きミストセパレータ２４４．
ミストセパレータ２４５にて濾過を受け、ドライクリー
ンエア１８５となりエアナイフ８１に供給されエア吐出
口１８１ｄより吐出される。

本実施例によれば、ドライエア２４１中に存在した粒子
を除去し、ドライクリーンエア１８５とする事が出来る
。１例としてドライエア２４１中には０．３μｍ以上粒
子が１Ωあたり約５０００個存在するが、ドライターン
エア１８５中には１個以上となる。これにより清浄条件
でエアナイフ乾燥を行う事が出来、清浄面を汚す事なく
乾燥する事が出来る。

第１０図に示すＵＶ処理ユニット５は処理槽９５に搬送
ローラ１５１ａ、１５１ｂと冷却板９３と低圧水銀灯９
２が配置された構成である。

低圧水銀灯９２はその口金９４で冷却板９３に固定され
ている。低圧水銀灯９２は必ずしも処理を行う基板１４
の全幅に対し１本にて処理を行うに必要な有効な照射幅
を持つものではない。それ故、基板１４の全幅を処理す
る為、低圧水銀灯９２を複数個配置する。本例では低圧
水銀灯９２を８本、千鳥状に配置したものであるが、低
圧水銀灯９２の処理に有効な照射幅がさらに広い場合、
用いる数量はこの限りではない。低圧水銀灯９２はその
管中に封止された水銀蒸気中で放電を行う事で紫外線を
発生する。その為その発光強度は管中の水銀蒸気圧によ
り影響を受ける。水銀気圧は低圧水銀灯９２内の最も温
度の低い部分の温度により決定される。本例ではその部
分は口金９４内部である。それ故、口金９４の温度を、
最も発生強度の高い水蒸気圧を与える温度に制御する為
、冷却板９３にて冷却する。口金９４内部には温度セン
サーが設けられており、その温度を出力して冷却温度を
制御する。冷却板９３には温度制御された冷却水が流さ
れるが、冷却方法として、この水冷に限られるものでは
ない。

本例では口金９４の温度は５５℃に制御される。

例えばこの温度が制御温度以下の５０℃の場合、その紫
外線照度は、温度が５５℃の時と比較して約１０％低減
する。低圧水銀灯９２は点灯時、その表面温度は約１５
０℃となる。又、紫外線及び紫外線と大気中の酸素から
生ずるオゾンを含む環境となる。これらの環境に耐える
為、搬送ローラ１５１ａ、１５１ｂはセラミックで構成
されている。本処理の効果をさらに増す為には、基板１
４の昇温機能及び、本装置の低圧水銀灯９２に依らずに
オゾンを外部より供給する構造が取られる。

昇温機能としては、赤外線ヒータ、ホットプレート等の
手段が取りうる。又、外部よりオゾンを供給する場合、
そのオゾンを発生させる手段としては放電法が取りつる
。冷却板９３は処理槽９５に固定されるがその高さは任
意に変える事が出来る。

それにより、基板１４と、低圧水銀灯９２の照射距離を
変化させる事が出来る。１例として照射距離を３ｍ１１
から２０ｍ＋まで変える事が出来、これにより基板１４
の厚さに対応した照射距離を設定する事が出来る。

コアナイフ乾燥ユニット４より搬送された基板１４はロ
ーラ１５１ａ、１５ｂにて搬送され、低圧水銀灯９２よ
り発せられる紫外線の照射を受けると同時に、その紫外
線と大気中の酸素から生ずるオゾン及び酸素アジカルに
さらされる。これにより基板１４上に付着する有機質は
酸化され、ガス状物質に変化し、基板１４上より除去さ
れる。

基板１４はローラ１５１ａ、１５１ｂにより連続して搬
送される為、複数個の低圧水銀灯９２を通過し、均一な
処理を受ける。

本実施例によれば基板１４上の有機質を除去する為、後
工程、１例として成膜、塗布膜工程で問題となるピンホ
ールの主原因の有機質異物で除き、同時に膜の濡れ性を
向上させ、膜の均一性を向上させるという効果がある。

第４図の３１はＵＶユニットを示し３２は冷却ユニット
を示す。第１１図は冷却ユニット構成図の上面図、第１
２図は正面図である。冷却ユニット３２はガラス板１４
を搬送する搬送ローラ２９と冷却板１１１および１１２
とユニットを構成するフレーム１０１を備え、搬送ロー
ラは回転伝達のためのねじ歯車２８及びタイミングベル
ト２７及び駆動シャフト２６６を備え、駆動シャフトは
駆動モータ３４に接続される。また第１２図の冷却ユニ
ット３２の両端には自由に回転するアイドルローラ１０
３を備える。１１４はガラス板１４の送り速度を切換え
る送り位置検出器である。駆動モータ３４は回転スピー
ド切換可能である。

冷却板１１２は昇降台１０５に固定され、昇降台１０５
は昇降シリンダ１０６を備え、ガラス板１４を搬送する
時は下降し、冷却する時は上昇可能とする。冷却板には
一定温度に管理された冷却水が流されている。冷却板１
１２は上面にガラス板吸着のための吸着溝１１３を備え
、冷却板１１２の上にガラス板１４の有無を検出する検
出器１１５を備える・冷却ユニットの両側にはフレーム
１０１に固定される冷却板１１１を備える。１０４は昇
降台１０５の昇降のためのガイドシャフトであり、１０
７はガイドシャフト１０４のホルダであり。

また１０８ａおよび１０８ｂは昇降台１０５の昇降位置
検出器である。第２７図は第１２図のＧ−Ｇ断面であり
アイドルローラ１０３の構造を示す。

上記構成において、第４図のＵＶユニット３１より一枚
ずつ搬送されてきたガラス板１４はアイドルローラ１０
３を介し搬送ローラ１０２に送られる。この時、搬送ロ
ーラ１０２はＵＶユニット３１の搬送速度と同一で一定
速度の回転をしている。一方、冷却板は上昇位置にあり
、冷却水１１２上のガラス板１４ｂは搬送ローラ１０２
から浮いた状態である。搬入側のガラス板１４ａが更に
送られ送り位置検出器１１４まで送られた時、それまで
上昇していた昇降台１０５が下降し下降位置検出器１０
８ａが検出し、それまで他のユニットと同一速度で搬送
していた搬送ローラ１０２が今までの約３倍の速度で回
転し、ガラス板１４ａを早送りする。冷却板１１２のピ
ッチ分を時間制御で送り、１ピッチ送られた位置で搬送
ローラ１０２を停止させ、昇降台１０５を上昇し搬送ロ
ーラ１０２から浮かせ、昇降台１０５の上昇端を１０８
ｂで検出後、再び搬送ローラ１０２を他のユニットと同
一速度で搬送させる。一方昇降台１０５の上昇によりガ
ラス板１４ｂを乗せた冷却板１１２は検出器１１５でガ
ラス板の有無を検出し、ガラス板が有る時のみ吸着を行
う。吸着によりガラス板１４ｂは冷却板１１２に固定さ
れる。

〔発明の効果〕

本発明は次の効果を有する。

第４図の３１のＵＶ処理ユニットコンベアは紫外線およ
びオゾンの影響を受けるため、これに左右されない材料
が要求され、従来は金属材料を使用していた。しかし金
属は接触による摩耗等で金属の塵埃を発生し、電極を集
積したワークのガラス基板に悪影響をおよぼす。本発明
ではこの材質にセラミックを使用しており、上記の欠点
がない。

また搬送ローラの形状について一般的には第１３図の２
９の如くツバ付の形状であり、この場合ソバ部でワーク
を案内する時、周速の違いにより滑りが生じ発埃の恐れ
がある。ＵＶ処理ユニット工程は洗浄の仕上げ段階であ
り極カ発埃を押える必要である。本発明では搬送ローラ
１５１ａとガイドローラ１５１ｂに分けて各々を同期速
度で回転するようにし滑りを無くしており上記の欠点が
ない。またセラミックの硬度について、ガラス板にキズ
を付けない程度の硬度のセラミック（ステアタイト：モ
ース硬度７．５）を使用しているため発塵の要因が少な
い。

本発明では各ユニットの駆動モータを各々に備えること
により、そのユニットの要求速度に選択することが可能
である。また駆動部までを含めたユニット化ができる。

搬送ローラ駆動方法について、−船釣には第５図の４１
の搬入ユニットの如く平歯車を並べて連結する方法があ
るがユニットの長さが長いと噛み合いが多くなり伝達効
率が悪くなる欠点がある。

また、タイミングベルトで連結する方法もあるがこの場
合はプーリとの噛み合いの関係でテンションが大きくな
りベルトの寿命が短い欠点がある。

本発明の駆動伝達方法は第４図の３２の冷却搬出ユニッ
トの如く搬送ローラの数が多くなっても回転伝達効率が
下がる欠点がない。

また他の装置のワーク搬送装置に影響しないで当該ユニ
ットの搬送速度を変えることができる。

従来のローラ搬送方法は第２８図に示す如く低速送りと
高速送りのローラが隣り同志であるため乗り移り時、ワ
ークに滑りを生じ発塵の要因があったが、本発明ではそ
の欠点がない。また第３０図に示す送り竿方法もあるが
、これは搬送ローラの位置がガラス板の製品機能に影響
を与えない外側位置に対し、送り竿方式で接続する場合
は搬送ローラとの干渉をさけるため第３０図内側の位置
になり製品機能に影響をする恐れがある。また送り竿方
式では２０１の長さを長くできず冷却板ステーションを
設ける長さに限りがあるため、冷却板ステーションが多
い場合は送り竿ユニットを複数個設けなければならない
が、本発明はその欠点がない。また本発明では搬送速度
切換部のワーク搬送面の直下に固定の冷却板を設けるこ
とが可能であり、この冷却板で間接的に冷却を行え、冷
却効率を向上できる。送り竿方式では固定の冷却板を設
けることが困難である。また本発明では冷却板の冷却効
果をあけるために第２９図に示す如く搬送ローラ１０２
間に冷却板を出すことができ、最大限の接触面積を設け
ることができる。

ワークの吸着は冷却板のワークの有無を検出しワークが
乗っている冷却板のみ吸着することにより真空源の無駄
をなくすことができ、また真空検出器で真空圧を検出す
ることによりワークを正常に吸着しているかを確認でき
る。吸着によりワークを固定することができ再び搬送ロ
ーラ上に乗せ替える時位置狂いがない。また吸着により
冷却効率も向上できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の洗浄装置の正面図、第２図
は同じく平面図、第３図、第４＠は搬送系の正面図、第
５図、第６図は同じく平面図、第７図は純水洗浄ユニッ
トの平面図、第８図は第７図のＡ−Ａ’断面図、第９図
はエアナイフ乾燥ユニットの基本構成の平面図、第１０
図のＡおよび第１０図のＢはＵＶ処理ユニットの平面図
及び断面図、第１１図は冷却ユニット平面図、第１２図
は同じく正面図、第１３図より第１７図は搬送ローラの
断面図、第１８図は洗浄水配管図、第１９図はエアナイ
フの斜視図、第２０図は同じく断面図、第２１図より第
２４図はアナイフの構造図、第２５図はエアナイフ配管
図、第２６図は搬送速度切換部構成図、第２７図はアイ
ドルローラ断面図、第２８図は従来のローラ搬送の速度
切換構成図、第２９図は冷却板形状図、第３０図は従来
の送り竿方式の構造図、第３１図はガイトローラ断面図
である。 １・・・洗浄装置、１４・・・基板、６２・・・超音波
スプレ８１・・・エアナイフ、９２・・・低圧水銀灯、
１１２第 １ 図 第 図 第 図 第 ６ 図 第 図 搬送方向 第１３図 第１４図 第１５図 第１６ 図 第１９図 第２０図 ８１ｆ ８１ａ 第２１ 図 第２２図 第２６図 第２７図 第２８図 一う− 第 ９ 図 第 Ｑ 図 第 ３１ 図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、搬入ユニット、スプレー式純水洗浄ユニット、エア
   ナイフ乾燥ユニット、ＵＶ処理ユニット、冷却搬出ユニ
   ットを搬送方向に沿つて配置したことを特徴とする洗浄
   装置。