JPH03287335A - 単結晶インゴット姿勢調整装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】

本発明は、周面研削装置に単結晶インゴットをクランプ
させる際に、把持した該単結晶インゴットの姿勢を調整
する単結晶インゴット姿勢調整装置に関する。

【従来の技術】

ＣＺ法又はＦＺ法により育成された単結晶インゴットは
、次のような工程を経て円柱形にされる。 （１）単結晶インゴットのコーン状両端部を軸に垂直な
方向に切断して、単結晶インゴットを略円柱形にする。 （２）単結晶インゴットを荷車に載せて手動で搬送し、
作業者が単結晶インゴットを把持して、単結晶インゴッ
トを回転装置の回転クランプ軸に保持させる。単結晶イ
ンゴットを手で回転させ、作業者の勘で、研削後の単結
晶インゴットの直径を最大にするための単結晶インゴッ
トの回転中心の、回転クランプ軸の回転中心からのずれ
量を判断する。作業者がハンマーでｉ結晶インゴットの
周面をたたいてこのずれをなくす。 （３）この状態で、回転クランプ軸を単結晶インゴット
の端面にさらに強く押し付ける。単結晶インゴットを回
転させ、砥石移動装置により、単結晶インゴットの周面
に砥石を押接移動させて、単結晶インゴットを円柱形に
研削する。

【発明が解決しようとする課題】

しかし、上記（２）の工程において、作業者の勘で上記
ずれ量を判断していたので、両中心の一致を正確に行な
うことができなかった。このため、単結晶インゴット周
面の削りしるが必要以上に大きくなり、無駄が生じてい
た。 この動作を自動化しかつ前記一致を正確にするためには
、一対のハンドで単結晶インゴットを把持し、各ハンド
の位置を調整する単結晶インゴット姿勢調整装置が必要
となる。そこで、各ハンドを垂直面内で別個に移動させ
るＸ−Ｙステージを２つ、単結晶インゴット姿勢調整装
置に備えることもできる。しかし、この場合、単結晶イ
ンゴット姿勢調整装置の横幅が相当広くなる。また、単
結晶インゴットの研削回転中心をインゴット周面研削装
置の回転クランプ軸の回転軸中心線上に正確に一致させ
ることができない。すなわち、研削回転中心線を回転ク
ランプ軸の中心線に平行にさせるための動作が２ステツ
プ必要であり、さらに、雨中心線を一致させるための動
作が２ステツプ必要であるが、雨中心線を一致させるた
めの動作においては、各ハンドを駆動するモータを同一
時間だけオンにしても、２個のモータの停止精度の差や
２つのハンドの機械的寸法差により、雨中心線を正確に
一致させることができない。さらに、各ハンドを単独で
動作させると、単結晶インゴットに無理な力が加わる。 本発明の目的は、このような問題点に鑑み、局面研削装
置に単結晶インゴットをクランプさせる際に、単結晶イ
ンゴットに無理な力を加えることなく、単結晶インゴッ
トの姿勢を所望の姿勢に正確に調整することが可能な単
結晶インゴット姿勢調整装置を提供することにある。

【課題解決手段及びその作用効果】

この目的を達成するために、本発明に係る単結晶インゴ
ット姿勢調整装置では、Ｘ−Ｙ−θ−φステージと、該
ｘ−Ｙ−θ−φステージに取り付けられて姿勢が調整さ
れ単結晶インゴットを把持するハンドと、を備えている
。 該Ｘ−Ｙ−θ−φステージは、Ｘ軸方向に移動させるＸ
ステージと、該Ｘ軸に直角なＹ軸方向に移動させるＹス
テージと、該Ｘ軸に平行な軸の回りに回転させるθステ
ージと、該Ｙ軸に平行な軸の回りに回転させるφステー
ジとを備えている。 本発明は、その横幅を、上記のようにＸ−Ｙステージを
各ハンドに連結した装置よりも半分に狭くでき、また、
例えば第１２図に示す互いに独立な４つのステップによ
り、単結晶インゴットの姿勢を所望の姿勢に正確に調整
することが可能となる。さらに、この調整の際には、単
結晶インコツトに無理な力が加えられることがない。 Ｘ軸及びＹ軸の方向は、単結晶インゴット回転装置４６
のクランプ回転軸７０Ａ及び７０Ｂの回転中心線の方向
に垂直な面内にあればよく、したがって、通常のように
、この回転中心線が水平の場合には、例えば、前記Ｘ軸
は水平方向かつ該回転中心線と直角な方向であり、前記
Ｙ軸は垂直方向である。 前記Ｘ−Ｙ−θ−φステージを構成する各ステージの連
結順は任意であり、例えば、前記Ｙステージは前記Ｘス
テージに取り付けられ、前記θステージは該Ｙステージ
に取り付けられ、前記φステージは該φステージに取り
付けられ、前記ノ）ンドは該φステージに取り付けられ
ている。 また、該Ｘステージに対する該Ｙステージの動作機構は
、例えば次のように構成されている。すなわち、前記Ｘ
ステージに袖丈され、１本の軸に左雄ねじと右雄ねじが
形成された送りねじと、該左雄ねじと右雄ねじの各々に
螺合する１対のナツトと、該ナツトと一体的に移動し、
該送りねじの軸方向に非平行な傾斜面を有する１対のス
ライドブロックと、該Ｙステージに固定され、該傾斜面
に平行な面を該スライドブロックの傾斜面と対向配置さ
せた１対の固定ブロックと、該固定ブロックの傾斜面に
沿って該スライドブロックを案内する手段とを有し、該
送りねじを回転させることにより、互いに平行な該Ｘス
テージと該Ｙステージの間隔を変化させるように構成さ
れている。

【実施例】

以下、図面に基づいて本発明の詳細な説明する。 （１）第１実施例 第１図は単結晶インゴット搬送・周面研削装置を示す。 処理対象としての単結晶インゴット１０は、その両端部
が軸方向に垂直に切断されて、略円柱形となっている。 この単結晶インゴット１０は、不図示の搬送ロボットで
回転中心マーカ１２に装着される。回転中心マーカ１２
は、軸方向に沿った複数箇所で周形状を測定し、その形
状に基づいて、単結晶インボッ）１０を最大直径の円柱
形にするための研削回転中心線を求める。そして、この
中心線と単結晶インゴット１０の両端面の交点に研削中
心点ＭＡ、ＭＢを記す。この単結晶インゴット１０は、
前記搬送ロボットで、コンベア１４のコンベアベルト１
４１上に一定間隔をおいて取り付けられた支持台１４２
（ｉ４Ａ図）の上に置かれる。 工場の天井側には、同一形状の走行レール１６八及び１
６Ｂが、互いに平行かつコンベア１４と直角な方向に、
配設されている。走行レール１６Ａ及び１６Ｂには、そ
れぞれ、同一構成の単結晶インゴット搬送・姿勢調整装
置２ＯＡ及び２０Ｂが、走行レールＬ６Ａ及び１６Ｂに
沿って走行自在に取り付けられている。 一方、工場の床上には、走行レール１６Ａ及び１６Ｂに
沿って、それぞれ同一構成の単結晶インゴット周面研削
装置２２１Δ〜２２５Ａ及び２２１Ｂ〜２２５Ｂが、一
定間隔をおいて並置されている。 単結晶インゴット搬送・姿勢調整装置２ＯＡと単結晶イ
ンコツト周面研削装置２２１Ａ〜２２５Ａとは、通信線
１８Ａを介して交信可能となっており、同様に、単結晶
インゴット搬送・姿勢調整装置２０Ｂと単結晶インゴッ
ト周面研削装置２２１Ｂ〜２２５Ｂとの間は、通信線１
８Ｂを介して交信可能となっている。通信線１８Ａと単
結晶インゴット搬送・姿勢調整装置２ＯＡとの間及び通
信線１８Ｂと単結晶インゴット搬送・姿勢調整装置２０
Ｂとの間は、非接触で磁気的に結合されている。 単結晶インゴット搬送・姿勢調整装置２ＯＡと２０Ｂと
は同一動作をするので、以下、単結晶インゴット搬送・
姿勢調整装置２ＯＡのみについて説明する。 単結晶インゴット搬送・姿勢調整装置２ＯＡは、コンベ
ア１４上の単結晶インゴット１０を搬送して単結晶イン
ゴット周面研削装置２２１Ａ〜２２５Ａに供給し、単結
晶インゴット周面研削袋！ｆ２２１Ａ〜２２５Ａで円柱
形に研削された単結晶インゴット１１を、コンベア１４
に平行に配置されたコンベア２３上に載せる。 第２図は単結晶インゴット搬送・姿勢調整装置２ＯＡの
搬送処理手順を示す。 （１００）最初、単結晶インゴット周面研削装置２２１
Ａ〜２２５Ａは研削対象物を持っていないので、単結晶
インゴット搬送・姿勢調整装置２０Ａは、コンベア１４
上の単結晶インボッ）１０を搬送してこれら単結晶イン
ゴット周面研削装置２２１Ａ〜２２５Ａに供給する。 （１０２＞単結晶インコツト周面研削装置２２ｉＡ　（
ｉ＝１〜５）の何れかが、研削を終了して研削終了信号
を発すると、単結晶インゴット搬送・姿勢調整装置２Ｏ
Ａはこれを受信し、次のステップ１０４へ進む。 （１０４）単結晶インゴット搬送・姿勢調整装［２ＯＡ
は、研削終了信号発信元である単結晶インゴット局面研
削袋！２２ｉＡ上まで走行する。 （１０６）次に、単結晶インゴット周面研削袋Ｈ２２ｉ
　Ａに保持された円柱形単結晶インゴット１１を把持し
、これを単結晶インゴット周面研削袋Ｈ２２ｉ　Ａから
取り出す。 （１０８）第１図に示す状態で、コンベア２３上まで走
行する。 （１１０）把持している円柱形単結晶インゴット１１を
コンベア２３上に載せる。 （１１２）次に、コンベア１４上まで走行する。 （１１４）コンベア１４上の単結晶インゴット１０を把
持し、持ち上げる。 （１１６）研削終了信号発信元である単結晶インゴット
周面研削袋Ｈ２２ｒ　Ａ上まで走行する。 （１１８）　ｊｌｌ結晶インゴット１．０を降下させ、
単結晶インゴット周面研削装置２２１Ａに供給する。 これにより、単結晶インゴット周面研削装置２２ｉＡは
、単結晶インゴット１０を保持し、単結晶インボッ）１
０の局面を研削して単結晶インゴット１０を円柱形にす
る。 ここで、単結晶インゴット搬送・姿勢調整装置２ＯＡの
概略構成を第４Ａ図に基づいて説明する。 この単結晶インゴット搬送・姿勢調整装置２ＯＡは、構
成要素２０１〜２０７からなる。 走行部２０１は、走行レール１６Ａに係止され、モータ
Ｍ１で走行レール１６Ａの長手方向に沿って走行する。 また、走行部２０１は、下端が姿勢調整部２０２の上端
に固着された垂直アーム２０３を、モータＭ２で昇降駆
動する。垂直アーム２０３と走行部２０１との間は、例
えば、ラックとビニオンで結合されている。 姿勢調整部２０２の下端には同一構成の２つのリスト２
０４が固着され、リスト２０４．２０４の各々には、同
一構成のハンド２０５．２０６が取り付けられている。 各ハンド２０５．２０６は、リスト２０４．２０４の各
々に備えられたトルクモータＭ４、Ｍ４で互いに上下反
対方向に同一距離だけ駆動される。例えば、上部に右ね
じが形成され下部に左ねじが形成された垂直配置の送り
ねじを、トルクモータＭ４で回転させることにより、こ
の送りねじの上部及び下部に螺合したナツトを介してハ
ンド２０５．２０６を上下動させる。リスト２０４．２
０４の各々にトルクモータＭ４、Ｍ４を備える必要があ
るのは、単結晶インゴット１０の直径がその部位により
異なるためである。 なお、姿勢調整部２ｏ２には、後述するＸ−Ｙθ−φス
テージ２４及び　Ｘ−Ｙ−θ−φステージ２４を駆動す
るための４個のモータが搭載されている。 次に、上記ステップ１１４の詳細を第３図及び第４Ａ〜
４Ｇ図に基づいて説明する。 最初、単結晶インゴット搬送・姿勢調整装置２０Ａは、
第４Ａ図に示す如く、姿勢調整部２０２が走行部２０１
側（上限）に位置している。また、ハンド２０５と２０
６とは互いに最大限熱れている。 （２００）この状態で、走行部２０１は姿勢調整部２０
２をコンベア１４上の単結晶インゴット１０の高さまで
下降させ、第４Ｂ図に示す状態で停止させる。 （２０２）コンベアベルト１４１をニステップ（コンベ
ア１４上の単結晶インゴット１０間の距離）移動させて
、第４Ｃ図に示す如く、ハンド２０５と２０６との間に
単結晶インゴット１０を位置させる。 （２０４）　　リスト２０４は、トルクモータＭ３をオ
ンにしてハンド２０５及び２０６を互いに接近する方向
に移動させ、第４Ｄ図に示す状態にする。トルクモータ
Ｍ３はオンにしたままである。 （２０６）走行部２０１は姿勢調整部２０２を上方へ上
限まで移動させ、第４Ｅ図に示す状態で停止させる。 以上のようにして、第２図に示すステップ１工４の処理
が実行される。 第２図に示すステップ１１０の処理は、第３図に示すス
テップ２１０からステップ２００へ逆方向に進むことで
実行される。 次に、第５図乃至第７図に基づいて、第１図の単結晶イ
ンゴット周面研削装置２２１Ａを説明する。 この単結晶インゴット周面研削装置２２１Ａの機械的構
成は、別体の単結晶インゴット回転装置４６と砥石移動
装置４８とからなる。砥石移動装置４８は、単結晶イン
ゴット回転装置４６に保持されて回転する単結晶インゴ
ット１０に対し砥石４９を前後左右に移動させる周知の
構成であり、省脱する。以下、単結晶インゴット回転装
置４６について説明する。 基台５０上に固定されたベースプレート５２上には、脚
板５４Ａ及び２本の平行なレール５６が固定されている
。２本のレール５６上には、スライダ５８が嵌合されて
おり、スライダ５８は、脚板５４Ａと直角な方向に、レ
ール５６に沿って移動自在となっている。スライダ５８
上には、脚板５４Ａに対向して、脚板５４Ｂが固定され
ている。 脚板５４Ｂ上には、油圧シリンダ６０がそのピストンロ
ッド６２をレール５６と平行にして固定されている。ピ
ストンロッド６２の先端はストッパ６４に固定され、ス
トッパ６４の下面にスライダ６５が固定され、スライダ
６５がレール５６に嵌合されている。ストッパ６４は、
これを螺貫するねじ６６により、レール５６に沿った任
意の位置で、レール５６に固定される。 第６図に示す如く、脚板５４Ａには、これを貫通する孔
の両端部にベアリング６８Ａが固定され、このベアリン
グ６８Ａに回転クランプ軸？ＯＡが嵌入支持されている
。回転クランプ＊［ｈ７ＯＡの先端面には、ゴム環板７
２Ａが貼着されている。脚板５４Ａの外側に突出した回
転クランプ軸？０Ａ基端部には、平歯車７４が嵌着され
ている。一方、脚板５４Ａには、不図示のブラケットを
介してモータ７６が固定され、このモータ７６の駆動軸
７７に、平歯車７４と噛合する平歯車７８が嵌着されて
いる。 したがって、モータ７６をオンにすると、回転クランプ
軸７０Ａが回転する。 回転クランプ軸？ＯＡの軸芯邪には、回転クランプ軸７
０Ａと同心に、貫通孔７９Ａが形成されている。貫通孔
７９Ａ内には、外周面にベアリング８ＯＡが嵌着された
ボアスコープ８２Ａの先端側が挿入支持されている。ボ
アスコープ８２Ａは、硬いバイブ８２１の基端部が基部
８２２に取り付けられ、基部８２２内に配設された接眼
レンズ８２３に対向して、基Ｒ８２２にＣＣＤカメラ８
４Ａが固定されている。この基部８２２は、不図示のブ
ラケットを介して下側の脚板５４Ａに支持されている。 バイブ８２１の基端には、光源８６Ａが固定されている
。光源８６Ａからの照明光は、バイブ８２１の内周面に
配置されたライトガイド（光ファイバ）８２４を通って
、ボアスコープ８２Ａの先端から外部に導出され、単結
晶インゴット１０の端面を照明する。単結晶インゴット
１０の端面からの反射光は、バイブ８２１内に配置され
た対物レンズ８２５、リレーレンズ８２６を通り、さら
に接眼レンズ８２３を通ってＣＣＤカメラ８４Ａ内のイ
メージセンサ（不図示）に結像される。ＣＣＤカメラ８
４Ａから取り出された映像信号は、確認用のモニターＴ
Ｖ８８Ａへ供給される。 したがって、モニターＴＶ８８Ａの画面Ａ上には、単結
晶インゴット１０の端面に記された研削中心点ＭＡに対
応した研削中心点像ＮＡが映る。 モニターＴＶ８８ＡにはＸＹ直交座標も映され、その交
点は、ボアスコープ８２Ａの光軸及び回転クランプ軸？
ＯＡの回転中心線に対応している。 第７図は、脚板５４Ｂ側の構成を示す。この構成は、回
転クランプ軸７０Ｂが自由回転する以外は第６図と同一
になっており、同一構成要素には同一番号を付しかつＡ
の代わりにＢを付して、その説明を省略する。 なお、第５図において、研削の際に研削屑及び冷却液が
飛び散るので、脚板５４Ａと５４Ｂ間の上面及び正面を
覆う不図示のスライドカバーがベースプレート５２の長
平方向に沿ってスライド自在に備えられ、また、脚板５
４Ａと５４Ｂ間の背面を覆い砥石４９が貫通して砥石４
９と共に移動する不図示のスライドシートが砥石移動装
置４８に備えられている。 ’１８図に示す如く、ＣＣＤカメラ８４Ａ及び８４Ｂか
らの映像信号は、位置計測器９０にも供給され、位置計
測器９０は、ＣＣＤカメラ８４Δ及び８４Ｂの光軸から
の、研削中心点ＭＡ及びＭＢのずれ座標（△ＸＡ、△Ｙ
Ａ）及び（ΔＸｍ、ΔＹＢ）を求め、これをコントロー
ラ９２へ供給する。第１３図（Ａ）は、研削中心点像Ｎ
Δ及びＮＢについてこれらの座標を示す。コントローラ
９２は、姿勢調整部２０２に備えられたドライバ９４を
介して、Ｘ−Ｙ−θ−φステージ２４のＸステージ２６
、Ｙステージ２８、θステージ３０及びφステージ３２
を駆動し、上記ずれ座標を原点（０，０）に一致させる
。ドライバ９４とコントローラ９２との間は、光又は磁
気で非接触に結合されている。 次に、第９図及び第１０図に基づいてＸ−Ｙθ−φステ
ージ２４の構成を説明する。第１０図は第９図のＡ−Ａ
線拡大断面図である。 ベース２５には、その下面両側部に、レール２５１が紙
面垂直方向にして固定され、下面中央部に、送りねじ２
５２が紙面垂直方向にして不図示の軸受で支持され、モ
ータＭ５で回転駆動される。 一方、Ｘステージ２６の上面には、レール２５１が嵌合
されるスライダ２６１が固定されている。 また、Ｘステージ２６の上面中央部には、前記送りねじ
２５２が蝋質されるナツト２６２が固定されている。 したがって、モータＭ５をオンにすると、Ｘステージ２
６はベース２５に対し第９図紙面垂直方向へ移動する。 Ｘステージ２６の下面両側部には、脚板２６４が互いに
対向して固定され、脚板２６４に送りねじ２６５が回転
自在に支持されている。送りねじ２６５には、ハンド２
０５及び２０６の駆動部と同様に、右雄ねじと左雄ねじ
が左右対称に形成され、両雄ねじにナツト２６６が螺合
されている。 この送りねじ２６５は、脚板２６４に固定されたモータ
Ｍ６で回転駆動される。ナツト２６６は、スライドプレ
ート２６７の下面中央部に固定されている。スライドプ
レート２６７の上面側部には、スライダ２６９が固定さ
れている。このスライダ２６９は、Ｘステージ２６の下
面に第９図左右方向に固定されたレール２７０に嵌合さ
れている。スライドプレート２６７の下面側部には、テ
ーパブロック２６８が固定されている。テーパブロック
２６８の下面（傾斜面）にはレール２７１が固定され、
レール２７１は前記スライダ２６９と同一形状のガイド
２８１に嵌合され、ガイド２８１は、Ｙステージ２８の
上面両側部にテーパブロック２８２を介して固定されて
いる。 したがって、モータＭ６をオンにすると、テーパブロッ
ク２６８が互いに左右反対方向に移動し、同時に、Ｙス
テージ２８がＸステージ２６に対し矢印Ｙ方向に上下動
する。 Ｙステージ２８の下面一端部には連結片２８３が固定さ
れ、これに対応して、θステージ３０の上面一端部に連
結片３０１が固定され、連結片２８３及び３０１にビン
３０２が貫通されている。 θステージ３０の他端邪には、送りねじ３０３が蝋質さ
れ、送りねじ３０３の基端部に嵌着された平歯車３０４
が、θステージ３０の固定されたモ−タＭ７で回転駆動
される。送りねじ３０３の先端は、Ｙステージ２８の側
面に固定されたＬ字形２８４の水平部を押圧している。 したがって、モータＭ７をオンにすると、θステージ３
０は、Ｙステージ２８に対し、ピン３０２を中心として
矢印θ方向に回転移動する。 θステージ３０の下面には、ウオームホイールであるφ
ステージ３２がスペーサ３２１を介してピン３２２で回
転自在に支持されている。φステージ３２には、不図示
の軸受に支持されたウオーム３２３が噛合しており、こ
のウオーム３２３は、θステージ３０に固定されたモー
タＭ８により駆動される。 したがって、モータＭ８をオンにすると、φステージ３
２はθステージ３０に対し、ピン３２２を中心として矢
印φ方向に回転移動する。 φステージ３２には、第４ＡＩ！ｉｎに示すリスト２０
４が固定されている（第９図には不図示〉。 第１１図は、Ｘ−Ｙ−θ−φステージ２４による単結晶
インゴット１０の移動方向をｘＳｙ、θ、φで示す。θ
の回転中心はＸ軸に平行であり、φの回転中心はＹ軸に
平行である。 次に、第１２図及び第１３図に基づいて、姿勢調整部２
０２を下降させた状態で動作されるＸ−Ｙ−θ−φステ
ージ２４の姿勢調整動作を説明する。最初、研削中心点
像ＮＡ及びＮＢは第１３図に示す如くなっている。 （３００）この状態で、第１３図（Ｂ）に示す如くΔＸ
Ａ＝ΔＸｉとなるように、φステージ３２を回転させる
。 （ピン３０２）次に、第１３図（Ｃ）に示す如くΔＸＡ
＝ΔＸ　Ｂ　＝　Ｏとなるように、Ｘステージ２６を移
動させる。 〈平歯車３０４）次に、第１３図（Ｄ）に示す如くΔＹ
Ａ＝ΔＹｌｌとなるように、θステージ３０を回転させ
る。 （３０６）次に、第１３図（Ｅ）に示す如くΔＹＡ＝Δ
Ｙ、＝０となるように、Ｙステージ２８を移動させる。 このようにして、研削中心点ＭＡ及びＭＢが回転クラン
プ軸？ＯＡ及び７０Ｂの回転中心線上に正確に一致する
。 この状態で、油圧シリンダ６０をオンにして単結晶イン
ゴット１０を回転クランプ軸７ｏΔ、７０Ｂ間に保持し
、モータ７６をオンにして単結晶インゴット１０を回転
させ、砥石移動装置４８により単結晶インボッ）１０の
周面を研削する。これにより、はぼ最大直径の円柱形単
結晶インボッ）１１を得ることができる。 （２）第２実施例 第１４図は第２実施例の単結晶インゴット搬送・姿勢調
整装置２０Ｃを示す。 この単結晶インゴット搬送・姿勢調整装置２゜Ｃは、床
上に敷設されたレール１６Ｃに沿って搬送部２０１Ａが
移動する。搬送部２０１Ａのベースプレート２５上には
、第９図に示すｘ−Ｙ−θφステージ２４を上下逆向き
にしたものとほぼ同一構成のＸ−Ｙ−θ−φステージ２
４Ａが備えられており、同一構成要素には同一符号を付
してその説明を省略する。φステージ３２上には、第４
八図と同一のりスト２０４が支柱３２４を介して固着さ
れ、リスト２０４の正面から第４Ａ図と同一のハンド２
０６．２０７が紙面上方に突出している。 この単結晶インゴット搬送・姿勢調整装置２０Ｃは、第
４Ａ図に示すような垂直アーム２０３を持っておらず、
Ｙステージ２８が垂直アーム２０３の役割を果たしてい
る。 他の点は第１実施例と同一である。 なお、本発明には外にも種々の変形例が含まれる。 例えば、第１４図に示す単結晶インチ７）搬送・調整装
置２０Ｃを床上に固定した単結晶インゴット姿勢調整装
置を備え、この単結晶インゴット姿勢調整装置の後方（
紙面下方）に、単結晶インゴット１０を単結晶インゴッ
ト姿勢調整装置に供給するためのローダを配置し、φス
テージ３２を１８０°回転させて該ローダから単結晶イ
ンゴット１０を受は取り、φステージ３２を１８０°回
転させ、Ｘステージ２６を紙面上方へ移動させて第１４
図に示す状態にし、単結晶インゴット１０の姿勢を調整
するようにしてもよい。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第１３図は本発明の第１実施例に係り、 第１図は単結晶インゴット搬送・周面研削装置の概略構
成を示す斜視図、 第２図は単結晶インゴット搬送・姿勢調整装置２ＯＡの
処理手順を示すジェネラルフローチャート、 第３図は第２図のステップ１１４の詳細フローチャート
、 第４Ａ〜４Ｅ図は、第３図に対応した、単結晶インゴッ
ト搬送・姿勢調整装置２ＯＡの動作説明図、 第５１！ｌは単結晶インゴット周面研削装置２２１Ａの
斜視図、 第６図は第５図の脚板５４Ａ付近の詳細を示す一部断面
正面図、 第７図は第５図の脚板５４Ｂ付近の詳細を示す一部断面
正面図、 第８図は、単結晶インゴット搬送・周面研削装置の研削
中心位置合わせ部概略図、 第９図は、ｘ−ｙ−θ−φステージ２４の正面図、 第１０図は第９図のＡ−Ａ線拡大断面図第１１図はｘ−
Ｙ−θ−φステージ２４による単結晶インゴット１０の
移動方向を示す図、第１２図はコントローラ９２による
研削中心位置合わせの処理手順を示すフローチャート、
第１３図は、第１２図と対応させて、モニター画面Ａ及
びＢ上の研削中心点像ＮＡ及びＮＢの位置を示す図であ
る。 第１４図は本発明の第２実施例に係る単結晶インゴット
搬送・姿勢調整装置の正面図である。 図中 １０．１１は単結晶インゴット １２は回転中心マーカ １４．２３はコンベア １６Ａ、１６Ｂ、１６Ｃは走行レール ２ＯＡ、２０Ｂ、２０Ｃは単結晶インゴット搬送・姿勢
調整装置 ２０１．２０１Ａは走行部 ２０２は姿勢調整部 ２０３は垂直アーム ２０４はリスト ２０５．２０６はハンド ２２ｉＡ、２２ｉＢ　（ｉ＝１〜５）は単結晶インゴッ
ト周面研削装置 ２４．２４ＡｉｔＸ−Ｙ−θ−φステージ２５１．２７
０．２７１．５６はレール２６はＸステージ ２６１．２６９．３２３．５８．６５はスライダ ２６２．２６６はナツト ２５２．２６５．３０３．３２４は送りねじ２６４．５
４Ａ、５４Ｂは脚板 ２６７．３０４は平歯車 ２６８．２８２はテーパブロック ２８はＹステージ ２８１はガイド ３０はθステージ ３２はφステージ ３２３はウオーム ４６は単結晶インゴット回転装置 ４８は砥石移動装置 ６０は油圧シリンダ ？ＯＡ、７０Ｂは回転クランプ軸 ７４．７８は平歯車 ７６、Ｍ１〜Ｍ８はモータ ８２Ａ、８２Ｂはボアスコープ ８４Ａ、８４ＢはＣＣＤカメラ ８６Ａ、８６Ｂは光源 ８８　Ａ、　８８　ＢハＦ−＝−ター’ｒｖ第 ２ 図 第 図 １６Ａ 第４Ａ図 １６Ａ 第８図 ρ 第 図 第１０図 第１２図 モニター白面Ａ モニター自面Ｂ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）、Ｘ軸方向に移動させるＸステージ（２６）と、該
   Ｘ軸に直角なＹ軸方向に移動させるＹステージ（２８）
   と、該Ｘ軸に平行な軸の回りに回転させるθステージ（
   ３０）と、該Ｙ軸に平行な軸の回りに回転させるφステ
   ージ（３２）とを備えたＸ−Ｙ−θ−φステージと、 該Ｘ−Ｙ−θ−φステージに取り付けられて姿勢が調整
   され、単結晶インゴットを把持するハンドと、 を備えていることを特徴とする単結晶インゴット姿勢調
   整装置。 ２）、前記Ｘ軸は水平方向であり、前記Ｙ軸は垂直方向
   であることを特徴とする請求項１記載の装置。 ３）、前記Ｙステージ（２８）は前記Ｘステージ（２６
   ）に取り付けられ、前記θステージ（３０）は該Ｙステ
   ージに取り付けられ、前記φステージ（３２）は該φス
   テージに取り付けられ、前記ハンドは該φステージに取
   り付けられていることを特徴とする請求項２記載の装置
   。 ４）、前記Ｘステージに軸支され、１本の軸に左雄ねじ
   と右雄ねじが形成された送りねじと、該左雄ねじと右雄
   ねじの各々に螺合する１対のナットと、 該ナットと一体的に移動し、該送りねじの軸方向に非平
   行な傾斜面を有する１対のスライドブロックと、 該Ｙステージに固定され、該傾斜面に平行な面を該スラ
   イドブロックの傾斜面と対向配置させた１対の固定ブロ
   ックと、 該固定ブロックの傾斜面に沿って該スライドブロックを
   案内する手段とを有し、 該送りねじを回転させることにより、互いに平行な該Ｘ
   ステージと該Ｙステージの間隔を変化させるようにした
   ことを特徴とする請求項３記載の装置。