JPH03290945A - 位置合せ用光学装置 - Google Patents

位置合せ用光学装置

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JPH03290945A
JPH03290945A JP2136703A JP13670390A JPH03290945A JP H03290945 A JPH03290945 A JP H03290945A JP 2136703 A JP2136703 A JP 2136703A JP 13670390 A JP13670390 A JP 13670390A JP H03290945 A JPH03290945 A JP H03290945A
Authority
JP
Japan
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alignment
light
image
optical system
cursor
Prior art date
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Pending
Application number
JP2136703A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoriyuki Ishibashi
石橋 頼幸
Toshikazu Yoshino
芳野 寿和
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Topcon Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Topcon Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Topcon Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2136703A priority Critical patent/JPH03290945A/ja
Publication of JPH03290945A publication Critical patent/JPH03290945A/ja
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的コ (産業上の利用分野) 本発明は、超LSI等の半導体素子を製造するときなど
において用いられる縮小投影露光装置に組込むのに適し
た位置合せ用光学装置に関する。
(従来の技術) 周知のように、超LSIの製造工程では、縮小投影露光
装置が多用されている。この縮小投影露光装置は、第5
図に示すように、たとえばX軸、y軸方向ならびにZ軸
回りに可動自在に設けられたウェハチャックテーブル1
上に感光基板であるウェハ2を固定するとともに、その
上方に投影レンズ3およびレチクル4を配置している。
そして、レチクル4の上方から露光光を照射することに
よってレチクル4に描かれているLSIパターンをウェ
ハ2上に転写する構成となっている。なお、レチクル4
は、X軸、y軸方向ならびにZ軸回りにに可動自在に設
けられたレチクルテーブル5上に固定されている。
この装置では、レチクルテーブル5とウェハチャックテ
ーブル1とのX軸、y軸方向の相対位置を調整すること
によってウニへ2上の所望の場所にパターンを転写でき
るようになっている。
ところで、このような転写を能率的に、かつ位置精度よ
く行なうためには、転写に先立ってウェハチャクチ−プ
ル1とレチクル4との相対位置関係を投影レンズ3を介
し、かつ露光光もしく露光光の同一波長の光を用いて校
正しておく必要がある。そのために、従来の縮小投影露
光装置では次のようにしている。すなわち、レチクル4
にレチクルアライメントマーク(以後、RMと略称する
)11を設けるとともにウェハチャックテーブル1にフ
ィシシュアルアライメントマーク(以後、FMと略称す
る。)12を設けている。RMIIは、透明部と、クロ
ムメツキ等を十字状に施して形成された反射ミラー構成
のマーク部とで構成されている。一方、1M12は、ク
ロムメツキ等を施して形成された反射ミラ一部と、十字
状の透明部によって形成されたマーク部とで構成されて
いる。そして、これらRMllおよび1M12をレチク
ルアライメント光学系21に設定された基準位置にアラ
イメントするようにしている。
レチクルアライメント光学系21は、照明光学系22と
、検出光学系23とを備えたものとなっている。照明光
学系22は、光源31から放射された露光光と同じ波長
の照明光32をレンズ33、ハーフミラ−34、反射ミ
ラー35、レンズ36、レチクル4を介して入射@37
の中心に向けて斜めに入射させる。この入射した照明光
32は投影レンズ3を透過して1M12に至る。そして
、1M12で反射した光は投影レンズ3、レチクル4、
レンズ36、反射ミラー35を介して検出光学系23に
導かれる。
検出光学系23は、導かれた光をハーフミラ−34、レ
ンズ38、位置合せの基準位置となるカーソル39、レ
ンズ40を介して撮像素子41に入射させる。そして、
撮像素子41で得られた像を表示装置42に表示させる
上述したRMll、1M12、レチクルアライメント光
学系21を用い、次のようにしてレチクル4とウェハチ
ャックテーブル1との相対位置関係の校正を行うように
している。すなわち、この装置ではレチクルアライメン
ト光学系21のカーソル39の位置を基準位置とし、こ
の基準位置にRMllのマーク部および1M12のマー
ク部を順次アライメントするようにしている。したがっ
て、ここではRMIIのアライメントについてだけ説明
する。
まず、レチクルアライメント光学系21の光源31から
放射された照明光32をレチクル4に設けられたRMI
Iに向けて斜めに照射する。このとき、RMIIを透過
した光が投影レンズ3を透過し、1M12の反射面部分
において反射されるようにウェハチャックテーブル1を
移動させる。
RMIIを照明、透過した光は、投影レンズ3を通って
1M12に至り、この1M12の反射面において反射さ
れる。反射された光は再び投影レンズ3を通り、RMI
Iを背面から照明する。背面照明によって得られたRM
I 1の像はレンズ36、ミラー35、ハーフミラ−3
4、レンズ38を介してカーソル39上に一旦結像し、
その後、撮像素子41上に結像する。したがって、表示
装置42の画面43にはRMIIのマーク部の像11a
とカーソル39のカーソル像39aとが写し出される。
前述の如く、カーソル39の位置を基準位置としている
ので、画面43を観察しながら、RMllのマーク部の
像11aをカーソル像39aに合致させるようにレチク
ルテーブル5を移動させる。
そして、一致したときのレチクルテーブル5の位置を図
示しないレーザ干渉計等で計測し、この値をレチクルテ
ーブル5の座標の原点とする。
ウェハチャックテーブル1の1M12についても同様な
手法でアライメントする。ただし、この場合には、RM
IIの透明部を照明光の全部が通過するようにレチクル
テーブル5の位置を調整した状態で行う。レチクルアラ
イメント光学系21は、実際にはX軸方向、y軸方向、
z軸回りの3系統あり、これらの方向についても同様の
手法で校正を行なう。
しかしながら、上記のように構成されたレチクルアライ
メント光学系21は次のような欠点を備えている。すな
わち、光源31から放射される照明光32の強度は、通
常、第6図に示すような分布をなし、均一ではない。照
明光32の強度分布が不均一であると、撮像素子41上
にも同様の強度分布を持ったマーク部の像11aおよび
カーソル像39aが結像する。このため、表示装置42
の画面43上には、第7図に示すように、明暗を持ち、
輪郭の不鮮明なマーク部の像11aおよびカーソル像3
9gが写し出される。したがって、これらの像を観察し
ながらアライメント作業を行うことは極めて困難で、か
つ長時間を要し、その結果、アライメント精度が低下す
る問題があった。
また、最近では撮像素子41の出力を電子的に画像解析
してカーソル像39aに対するマーク部の像11aの位
置ずれ量を求め、この結果を位置制御系にフィードバッ
クして自動アライメントを行うことが考えられているが
、上記のように不鮮明な像しか得られない場合には解析
誤差が大きくなり、自動アライメントの特徴を発揮させ
ることができない。
(発明が解決しようとする課題) 上述の如く、従来のレチクルアライメント光学系、つま
り位置合せ用光学装置にあっては、コントラストの良い
鮮明なマーク像やカーソル像を得ることが困難で、これ
が原因して精度の高い位置合せが行えない欠点があった
そこで本発明は、構成の複雑化を招くことなく、上述し
た不具合を解消できる位置合せ用光学装置を提供するこ
とを目的としている。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 上記目的を達成するために、本発明は、被位置合せ物に
設けられた位置合せ用のマークに照明光を照射する照明
光学系と、照明光の照射によって得られたマーク像およ
び上記照明光で照明される基準位置形成用カーソルの像
を検出する系とを備えた位置合せ用光学装置において、
前記照明光学系の光路に前記照明光の強度分布を均一化
させる光学素子を介挿させたことを特徴としている。
(作 用) 光源から出た照明光は、光学素子を通って均一な強度分
布の光に変換された後に実際の照明に供される。したが
って、検出面にはコントラストの良いマーク像およびカ
ーソル像が結像されることになり、これらの像を観察し
ながら行うアライメント作業は極めて容易となる。また
、検出面上に結像した2つの像を電子的に画像解析する
場合であっても、各像のコントラストが良いので、解析
誤差を少なくてき、結局、精度の高い位置合せが可能と
なる。
(実施例) 以下、図面を参照しながら実施例を説明する。
第1図には本発明に係る位置合せ用光学装置を縮小投影
露光装置のアライメント光学系21aに適用した例が示
されている。そして、この図では第5図と同一部分が同
一符号で示されている。したがって、重複する部分の詳
しい説明は省略する。
この実施例に係るアライメント光学系21aが従来のも
のと異なる点は、光源31とハーフミラ−34との間に
照明光32の強度分布を均一化させる光学素子、たとえ
ば位相板あるいは拡散板51を介在させたことにある。
このような構成であると、拡散板51を通った照明光の
強度分布は、第2図に示すように均一になる。したがっ
て、この均一な強度分布の照明光がRMIIに向けて斜
めに照射されることになる。
今、RMIIをアライメントする場合を例にとると、R
MIIを照明、透過した光は、投影レンズ3を通ってF
MI2に至り、このFMI 2の反射面において反射さ
れる。RMIIを透過した光の強度分布は均一である。
したがって、FMI2において反射された光の強度分布
も均一である。
反射された光は再び投影レンズ3を通り、RMllを背
面から照明する。背面照明によって得られたRMIIの
像はレンズ36、ミラー35、ハーフミラ−34、レン
ズ38を介してカーソル39上に一旦結像し、その後、
撮像素子41上に結像する。結像したマーク部の像11
aとカーソル39の像39aの強度分布は、単純な矩形
波状である。したがって、表示装置42の画面43には
第3図に示すようにRMIIのマーク部の像11aとカ
ーソル39のカーソル像39aとがコントラスト良く鮮
明に写し出される。
したがって、これらの像を観察しながらのアライメント
作業は極めて容易となる。この結果、精度の高いアライ
メントを実現できる。また、撮像面上に結像した2つの
像を電子的に画像解析する場合であっても、各機のコン
トラストが良いので、解析誤差を少なくでき、結局、こ
の場合も精度の高いアライメントを実現できることにな
る。
なお、本発明は上述した実施例に限定されるものではな
い。すなわち、上記実施例では、折り返しの光路を使っ
ているが、第4図に示すように一方通行の光路を使って
アライメントできるようにしてもよい。
この例では、ウェハチャックテーブル1内に孔61を設
けている。この孔61は上端部が1M12の下面に通じ
、下端側が2軸に沿って下方に延びた後、y軸に沿って
横方向に延びてウェハチャックテーブル1の側面に通じ
ている。そして、上記孔61を使って1M12の下面に
向けて照明光を照射する照明光学系22bを設けている
。この照明光学系22bは、光源62から放射された照
明光63を拡散板64、レンズ65.66、ミラー67
を介してFMI 2の下面に垂直に照射するようにして
いる。なお、照明光学系22bは、ウェハチャックテー
ブル1とは機械的に分離されている。したがって、ウェ
ハチャックテーブル1を照明光学系22bとは無関係に
動かすことができる。また、この図では、検出光学系が
省略されているが、検出光学系は第1図に示した例と同
様にレチクル4より上方に設けられている。
このようにレチクルアライメント光学系を構成しても前
記実施例と同様の効果を得ることができる。
また、上述した6例は、本発明を縮小投影露光装置のレ
チクルアライメント光学系に適用した例であるが、本発
明はこれに限定されるものではなく、マーク像とカーソ
ル像とを使って位置合せを行うようにした位置合せ用光
学装置全般に適用できる。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば、マーク像とカー
ソル像とをコントラスト良く検出できるので、位置合わ
せ作業の容易化を図れるばかりか、位置合せ精度の向上
も図ることができる。また、検出された2つの像を画像
処理し、その結果に基いて位置合せを自動化する場合に
問題となる画像処理上の誤差を少なくできるので、位置
合せの自動化にも寄与できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明を縮小投影露光装置のレチクルアライメ
ント光学系に適用した例の要部概略構成図、第2図は同
光学系における照明光の強度分布を示す図、第3図は第
1図に示される表示画面のB−B線上における像強度分
布を示す図、第4図は本発明を縮小投影露光装置のレチ
クルアライメント光学系に適用した別の例の要部概略構
成図、第5図は縮小投影露光装置に組み込まれた従来の
レチクルアライメント光学系の概略構成図、第6図は同
光学系における照明光の強度分布を示す図、第7図は第
5図に示される表示画面のA−A線上における像強度分
布を示す図である。 1・・・ウェハチャックテーブル、2・・・ウェハ、3
・・・投影レンズ、4・・・レチクル、5・・・レチク
ルテーブル、11・・・レチクルアライメントマーク(
RM)、l1g・・・RMのマーク部の像、12・・・
フィシシュアルアライメントマーク(FM)、21a・
・・レチクルアライメント光学系、22a122b・・
・照明光学系、23・・・検出光学系、31゜62・・
・光源、32.63・・・照明光、3つ・・・カーソル
、39a・・・カーソル像、41・・・撮像素子、42
・・・表示装置、51.63・・・拡散板。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)被位置合せ物に設けられた位置合せ用のマークに
    向けて照明光を照射する照明光学系と、照明光の照射に
    よって得られたマーク像および上記照明光で照明される
    基準位置形成用カーソルの像を検出する系とを備えた位
    置合せ用光学装置において、前記照明光学系の光路に前
    記照明光の強度分布を均一化させる光学素子が介挿され
    てなることを特徴とする位置合せ用光学装置。
  2. (2)前記光学素子は、拡散板または位相板であること
    を特徴とする請求項1に記載の位置合せ用光学装置。
  3. (3)前記位相板は、回転するように設けられているこ
    とを特徴とする請求項2に記載の位置合せ用光学装置。
  4. (4)前記照明光学系の照明光は、レーザ光であること
    を特徴とする請求項1に記載の位置合せ用光学装置。
JP2136703A 1990-03-09 1990-05-25 位置合せ用光学装置 Pending JPH03290945A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2136703A JPH03290945A (ja) 1990-03-09 1990-05-25 位置合せ用光学装置

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5844190 1990-03-09
JP2-58441 1990-03-09
JP2136703A JPH03290945A (ja) 1990-03-09 1990-05-25 位置合せ用光学装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03290945A true JPH03290945A (ja) 1991-12-20

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ID=26399502

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2136703A Pending JPH03290945A (ja) 1990-03-09 1990-05-25 位置合せ用光学装置

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JP (1) JPH03290945A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100525808B1 (ko) * 2003-12-31 2005-11-02 동부아남반도체 주식회사 노광장비의 포커스 계측방법

Cited By (1)

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