JPH03294241A - α―(4―(1―ヒドロキシ―2―メチルプロピル)フェニル)エタノール - Google Patents
α―(4―(1―ヒドロキシ―2―メチルプロピル)フェニル)エタノールInfo
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- JPH03294241A JPH03294241A JP2095330A JP9533090A JPH03294241A JP H03294241 A JPH03294241 A JP H03294241A JP 2095330 A JP2095330 A JP 2095330A JP 9533090 A JP9533090 A JP 9533090A JP H03294241 A JPH03294241 A JP H03294241A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、新規な物質であるα−(4−(1−ヒドロキ
シ−2−メチルプロピル)フェニル)エタノールに関す
るものである。この化合物は、消炎剤であるα−(4−
イソブチルフェニル)プロピオン酸(商品名:イブプロ
フェン)合成用の中間体として有用である。
シ−2−メチルプロピル)フェニル)エタノールに関す
るものである。この化合物は、消炎剤であるα−(4−
イソブチルフェニル)プロピオン酸(商品名:イブプロ
フェン)合成用の中間体として有用である。
[従来の技術とその課題]
イブプロフェンの合成法としては、P−イソブチルスチ
レンを中間体に用いる方法が従来から提案されている。
レンを中間体に用いる方法が従来から提案されている。
このp−イソブチルスチレンは、例えば、特公昭59−
35899号公報に開示されているように、P−イソブ
チルアセトフェノンを水素添加した後脱水して製造され
ることか知られている。
35899号公報に開示されているように、P−イソブ
チルアセトフェノンを水素添加した後脱水して製造され
ることか知られている。
また、特開昭61−24527号公報に開示されている
ように、イソブチルベンゼンとアセトアルデヒドとを硫
酸触媒存在下で反応させて1,1−ビス(p−インブチ
ルフェニル)エタンとし、この1,1−ビス(P−イソ
ブチルフェニル)エタンを酸触媒の存在下に接触分解し
てP−イソブチルスチレンを製造する。
ように、イソブチルベンゼンとアセトアルデヒドとを硫
酸触媒存在下で反応させて1,1−ビス(p−インブチ
ルフェニル)エタンとし、この1,1−ビス(P−イソ
ブチルフェニル)エタンを酸触媒の存在下に接触分解し
てP−イソブチルスチレンを製造する。
しかし、こわらは高価な原料を用いること、収率が必ず
しも高くないこと、あるいは工程数が多いことなどの点
から、実用上は解決すべき問題が少なくない。従って、
これらの課題を解決すべく、新規なイブプロフェン合成
用の中間体が望まれている。
しも高くないこと、あるいは工程数が多いことなどの点
から、実用上は解決すべき問題が少なくない。従って、
これらの課題を解決すべく、新規なイブプロフェン合成
用の中間体が望まれている。
[課題を解決するための手段]
本発明は上述のような課題を解決するために、イブプロ
フェンを容易に、少ない工程数で、かつ高収率で合成す
るための、下記式(I)で表わされる新規な中間体α−
(4−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)フェニ
ル)エタノールを提供するものである。下記式の化合物
は不斉炭素原子を有するために光学異性体が存在するが
、それらの光学異性体も本発明の化合物に含まれるもの
である。
フェンを容易に、少ない工程数で、かつ高収率で合成す
るための、下記式(I)で表わされる新規な中間体α−
(4−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)フェニ
ル)エタノールを提供するものである。下記式の化合物
は不斉炭素原子を有するために光学異性体が存在するが
、それらの光学異性体も本発明の化合物に含まれるもの
である。
式(I)で表わされるα−(4−(1−ヒドロキシ−2
−メチルプロピル)フェニル)エタノールの製法は、以
下に説明する方法に限定されるものではないが、次のよ
うにして容易に合成することができる。
−メチルプロピル)フェニル)エタノールの製法は、以
下に説明する方法に限定されるものではないが、次のよ
うにして容易に合成することができる。
例えば、P−ブロモアセトフェノンを出発物質とする下
記の反応式による場合、p−ブロモアセトフェノンのカ
ルボニル基を酸触媒の存在下にエチレングリコールであ
らかじめアセタール保護し、こわを金属マグネシウムと
反応させてグリニヤール試薬とする。このグリニヤール
試薬とインブチルアルデヒドとを反応させ、その後希酸
で加水分解することにより保護基を外しP−(1−ヒド
ロキシ−2−メチルプロピル)アセトフェノン(式%式
% 式(n) 上記アセタール保護のためのケタール化試薬は任意のジ
オールでよい。また、メタノール等の低級アルコールに
よってジアルキルアセタール化してもよい。あるいは、
常法に従い、カルボニル基をチオアセタール、セミカル
バゾン、ヒドラゾン、イミン等の保護基に変換してもよ
い。
記の反応式による場合、p−ブロモアセトフェノンのカ
ルボニル基を酸触媒の存在下にエチレングリコールであ
らかじめアセタール保護し、こわを金属マグネシウムと
反応させてグリニヤール試薬とする。このグリニヤール
試薬とインブチルアルデヒドとを反応させ、その後希酸
で加水分解することにより保護基を外しP−(1−ヒド
ロキシ−2−メチルプロピル)アセトフェノン(式%式
% 式(n) 上記アセタール保護のためのケタール化試薬は任意のジ
オールでよい。また、メタノール等の低級アルコールに
よってジアルキルアセタール化してもよい。あるいは、
常法に従い、カルボニル基をチオアセタール、セミカル
バゾン、ヒドラゾン、イミン等の保護基に変換してもよ
い。
グリニヤール付加反応は、温度O〜100℃、好ましく
は20〜80℃で行なう。金属マグネシウムは1.0〜
1.2当量あればよい。イソブチルアルデヒドは0.5
〜20当量、好ましくは1,0〜1゜2当量で行なう。
は20〜80℃で行なう。金属マグネシウムは1.0〜
1.2当量あればよい。イソブチルアルデヒドは0.5
〜20当量、好ましくは1,0〜1゜2当量で行なう。
脱ケタール化は、温度O〜100℃、好ましくは20〜
80℃で行なう。この際、メタノール、テトラヒドロフ
ラン、酢酸なとの有機溶媒を使用してもよい。
80℃で行なう。この際、メタノール、テトラヒドロフ
ラン、酢酸なとの有機溶媒を使用してもよい。
次に、得られたP−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロ
ピル)アセトフェノンを、下記反応式に示すように水素
添加することによってα−(4−(1−ヒドロキシ−2
−メチルプロピル)フェニル)エタノールが得られる。
ピル)アセトフェノンを、下記反応式に示すように水素
添加することによってα−(4−(1−ヒドロキシ−2
−メチルプロピル)フェニル)エタノールが得られる。
式(■)
式CI)
上記P−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)アセ
トフェノンの水素添加は任意の常法により行なうことが
できる。
トフェノンの水素添加は任意の常法により行なうことが
できる。
すなわち、第四アンモニウム塩あるいはアノνコール等
の水素供与体の存在下におけるNa、 L;等の金属あ
るいは金属塩による水素添加、NaBH4、LiBH4
,LiAI)I4、NaAlH4、LiA IH(0(
:zHs) 3、NaAlH2(OCLCLOCL)2
、((C:H3)2CI(CH2) 2AIHなどの金
属水素錯化合物または金属水素化物による水素添加、G
o、 Cu、 Pt、 Pd、 Rh等の金属触媒の存
在下の分子状水素による水素添加などの公知の水素添加
方法を採用することかできる。
の水素供与体の存在下におけるNa、 L;等の金属あ
るいは金属塩による水素添加、NaBH4、LiBH4
,LiAI)I4、NaAlH4、LiA IH(0(
:zHs) 3、NaAlH2(OCLCLOCL)2
、((C:H3)2CI(CH2) 2AIHなどの金
属水素錯化合物または金属水素化物による水素添加、G
o、 Cu、 Pt、 Pd、 Rh等の金属触媒の存
在下の分子状水素による水素添加などの公知の水素添加
方法を採用することかできる。
また、上記においてはグリニヤール反応を利用する方法
を説明したが、α−(4−(1−ヒドロキシ−2−メチ
ルプロピル)フェニル)エタノールは、特公昭40−2
6184号または特公昭42−10483号公報に開示
されているエポキシ化合物の製造法を用いて、P−イソ
ブチルエチルベンセンを原料としてハイドロパーオキサ
イドを経由して得ることもできる。
を説明したが、α−(4−(1−ヒドロキシ−2−メチ
ルプロピル)フェニル)エタノールは、特公昭40−2
6184号または特公昭42−10483号公報に開示
されているエポキシ化合物の製造法を用いて、P−イソ
ブチルエチルベンセンを原料としてハイドロパーオキサ
イドを経由して得ることもできる。
すなわち、P−イソブチルエチルベンゼンを液相で分子
状酸素により酸化することによりジヒドロキシパーオキ
サイドを得て、これをプロピレンなどのオレフィンと触
媒の存在下、例えば、バナジウム、モリブテン、タング
ステンなどの溶解性金属触媒の存在下に反応させること
により製造することができる。
状酸素により酸化することによりジヒドロキシパーオキ
サイドを得て、これをプロピレンなどのオレフィンと触
媒の存在下、例えば、バナジウム、モリブテン、タング
ステンなどの溶解性金属触媒の存在下に反応させること
により製造することができる。
次に、このα−(4−(1−ヒドロキシ−2−メチルプ
ロピル)フェニル)エタノール(式1)を用いたα−(
4−イソブチルフェニル)プロピオン酸またはそのアル
キルエステル(式U)の合成について説明する。
ロピル)フェニル)エタノール(式1)を用いたα−(
4−イソブチルフェニル)プロピオン酸またはそのアル
キルエステル(式U)の合成について説明する。
例えば、下記反応式のようにして行なうことができる。
このようにすることにより、従来の方法に比較して、少
ない工程数で、かつ高収率でイブプロフェンを製造する
ことができる。
ない工程数で、かつ高収率でイブプロフェンを製造する
ことができる。
式(I)
式(I[[)
式(rV)
式(V)
なお、式中Rは水素原子または低級アルキル基である。
α−(4−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)フ
ェニル)エタノール(式1)を、減圧下に酸触媒を加え
た熱シリコーン油に滴下すると、1−ビニル−4−(2
,2−ジメチルエチニル)ベンゼン(式■)が留出する
。系内の圧力は5+oa+Hg以下に維持する。シリコ
ーン油の温度は系内の圧力に依存するため、−概には言
えないが、通常は150〜160℃に加熱する。もちろ
ん、その他の公知の脱水方法を用いることもできる。こ
こで化合物(式1)の光学異性体の脱水反応における反
応性に差はないので、その混合物を用いてよく、また単
離して何れか一方の光学異性体のみを用いてもよい。
ェニル)エタノール(式1)を、減圧下に酸触媒を加え
た熱シリコーン油に滴下すると、1−ビニル−4−(2
,2−ジメチルエチニル)ベンゼン(式■)が留出する
。系内の圧力は5+oa+Hg以下に維持する。シリコ
ーン油の温度は系内の圧力に依存するため、−概には言
えないが、通常は150〜160℃に加熱する。もちろ
ん、その他の公知の脱水方法を用いることもできる。こ
こで化合物(式1)の光学異性体の脱水反応における反
応性に差はないので、その混合物を用いてよく、また単
離して何れか一方の光学異性体のみを用いてもよい。
次に、1−ビニル−4−(2,2−ジメチルエチニル)
ヘンセン(式■)のビニル基のみを選択的にヒドロカル
ボキシル化またはヒドロエステル化することにより、選
択的にカルボニル化する。
ヘンセン(式■)のビニル基のみを選択的にヒドロカル
ボキシル化またはヒドロエステル化することにより、選
択的にカルボニル化する。
すなわち、1−ビニル−4−(2,2−ジメチルエチニ
ル)ヘンセンを遷移金属錯体カルボニル化触媒の存在下
に、反応温度40〜250℃で、−酸化炭素および水ま
たはアルコールと選択的に反応させることによりα−(
4−(2,2−ジメチルエチニル)フェニル)プロピオ
ン酸またはそのアルキルエステル(式■)を得る。
ル)ヘンセンを遷移金属錯体カルボニル化触媒の存在下
に、反応温度40〜250℃で、−酸化炭素および水ま
たはアルコールと選択的に反応させることによりα−(
4−(2,2−ジメチルエチニル)フェニル)プロピオ
ン酸またはそのアルキルエステル(式■)を得る。
上記のカルボニル化に使用する遷移金属錯体触媒はPd
、 Rh、 Ir等の遷移金属錯体である。その内特に
Pdの錯体か好ましい。これら遷移金属は、ハロゲン原
子、三価のリン化合物、あるいはカルボニル化合物等と
して一酸化炭素等を配位子として含有するものか用いら
れる。遷移金属、例えばパラジウムは0価から2価のも
のが用いられる。
、 Rh、 Ir等の遷移金属錯体である。その内特に
Pdの錯体か好ましい。これら遷移金属は、ハロゲン原
子、三価のリン化合物、あるいはカルボニル化合物等と
して一酸化炭素等を配位子として含有するものか用いら
れる。遷移金属、例えばパラジウムは0価から2価のも
のが用いられる。
遷移金属錯体触媒の具体例としては、ビストリフェニル
ホスフィンジクロロパラジウム、ヒストリシクロへキシ
ルホスフィンジクロロパラジウム、π−アリルトリフェ
ニルホスフィンクロロパラジウム、トリフェニルホスフ
ィンピペリジンシクロロバラジウム、ヒスベンゾニトリ
ルジクロロパラジウム、ビスシクロへキシルオキシムジ
クロロパラジウム、L、5.9−シクロトデ力トリエン
ジクロロバラシウム、ビストリフェニルホスフィンシヵ
ルボニルバラシウム、ヒストリフェニルホスフィンパラ
ジウムアセテート、ヒストリフェニルホスフィンパラジ
ウムナイトレート、ヒストリフェニルホスフィンパラジ
ウムサルフェート、テトラキストリフェニルホスフィン
パラジウム等が挙げられる。
ホスフィンジクロロパラジウム、ヒストリシクロへキシ
ルホスフィンジクロロパラジウム、π−アリルトリフェ
ニルホスフィンクロロパラジウム、トリフェニルホスフ
ィンピペリジンシクロロバラジウム、ヒスベンゾニトリ
ルジクロロパラジウム、ビスシクロへキシルオキシムジ
クロロパラジウム、L、5.9−シクロトデ力トリエン
ジクロロバラシウム、ビストリフェニルホスフィンシヵ
ルボニルバラシウム、ヒストリフェニルホスフィンパラ
ジウムアセテート、ヒストリフェニルホスフィンパラジ
ウムナイトレート、ヒストリフェニルホスフィンパラジ
ウムサルフェート、テトラキストリフェニルホスフィン
パラジウム等が挙げられる。
こわら触媒は、錯体として反応系に供給して使用する。
また、別個に配位子を供給して反応系中において錯体を
形成させて使用することもできる。
形成させて使用することもできる。
触媒量は、1−ビニル−4−(2,2−ジメチルエチニ
ル)ベンゼン1.0モルに対して0.0001〜0.5
モル、好ましくは0.001〜0.1モルでJす、配位
子となりうる化合物の添加量は、Pd、 RI「等の錯
体の核となり得る遷移金属1モルに対して0.8〜10
モル、好ましくは1〜4モルである反応温度は40〜2
50℃、好ましくは70〜200℃である。40℃未満
では反応速度が遅くなり実用的ではない。また、250
℃を超える場合には、重合や錯体触媒の分解等を起こし
好ましくない。その他、エチニル基までカルボニル化さ
れるため好ましくない。
ル)ベンゼン1.0モルに対して0.0001〜0.5
モル、好ましくは0.001〜0.1モルでJす、配位
子となりうる化合物の添加量は、Pd、 RI「等の錯
体の核となり得る遷移金属1モルに対して0.8〜10
モル、好ましくは1〜4モルである反応温度は40〜2
50℃、好ましくは70〜200℃である。40℃未満
では反応速度が遅くなり実用的ではない。また、250
℃を超える場合には、重合や錯体触媒の分解等を起こし
好ましくない。その他、エチニル基までカルボニル化さ
れるため好ましくない。
一酸化炭素の圧力は10〜600kg/c11!2、好
ましくは50〜300kg/cm”である。10 kg
/cm”未満では反応が遅く実用出来ない。圧力は高い
程反応は速やかに進行するが、600 kg/cm2を
超えると、目的とするビニル基ではない方のエチニル基
までカルボニル化されるので好ましくない。
ましくは50〜300kg/cm”である。10 kg
/cm”未満では反応が遅く実用出来ない。圧力は高い
程反応は速やかに進行するが、600 kg/cm2を
超えると、目的とするビニル基ではない方のエチニル基
までカルボニル化されるので好ましくない。
また、反応を促進する目的で、塩化水素、三フッ化ホウ
素等の酸を添加してもよい。
素等の酸を添加してもよい。
−酸化炭素と併用するアルコールは、メチルアルコール
、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピ
ルアルコール等の低級アルコールである。
、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピ
ルアルコール等の低級アルコールである。
カルボニル化の終了後、低級アルコールと反応させた場
合のように、反応物がエステルとして得られるときは、
好ましくは減圧下で蒸留分離を行なうことにより、容易
に目的のα−(4−(2,2−ジメチルエチニル)フェ
ニル)プロピオン酸アルキルエステルが得られる。水を
反応させる場合のように反応物が酸として得られるとき
は、例えば、アルカリ溶液で抽出し抽出液を酸性にすれ
ば目的物であるα−(4−(2,2−ジメチルエチニル
)フェニル)プロピオン酸が得られる。また、回収した
触媒は再度の使用が可能である。
合のように、反応物がエステルとして得られるときは、
好ましくは減圧下で蒸留分離を行なうことにより、容易
に目的のα−(4−(2,2−ジメチルエチニル)フェ
ニル)プロピオン酸アルキルエステルが得られる。水を
反応させる場合のように反応物が酸として得られるとき
は、例えば、アルカリ溶液で抽出し抽出液を酸性にすれ
ば目的物であるα−(4−(2,2−ジメチルエチニル
)フェニル)プロピオン酸が得られる。また、回収した
触媒は再度の使用が可能である。
α−(4−(2,2−ジメチルエチニル)フェニル)プ
ロピオン酸またはそのアルキルエステル(式■)は、パ
ラジウム/炭素を触媒として未反応で残った置換エチニ
ル基を接触水素化還元し、目的化合物であるα−(4−
イソブチルフェニル)プロピオン酸またはそのアルキル
エステル(式■)を得る。そのほか、脂肪族性二重結合
に水素添加する公知の方法によって置換エチニル基を水
素化還元することかできる。
ロピオン酸またはそのアルキルエステル(式■)は、パ
ラジウム/炭素を触媒として未反応で残った置換エチニ
ル基を接触水素化還元し、目的化合物であるα−(4−
イソブチルフェニル)プロピオン酸またはそのアルキル
エステル(式■)を得る。そのほか、脂肪族性二重結合
に水素添加する公知の方法によって置換エチニル基を水
素化還元することかできる。
低級アルコールによりヒドロエステル化した場合のよう
にエステルが得られるときは、必要に応じてそのエステ
ルの置換エチニル基を水素化還元する前または後に、常
法に従い酸またはアルカリによって加水分解すれば、遊
離酸としてのα−(4−イソブチルフェニル)プロピオ
ン酸を容易に得ることかできる。
にエステルが得られるときは、必要に応じてそのエステ
ルの置換エチニル基を水素化還元する前または後に、常
法に従い酸またはアルカリによって加水分解すれば、遊
離酸としてのα−(4−イソブチルフェニル)プロピオ
ン酸を容易に得ることかできる。
もちろん、反応終了後、再結晶なとの公知の絹製手段に
より精製することにより、高純度のα−(4−インブチ
ルフェニル)プロピオン酸を製造できる。
より精製することにより、高純度のα−(4−インブチ
ルフェニル)プロピオン酸を製造できる。
[発明の効果コ
本発明において提案した新規化合物であるα−(4−(
ヒドロキシ−2−メチルプロピル)フェニル)エタノー
ル(式1)は、α−(4−イソブチルフェニル)プロピ
オン酸と同一の基本炭素骨格を有している。本発明の化
合物は、形式的にはP−イソブチルエチルヘンゼンの各
アルキル基における特定の位置の水素原子−個をそれぞ
れヒドロキシル基に置換した化合物として認識される。
ヒドロキシ−2−メチルプロピル)フェニル)エタノー
ル(式1)は、α−(4−イソブチルフェニル)プロピ
オン酸と同一の基本炭素骨格を有している。本発明の化
合物は、形式的にはP−イソブチルエチルヘンゼンの各
アルキル基における特定の位置の水素原子−個をそれぞ
れヒドロキシル基に置換した化合物として認識される。
該特定の位置の水素原子がヒドロキシル基により置換さ
れているので、本発明の化合物は特有の効果を奥するも
のと推測される。それ故に、この化合物を出発物質とす
れば、容易に、少ない工程数で、且つ高収率でα−(4
−インブチルフェニル)プロピオン酸を製造することか
できる。
れているので、本発明の化合物は特有の効果を奥するも
のと推測される。それ故に、この化合物を出発物質とす
れば、容易に、少ない工程数で、且つ高収率でα−(4
−インブチルフェニル)プロピオン酸を製造することか
できる。
例えば、α−(4−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロ
ピル)フェニル)エタノールは、脱水反応等により容易
にかつ有効的に1−ビニル−4−(2,2−ジメチルエ
チニル)ヘンセンに変換し得る。この1−ビニル〜4−
(2,2−ジメチルエチニル)ベンセンは、遷移金属錯
体カルボニル化触媒の存在下に、−酸化炭素と水または
アルコールと反応させることにより、そのビニル基のみ
を選択的にヒドロカルボキシル化あるいはヒドロエステ
ル化した後、未反応で残った置換エチニル基を水素添加
することによりα−(4−イソブチルフェニル)プロピ
オン酸あるいはそのエステルが得られる。エステルとし
て得られるときは、必要に応じて置換エチニル基の水素
化還元の前後に、常法により酸またはアルカリによって
加水分解することにより、消炎効果に優れたα−(4−
イソブチルフェニル)プロピオン酸を得ることができる
。
ピル)フェニル)エタノールは、脱水反応等により容易
にかつ有効的に1−ビニル−4−(2,2−ジメチルエ
チニル)ヘンセンに変換し得る。この1−ビニル〜4−
(2,2−ジメチルエチニル)ベンセンは、遷移金属錯
体カルボニル化触媒の存在下に、−酸化炭素と水または
アルコールと反応させることにより、そのビニル基のみ
を選択的にヒドロカルボキシル化あるいはヒドロエステ
ル化した後、未反応で残った置換エチニル基を水素添加
することによりα−(4−イソブチルフェニル)プロピ
オン酸あるいはそのエステルが得られる。エステルとし
て得られるときは、必要に応じて置換エチニル基の水素
化還元の前後に、常法により酸またはアルカリによって
加水分解することにより、消炎効果に優れたα−(4−
イソブチルフェニル)プロピオン酸を得ることができる
。
[実施例コ
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない
。
本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない
。
〈実施例1〉
α−(4−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)フ
ェニル)エタノール(式1)の合成還流冷却器、水抜き
管および攪拌機を付けた5ρ三つロフラスコにトルエン
21を入れ、これにP〜ジブロモセトフェノン300g
(1,5モル)を溶かした。この溶液にP−トルエンス
ルホン酸−水和物15g(0,079モル)とエチレン
グリコール421g(6,8モル)を加え攪拌した。
ェニル)エタノール(式1)の合成還流冷却器、水抜き
管および攪拌機を付けた5ρ三つロフラスコにトルエン
21を入れ、これにP〜ジブロモセトフェノン300g
(1,5モル)を溶かした。この溶液にP−トルエンス
ルホン酸−水和物15g(0,079モル)とエチレン
グリコール421g(6,8モル)を加え攪拌した。
反応温度は110〜120℃に保ち、水が出なくなるま
でトルエンを還流させた。その後トルエン1.7Ilを
蒸留で除き、残りの溶媒をポンプで減圧して除いた。そ
の残油にモレキュラーシーブ3Aで乾燥したテトラヒド
ロフラン(以下rTHFJという)600mlを加え、
溶液とした。
でトルエンを還流させた。その後トルエン1.7Ilを
蒸留で除き、残りの溶媒をポンプで減圧して除いた。そ
の残油にモレキュラーシーブ3Aで乾燥したテトラヒド
ロフラン(以下rTHFJという)600mlを加え、
溶液とした。
滴下漏斗、還流冷却器および攪拌機を付けた3ρ三つロ
フラスコ中に金属マグネシウム39g(1,6モル)を
入れ、乾燥窒素を流して十分乾燥した後、乾燥THF1
50+++1を入れて激しく攪拌した。しかる後に、先
に用意したアセタール保護したP−ブロモアセトフェノ
ンのTHF溶液を3時間かけて徐々に滴下した。反応温
度は60〜70℃に保ち、溶液滴下終了後もそのまま更
に5時間攪拌を続けた。このようにして得たマグネシウ
ム試薬のTHF溶液に、更にイソブチルアルデヒド10
8g(1,5モル)を乾燥THF150mlに溶解した
溶液を1時間かけて徐々に滴下した。
フラスコ中に金属マグネシウム39g(1,6モル)を
入れ、乾燥窒素を流して十分乾燥した後、乾燥THF1
50+++1を入れて激しく攪拌した。しかる後に、先
に用意したアセタール保護したP−ブロモアセトフェノ
ンのTHF溶液を3時間かけて徐々に滴下した。反応温
度は60〜70℃に保ち、溶液滴下終了後もそのまま更
に5時間攪拌を続けた。このようにして得たマグネシウ
ム試薬のTHF溶液に、更にイソブチルアルデヒド10
8g(1,5モル)を乾燥THF150mlに溶解した
溶液を1時間かけて徐々に滴下した。
滴下中、反応温度は60〜70℃に保ち、滴下終了後温
度を室温に戻して一晩攪拌を続けた。しかる後、反応液
を2N塩酸水溶液で失活させ、油層を分液して回収しT
HFを留去した。
度を室温に戻して一晩攪拌を続けた。しかる後、反応液
を2N塩酸水溶液で失活させ、油層を分液して回収しT
HFを留去した。
THFを留去した残油350gを酢酸890m1に溶か
し、6N塩酸水溶液3041を加え2時間80〜100
℃に加温した。酢酸を留去した後、残油をクロロホルム
で抽出した。クロロホルムを留去した後残油247gに
リフラックス油3001を加え、減圧蒸留を行ない、未
反応アセトフェノン相当物と重質な副生成物を除去した
。圧力lmmHg以下で温度75〜90℃の留分198
gを次の還元反応に用いた。
し、6N塩酸水溶液3041を加え2時間80〜100
℃に加温した。酢酸を留去した後、残油をクロロホルム
で抽出した。クロロホルムを留去した後残油247gに
リフラックス油3001を加え、減圧蒸留を行ない、未
反応アセトフェノン相当物と重質な副生成物を除去した
。圧力lmmHg以下で温度75〜90℃の留分198
gを次の還元反応に用いた。
滴下漏斗、還流冷却器および攪拌機を付けた5ρ三つロ
フラスコを乾燥窒素で十分置換し、それにモレキュラー
シーブ3Aで乾燥したジエチルエーテル3iLとリチウ
ムアルミニウムハイドライド76g(2,0モル)を入
れ攪拌した。先の75〜90℃/ 1 ++oa Hg
以下の留分を乾燥ジエチルエーテル60C)alに溶か
し、この溶液を3時間かけて徐々に滴下した。反応温度
は30〜40℃に保ち、溶液滴下終了後も、そのままで
3時間攪拌を続けた。その後攪拌下に、水素が発生しな
くなるまで水を加え、更に無水硫酸ナトリウムを500
g加えた。1時間攪拌後、固体をセライト濾過し、濾液
は溶媒を留去して、白色の粗α−(4−(1−ヒドロキ
シ−2−メチルプロピル)フェニル)エタノール結晶1
90g(収率66%、但しP−ブロモアセトフェノン基
準)で得た。
フラスコを乾燥窒素で十分置換し、それにモレキュラー
シーブ3Aで乾燥したジエチルエーテル3iLとリチウ
ムアルミニウムハイドライド76g(2,0モル)を入
れ攪拌した。先の75〜90℃/ 1 ++oa Hg
以下の留分を乾燥ジエチルエーテル60C)alに溶か
し、この溶液を3時間かけて徐々に滴下した。反応温度
は30〜40℃に保ち、溶液滴下終了後も、そのままで
3時間攪拌を続けた。その後攪拌下に、水素が発生しな
くなるまで水を加え、更に無水硫酸ナトリウムを500
g加えた。1時間攪拌後、固体をセライト濾過し、濾液
は溶媒を留去して、白色の粗α−(4−(1−ヒドロキ
シ−2−メチルプロピル)フェニル)エタノール結晶1
90g(収率66%、但しP−ブロモアセトフェノン基
準)で得た。
粗α−(4−(1−ヒドロキシル2−メチルプロピル)
フェニル)エタノール190gをヘキサンとジエチルエ
ーテルの混合溶媒で再結晶して。
フェニル)エタノール190gをヘキサンとジエチルエ
ーテルの混合溶媒で再結晶して。
α−(4−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)フ
ェニル)エタノールの無色針状結晶133g(収率46
%、但しP−ブロモアセトフェノン基準)で得た。
ェニル)エタノールの無色針状結晶133g(収率46
%、但しP−ブロモアセトフェノン基準)で得た。
生成したα−(4−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロ
ピル)フェニル)エタノール(式1)の分析結果を以下
に示す。
ピル)フェニル)エタノール(式1)の分析結果を以下
に示す。
融点: (セイコー電子工業■製DSC装置SSC50
20を使用。測定温度範囲ニー50〜115℃、昇温速
度=10℃/1Iin)69.0℃ IRE(GC1溶媒CHCl、 、 cm−’)364
9、3022、2981. 1505、1467、1370. 1257、1168、1085. 937、 834、 ’H−NMR: (溶媒CDCl3、δppm)7.0
3〜7.52 (4H14重線)4.71〜5.0
0 (IH,ブロード)4.18〜4.45
(IH、ブロード)2.02〜2.39 (2
H1多重線)1.80〜2.02 (IH1多重線
)1.32〜1.59 (3H12重線)0.88
〜1.11 (3H12重線)0.65〜0.8
8 (3H12重線)13C−NMR: (デカッ
プリング済み、溶媒[:DC13、δppHI+) 144.9.142.8.126.7.179.7、
70.1、 35.2. 18.9、 18.2. 25.2. 1292. 2875. 25.1. 1009、 元素分析: (Cl2H1802として、%)計算値
Cコア4.19 H:9.34 0:16.47 実測値 Cニア3.90 H: 9.43 0:16.67 なお上記のIR,’H−NMRおよび13C−NMRの
スペクトルチャートをそれぞれN1図から第3図に示す
。
20を使用。測定温度範囲ニー50〜115℃、昇温速
度=10℃/1Iin)69.0℃ IRE(GC1溶媒CHCl、 、 cm−’)364
9、3022、2981. 1505、1467、1370. 1257、1168、1085. 937、 834、 ’H−NMR: (溶媒CDCl3、δppm)7.0
3〜7.52 (4H14重線)4.71〜5.0
0 (IH,ブロード)4.18〜4.45
(IH、ブロード)2.02〜2.39 (2
H1多重線)1.80〜2.02 (IH1多重線
)1.32〜1.59 (3H12重線)0.88
〜1.11 (3H12重線)0.65〜0.8
8 (3H12重線)13C−NMR: (デカッ
プリング済み、溶媒[:DC13、δppHI+) 144.9.142.8.126.7.179.7、
70.1、 35.2. 18.9、 18.2. 25.2. 1292. 2875. 25.1. 1009、 元素分析: (Cl2H1802として、%)計算値
Cコア4.19 H:9.34 0:16.47 実測値 Cニア3.90 H: 9.43 0:16.67 なお上記のIR,’H−NMRおよび13C−NMRの
スペクトルチャートをそれぞれN1図から第3図に示す
。
〈実施例2〉
α−(4−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)フ
ェニル)エタノ−=ル(式I)の別途合成還流冷却器、
空気吹き込み管および攪拌機を取り付けた5001三つ
ロフラスコに、p−イソブチルエチルベンゼン130g
と反応開始剤としてアゾイソブチロニトリル5.0gを
入ね、空気を150 ml/ winでバブリングしな
がら激しく攪拌する。反応圧力は大気圧に、および温度
は150℃に保ち、2時間反応させた。反応終了後冷却
して反応液を回収した。
ェニル)エタノ−=ル(式I)の別途合成還流冷却器、
空気吹き込み管および攪拌機を取り付けた5001三つ
ロフラスコに、p−イソブチルエチルベンゼン130g
と反応開始剤としてアゾイソブチロニトリル5.0gを
入ね、空気を150 ml/ winでバブリングしな
がら激しく攪拌する。反応圧力は大気圧に、および温度
は150℃に保ち、2時間反応させた。反応終了後冷却
して反応液を回収した。
回収反応液50g、二硫化モリブデン20+ogを20
0m1オートクレーブに入れ、攪拌しなから常温でプロ
ピレンにより約7 kg/cm2まで加圧した。
0m1オートクレーブに入れ、攪拌しなから常温でプロ
ピレンにより約7 kg/cm2まで加圧した。
激しく攪拌しながら、反応温度110℃で5時間反応さ
せた。
せた。
反応終了後冷却し、反応液のガスクロマトグラフィーに
よりα−(4−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル
)フェニル)エタノールの生成を確認した。GC−MA
SS、GC−IRのスペクトルは実施例1で得たものと
同一であった。
よりα−(4−(1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル
)フェニル)エタノールの生成を確認した。GC−MA
SS、GC−IRのスペクトルは実施例1で得たものと
同一であった。
く参考例1〉
1−ビニル−4−(2,2−ジメチルエチニル)ベンゼ
ン(成田)の合成 理論段数5段の蒸留管とリービッヒ冷却器をつけた30
0m1の三つロフラスコに、シリコーン油150m1お
よび硫酸水素カリウム11.2gを入れて150〜16
0℃に加熱し、真空ポンプにて系内を5mmHg以下の
圧力に維持しながら、実施例1で得られたα−(4−(
1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)フェニル)エタ
ノール133gを徐々に滴下した。リービッヒ冷却器か
らの留出物107gは、そのスペクトル等を標品のもの
と比へ、1−ビニル−4−(2,2−ジメチルエチニル
)ベンゼンであることを確認した。α−(4−(1−ヒ
ドロキシ−2−メチルプロピル)フェニル)エタノール
の転化率は100%および1−ビニル−4−(2,2−
ジメチルエチニル)ベンゼンの選択率は99.1%であ
った。
ン(成田)の合成 理論段数5段の蒸留管とリービッヒ冷却器をつけた30
0m1の三つロフラスコに、シリコーン油150m1お
よび硫酸水素カリウム11.2gを入れて150〜16
0℃に加熱し、真空ポンプにて系内を5mmHg以下の
圧力に維持しながら、実施例1で得られたα−(4−(
1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)フェニル)エタ
ノール133gを徐々に滴下した。リービッヒ冷却器か
らの留出物107gは、そのスペクトル等を標品のもの
と比へ、1−ビニル−4−(2,2−ジメチルエチニル
)ベンゼンであることを確認した。α−(4−(1−ヒ
ドロキシ−2−メチルプロピル)フェニル)エタノール
の転化率は100%および1−ビニル−4−(2,2−
ジメチルエチニル)ベンゼンの選択率は99.1%であ
った。
〈参考例2〉
α−(4−イソブチルフェニル)プロピオン酸(式■、
R=H)の合成 参考例1で得た留出物33g、ビストリフェニルホスフ
ィンパラジウム5.5g、10%塩酸水溶液80g、お
よび溶媒としてトルエン801111を500m1のオ
ートクレーブに入れ、攪拌しながら常温で一酸化炭素に
より100 kg/am”まで加圧した後、120℃に
達するまで加温しながら昇圧し300 kg/am2ま
で加圧した。反応により一酸化炭素の吸収がなくなった
後、更に24時間反応を維続した。反応終了後冷却して
反応液を回収し、分液漏斗で油層を分離し、油層を8%
水酸化ナトリウムで抽出した。抽出水溶液を分液後の水
層と合わせ、塩酸を添加してpH2とした。ついでクロ
ロホルムで抽出し、その抽出液から溶媒を留去してα−
(4−(2,2−ジメチルエチニル)フェニル)プロピ
オン酸の淡黄色結晶38.5 gを得た。融点およびス
ペクトル等は標品と同一であフた。、1−ビニル−4−
(2,2−ジメチルエチニル)ベンゼンの転化率はio
o%で、α−(4−(2,2−ジメチルエチニル)フェ
ニル)プロどオン酸の選択率は90.4%であった。
R=H)の合成 参考例1で得た留出物33g、ビストリフェニルホスフ
ィンパラジウム5.5g、10%塩酸水溶液80g、お
よび溶媒としてトルエン801111を500m1のオ
ートクレーブに入れ、攪拌しながら常温で一酸化炭素に
より100 kg/am”まで加圧した後、120℃に
達するまで加温しながら昇圧し300 kg/am2ま
で加圧した。反応により一酸化炭素の吸収がなくなった
後、更に24時間反応を維続した。反応終了後冷却して
反応液を回収し、分液漏斗で油層を分離し、油層を8%
水酸化ナトリウムで抽出した。抽出水溶液を分液後の水
層と合わせ、塩酸を添加してpH2とした。ついでクロ
ロホルムで抽出し、その抽出液から溶媒を留去してα−
(4−(2,2−ジメチルエチニル)フェニル)プロピ
オン酸の淡黄色結晶38.5 gを得た。融点およびス
ペクトル等は標品と同一であフた。、1−ビニル−4−
(2,2−ジメチルエチニル)ベンゼンの転化率はio
o%で、α−(4−(2,2−ジメチルエチニル)フェ
ニル)プロどオン酸の選択率は90.4%であった。
α−(4−(2,2−ジメチルエチニル)フェニル)プ
ロピオン酸38.5 g、パラジウム炭素3.9g、溶
媒としてメタノール80m1およびトルエン80a+l
を500m1のオートクレーブに入れ、反応温度を50
℃に保ち、水素圧2 o kg/am2で水素の吸収が
なくなるまで反応させた。反応終了後冷却して反応液を
回収し、分液漏斗で油層を分離し、油層を8%水酸化ナ
トリウムで抽出した。
ロピオン酸38.5 g、パラジウム炭素3.9g、溶
媒としてメタノール80m1およびトルエン80a+l
を500m1のオートクレーブに入れ、反応温度を50
℃に保ち、水素圧2 o kg/am2で水素の吸収が
なくなるまで反応させた。反応終了後冷却して反応液を
回収し、分液漏斗で油層を分離し、油層を8%水酸化ナ
トリウムで抽出した。
抽出水溶液を分液後の水層と合わせ、塩酸を添加してp
H2とした。ついでクロロホルムで抽出し、その抽出液
から溶媒を留去して淡黄色の粗α−(4−イソブチルフ
ェニル)プロピオン酸結晶38、2 gを得た。α−(
4−(2,2−ジメチルエチニル)フェニル)プロピオ
ン酸の転化率は100%で、α−(4−(2,2−ジメ
チルエチニル)フェニル)プロピオン酸の選択率は98
.2%であった。
H2とした。ついでクロロホルムで抽出し、その抽出液
から溶媒を留去して淡黄色の粗α−(4−イソブチルフ
ェニル)プロピオン酸結晶38、2 gを得た。α−(
4−(2,2−ジメチルエチニル)フェニル)プロピオ
ン酸の転化率は100%で、α−(4−(2,2−ジメ
チルエチニル)フェニル)プロピオン酸の選択率は98
.2%であった。
粗α−(4−イソブチルフェニル)プロピオン酸結晶3
8.2 gをノルマルヘキサン溶媒で再結晶させ白色の
精製α−(4−イソブチルフェニル)プロピオン酸結晶
30.6gを得た。このものの融点およびスペクトルは
標品と同一であった。
8.2 gをノルマルヘキサン溶媒で再結晶させ白色の
精製α−(4−イソブチルフェニル)プロピオン酸結晶
30.6gを得た。このものの融点およびスペクトルは
標品と同一であった。
〈参考例3〉
α−(4−イソブチルフェニル)プロピオン酸メチル(
式V、 R=CH,)の合成参考例1で得た留出物33
g、メタ、ノール13.4g、溶媒としてトルエン90
+o1.触媒としてジクロロパラジウム0.74 g、
更に配位子のトリフェニルホスフィン2.19gを50
0+1オートクレーブに入れ、攪拌しながら90℃に昇
温した後、−酸化炭素で70 kg/cm”の圧力に保
ち、8時間反応させた。反応終了後冷却して反応液を回
収し、減圧蒸留にて触媒を分離除去した。
式V、 R=CH,)の合成参考例1で得た留出物33
g、メタ、ノール13.4g、溶媒としてトルエン90
+o1.触媒としてジクロロパラジウム0.74 g、
更に配位子のトリフェニルホスフィン2.19gを50
0+1オートクレーブに入れ、攪拌しながら90℃に昇
温した後、−酸化炭素で70 kg/cm”の圧力に保
ち、8時間反応させた。反応終了後冷却して反応液を回
収し、減圧蒸留にて触媒を分離除去した。
こtとパラジウム炭素3.9gを、500m1オートク
レーブに入れ、反応温度を50℃に保ち、水素圧20
kg/cm’で水素の吸収がなくなるまで反応させた。
レーブに入れ、反応温度を50℃に保ち、水素圧20
kg/cm’で水素の吸収がなくなるまで反応させた。
反応終了後冷却して反応液を回収し、触媒を濾別し、溶
媒を留去して残油41.Ogをガスクロマドクラフィー
で分析したところ、α−(4−イソブチルフェニル)プ
ロピオン酸メチル95.6%、その他4.4%であった
。
媒を留去して残油41.Ogをガスクロマドクラフィー
で分析したところ、α−(4−イソブチルフェニル)プ
ロピオン酸メチル95.6%、その他4.4%であった
。
〈参考例4〉
α−(4−イソブチルフェニル)プロピオン酸メチルの
加水分解によるα−(4−イソブチルフェニル)プロピ
オン酸の製造 参考例3で得られたα−(4−インブチルフェニル)プ
ロピオン酸メチルを含む残油と10%の水酸化ナトリウ
ム水溶液2001とを攪拌しながら還流させ約3時間加
水分解を行なった。冷却後反応液から水層を分離し、こ
iに塩酸を添加してpH2とした。次いでクロロホルム
で抽出し、その抽出液から溶媒を留去して淡黄色の粗α
−〈4−イソブチルフェニル)プロピオン酸結晶36.
0gを得た。
加水分解によるα−(4−イソブチルフェニル)プロピ
オン酸の製造 参考例3で得られたα−(4−インブチルフェニル)プ
ロピオン酸メチルを含む残油と10%の水酸化ナトリウ
ム水溶液2001とを攪拌しながら還流させ約3時間加
水分解を行なった。冷却後反応液から水層を分離し、こ
iに塩酸を添加してpH2とした。次いでクロロホルム
で抽出し、その抽出液から溶媒を留去して淡黄色の粗α
−〈4−イソブチルフェニル)プロピオン酸結晶36.
0gを得た。
粗α−(4−インブチルフェニル)プロピオン酸結晶3
60gをノルマルヘキサン溶媒で再結晶させ白色の精製
α−(4−インブチルフェニル)プロピオン酸結晶28
.9gを得た。このものの融点、スペクトルは標品と同
一であった。
60gをノルマルヘキサン溶媒で再結晶させ白色の精製
α−(4−インブチルフェニル)プロピオン酸結晶28
.9gを得た。このものの融点、スペクトルは標品と同
一であった。
第1図はIRスペクトルチャート、第2図はIH−NM
Rスペクトルチャートおよび第3図は’3C−N M
Rスペクトルチャートである。
Rスペクトルチャートおよび第3図は’3C−N M
Rスペクトルチャートである。
Claims (1)
- (1)下記構造式( I )で表わされるα−(4−(1
−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)フェニル)エタノ
ール。 ▲数式、化学式、表等があります▼式( I )
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2095330A JP2838226B2 (ja) | 1990-04-11 | 1990-04-11 | α―(4―(1―ヒドロキシ―2―メチルプロピル)フェニル)エタノール |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2095330A JP2838226B2 (ja) | 1990-04-11 | 1990-04-11 | α―(4―(1―ヒドロキシ―2―メチルプロピル)フェニル)エタノール |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03294241A true JPH03294241A (ja) | 1991-12-25 |
| JP2838226B2 JP2838226B2 (ja) | 1998-12-16 |
Family
ID=14134713
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2095330A Expired - Fee Related JP2838226B2 (ja) | 1990-04-11 | 1990-04-11 | α―(4―(1―ヒドロキシ―2―メチルプロピル)フェニル)エタノール |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2838226B2 (ja) |
-
1990
- 1990-04-11 JP JP2095330A patent/JP2838226B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2838226B2 (ja) | 1998-12-16 |
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