JPH03295017A - 磁気ヘッドスライダーの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドスライダーの製造方法Info
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- JPH03295017A JPH03295017A JP9722690A JP9722690A JPH03295017A JP H03295017 A JPH03295017 A JP H03295017A JP 9722690 A JP9722690 A JP 9722690A JP 9722690 A JP9722690 A JP 9722690A JP H03295017 A JPH03295017 A JP H03295017A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要］
この発明は、たとえばコンピュータシステムの外部記憶
装置である磁気ディスク装置に使用されるコンタクト・
スタート・ストップ・タイプの磁気ヘッドのヘッドスラ
イダ−の形成方法に関し、磁気ディスクとＣＳ Ｓ （
Ｃｏｎｔａｃｔ ５ｔａｒｔ ５ｔｏｐ）する浮上面を
最終研磨する前の、浮上面の粗研磨の前およびあるいは
後に、時効硬化処理（エージング）を施すことにより、
浮上面の最終研磨の後に、浮上面の平面度が経時変化す
ることなく、高精度のヘッドスライダ−の浮上面の平面
度を出すことを目的とし、 磁気ディスク装置に使用されるコンタクト・スタート・
ストップ・タイプの磁気ヘッドの製造方法において、ヘ
ッドスライダの浮上面の最終研磨工程の前の、浮上面の
粗研磨工程の前およびあるいは後に、時効硬化処理工程
を介在させて、ヘッドスライダ−の浮上面の平面度を出
すことを特徴とするものである。
装置である磁気ディスク装置に使用されるコンタクト・
スタート・ストップ・タイプの磁気ヘッドのヘッドスラ
イダ−の形成方法に関し、磁気ディスクとＣＳ Ｓ （
Ｃｏｎｔａｃｔ ５ｔａｒｔ ５ｔｏｐ）する浮上面を
最終研磨する前の、浮上面の粗研磨の前およびあるいは
後に、時効硬化処理（エージング）を施すことにより、
浮上面の最終研磨の後に、浮上面の平面度が経時変化す
ることなく、高精度のヘッドスライダ−の浮上面の平面
度を出すことを目的とし、 磁気ディスク装置に使用されるコンタクト・スタート・
ストップ・タイプの磁気ヘッドの製造方法において、ヘ
ッドスライダの浮上面の最終研磨工程の前の、浮上面の
粗研磨工程の前およびあるいは後に、時効硬化処理工程
を介在させて、ヘッドスライダ−の浮上面の平面度を出
すことを特徴とするものである。
この発明は、たとえばコンピュータシステムの外部記憶
装置である磁気ディスク装置に使用されるコンタクト・
スタート・ストップ・タイプの磁気ヘッドのヘッドスラ
イダ−の形成方法に関するものである。
装置である磁気ディスク装置に使用されるコンタクト・
スタート・ストップ・タイプの磁気ヘッドのヘッドスラ
イダ−の形成方法に関するものである。
従来の磁気ヘッドのヘッドスライダ−の形成を、第５図
乃至第１４図に示す形成工程およびこの工程に関連する
図面にしたがって説明する。
乃至第１４図に示す形成工程およびこの工程に関連する
図面にしたがって説明する。
第５図の（ａ）は第（１）の工程であるウェハーのパタ
ーンニング面の切断工程である。
ーンニング面の切断工程である。
この工程においては、第５図の（ｂ）に示すように、た
とえば直径３インチ（約７．６２ｃ１）、厚さ４．０〜
４．６ｍｍのウェハー１の表面に約４００程度度の多数
の電磁変換素子部２（第６図の（Ｃ）参照）が、フォト
リソグラフィ技術、電解めっき技術、真空蒸着技術など
の薄膜形成技術を組み合わせることにより形成されてお
り、これらの電磁変換素子部２がたとえば１０個程度並
設された長方形ブロック３に切断するが、次の加工がま
とめてできるように、第５図の（Ｃ）に示す拡大側面図
のように、ばらばらにならない程度に切り残す。
とえば直径３インチ（約７．６２ｃ１）、厚さ４．０〜
４．６ｍｍのウェハー１の表面に約４００程度度の多数
の電磁変換素子部２（第６図の（Ｃ）参照）が、フォト
リソグラフィ技術、電解めっき技術、真空蒸着技術など
の薄膜形成技術を組み合わせることにより形成されてお
り、これらの電磁変換素子部２がたとえば１０個程度並
設された長方形ブロック３に切断するが、次の加工がま
とめてできるように、第５図の（Ｃ）に示す拡大側面図
のように、ばらばらにならない程度に切り残す。
第６図の（ａ）は第（２）の工程であるウェハーの裏面
の研削により複数の磁気ヘッド素子を有する長方形ブロ
ックの切り出し工程である。
の研削により複数の磁気ヘッド素子を有する長方形ブロ
ックの切り出し工程である。
この工程においては、第６図の（ｂ）に示すように、ウ
ェハー１のパターンニング面を下にしてこれを治具４に
接着ワックスで貼り付け、図示しないダイヤモンド砥石
でウェハー１の裏面を研削し、第６図の（Ｃ）に示すよ
うに、複数の電磁変換素子部２を有する長方形ブロック
３に切り出す。
ェハー１のパターンニング面を下にしてこれを治具４に
接着ワックスで貼り付け、図示しないダイヤモンド砥石
でウェハー１の裏面を研削し、第６図の（Ｃ）に示すよ
うに、複数の電磁変換素子部２を有する長方形ブロック
３に切り出す。
第７図の（ａ）は第（３）の工程である長方形ブロック
の加工治具への貼り付は工程である。
の加工治具への貼り付は工程である。
この工程においては、第７図の（ｂ）に示すように、磁
気ヘッド素子の大きさごとに切断案内溝５ａを有する加
工治具５に、長方形ブロック３の裏面を接着ワックスに
て貼り付ける。
気ヘッド素子の大きさごとに切断案内溝５ａを有する加
工治具５に、長方形ブロック３の裏面を接着ワックスに
て貼り付ける。
第８図の（ａ）は第（４）の工程である磁気ギャップ部
の研削工程である。
の研削工程である。
この工程においては、第８図の（ｂ）に示すように、磁
気ヘッドの電磁変換特性に重要な磁気ギャップ面６を、
基準パターンを測定しながら、回転砥石７で研削する。
気ヘッドの電磁変換特性に重要な磁気ギャップ面６を、
基準パターンを測定しながら、回転砥石７で研削する。
第９図の（ａ）は第（５）の工程であるヘッドスライダ
−の浮上面の形成工程である。
−の浮上面の形成工程である。
この工程においては、第９図の（ｂ）に示すように１図
示しないダイヤモンド砥石にてヘッドスライダ−８の浮
上面８ａを研削して形成するとともに、この浮上面８ａ
の両側に、狭い溝９を研削して形成する。
示しないダイヤモンド砥石にてヘッドスライダ−８の浮
上面８ａを研削して形成するとともに、この浮上面８ａ
の両側に、狭い溝９を研削して形成する。
第１０図の（ａ）は第（６）の工程である浮上面間の溝
の形成工程である。
の形成工程である。
この工程においては、第１０図の（ｂ）に示すように、
ヘッドスライダ−８の浮上面８ａの間に、前記狭い溝９
を含めて広い溝１０をダイヤモンド砥石にて形成する。
ヘッドスライダ−８の浮上面８ａの間に、前記狭い溝９
を含めて広い溝１０をダイヤモンド砥石にて形成する。
第１１図の（ａ）は第（７）の工程である複数の磁気ヘ
ッド素子を有する長方形ブロックから個々の磁気ヘッド
素子を分離切断する工程である。
ッド素子を有する長方形ブロックから個々の磁気ヘッド
素子を分離切断する工程である。
この工程においては、第１１図の（ｂ）に示すように、
前記加工治具５の切断案内溝５ａに対向する、個々の磁
気ヘッド素子のヘッドスライダ−８に隣接する浮上面８
ａの間を、ダイヤモンド砥石にて、前記加工治具５の切
断案内溝５ａに至まで切断する。このようにして、加工
治具５の上では、個々の磁気ヘッド素子に分離切断され
るが、これらの磁気ヘッド素子は加工治具５の上に貼り
付けられたまま以後の加工を続行する。
前記加工治具５の切断案内溝５ａに対向する、個々の磁
気ヘッド素子のヘッドスライダ−８に隣接する浮上面８
ａの間を、ダイヤモンド砥石にて、前記加工治具５の切
断案内溝５ａに至まで切断する。このようにして、加工
治具５の上では、個々の磁気ヘッド素子に分離切断され
るが、これらの磁気ヘッド素子は加工治具５の上に貼り
付けられたまま以後の加工を続行する。
第１２図の（ａ）は第（８）の工程であるヘッドスライ
ダ−の浮上面の粗研磨および研磨仕上工程である。
ダ−の浮上面の粗研磨および研磨仕上工程である。
この工程においては、第１２図の（ｂ）に示すように、
モータで研摩定盤１１を回転させ、ダイヤモンドスラリ
ーを供給しながら、ヘッドスライダ−８の浮上面８ａの
粗研磨を行い、次に研磨仕上を行う。粗研磨と研磨仕上
との違いは、ダイヤモンドスラリー中のダイヤモンドの
粒子が異なる。
モータで研摩定盤１１を回転させ、ダイヤモンドスラリ
ーを供給しながら、ヘッドスライダ−８の浮上面８ａの
粗研磨を行い、次に研磨仕上を行う。粗研磨と研磨仕上
との違いは、ダイヤモンドスラリー中のダイヤモンドの
粒子が異なる。
なお、前記加工治具５は研磨定盤１１上で揺動および自
転させる。
転させる。
第１３図の（ａ）は第（９）の工程であるヘッドスライ
ダ−の浮上面のエア流入端の研磨工程である。
ダ−の浮上面のエア流入端の研磨工程である。
二の工程においては、第１３図の（ｂ）に示すように、
エア流入端角度（２０〜３０′）の付いた研磨機１２の
アーム１２ａの先に、前記多数の磁気ヘッド素子が接着
された加工治具５を取付け、この加工治具５に取り付け
た磁気ヘッド素子のヘッドスライダ−８の浮上面８ａの
エア流入端部８ｂを定盤１３の上で研磨する。第１３図
の（Ｃ）は研磨されたヘッドスライダ−８のエア流入端
部８ｂを示す図である。
エア流入端角度（２０〜３０′）の付いた研磨機１２の
アーム１２ａの先に、前記多数の磁気ヘッド素子が接着
された加工治具５を取付け、この加工治具５に取り付け
た磁気ヘッド素子のヘッドスライダ−８の浮上面８ａの
エア流入端部８ｂを定盤１３の上で研磨する。第１３図
の（Ｃ）は研磨されたヘッドスライダ−８のエア流入端
部８ｂを示す図である。
第１４図の（ａ）は第００の工程であるヘッドスライダ
−の稜部の研磨工程である。
−の稜部の研磨工程である。
この工程においては、第１４図の（ｂ）に示すように、
稜部研磨機１４の定盤１４ａの上にゴム板１５を敷き、
この上にダイヤモンドテープ１６を貼り付け、この上で
前記加工治具５に接着して取り付けた磁気ヘッド素子を
動かし、そのヘッドスライダ−８の稜部８Ｃを研磨した
後、個々の磁気ヘッド素子の加工治具５への接着を取り
外すと、第１４図の（Ｃ）に示すように、浮上面８ａの
稜部８ｃが研磨されたヘッドスライダ−８が、磁気ヘッ
ド素子Ｈに形成される。
稜部研磨機１４の定盤１４ａの上にゴム板１５を敷き、
この上にダイヤモンドテープ１６を貼り付け、この上で
前記加工治具５に接着して取り付けた磁気ヘッド素子を
動かし、そのヘッドスライダ−８の稜部８Ｃを研磨した
後、個々の磁気ヘッド素子の加工治具５への接着を取り
外すと、第１４図の（Ｃ）に示すように、浮上面８ａの
稜部８ｃが研磨されたヘッドスライダ−８が、磁気ヘッ
ド素子Ｈに形成される。
しかしながら、前記従来の磁気ヘッドのヘッドスライダ
−の形成方法においては、磁気ヘッド素子Ｈを加工治具
５に接着したままヘッドスライダ−８の浮上面８ａを研
磨して、この浮上面８ａの平面度を出しているが、加工
治具５への接着を取り外して個々の磁気ヘッド素子Ｈに
すると、今まで加工治具５への接着によって押さえられ
ていた、磁気ヘッド素子Ｈの加工歪みが解放され、前記
浮上面８ａの平面度が変化する、といった問題があった
。
−の形成方法においては、磁気ヘッド素子Ｈを加工治具
５に接着したままヘッドスライダ−８の浮上面８ａを研
磨して、この浮上面８ａの平面度を出しているが、加工
治具５への接着を取り外して個々の磁気ヘッド素子Ｈに
すると、今まで加工治具５への接着によって押さえられ
ていた、磁気ヘッド素子Ｈの加工歪みが解放され、前記
浮上面８ａの平面度が変化する、といった問題があった
。
この発明は、このような従来の課題を解消するためにな
された発明であって、磁気ディスクとＣ３Ｓする浮上面
を最終研磨する前の、浮上面の粗研磨の前およびあるい
は後に、時効硬化処理を施すことにより、浮上面の最終
研磨の後に、浮上面の平面度が経時変化することなく、
高精度のヘッドスライダ−の浮上面の平面度を出すこと
を目的としたものである。
された発明であって、磁気ディスクとＣ３Ｓする浮上面
を最終研磨する前の、浮上面の粗研磨の前およびあるい
は後に、時効硬化処理を施すことにより、浮上面の最終
研磨の後に、浮上面の平面度が経時変化することなく、
高精度のヘッドスライダ−の浮上面の平面度を出すこと
を目的としたものである。
この発明は、前記のような課題を解決するため、磁気デ
ィスク装置に使用される、第１図に示すようなコンタク
ト・スタート・ストップ・タイプの磁気ヘッドの製造方
法において、第２図乃至第４図に示すように、ヘッドス
ライダ８の浮上面８ａの最終研磨工程の前の、浮上面８
ａの粗研磨工程の前およびあるいは後に、時効硬化処理
工程を介在させて、ヘッドスライダ−８の浮上面８ａの
平面度を出すことを特徴とする磁気ヘッドのヘッドスラ
イダ−の形成方法としたものである。
ィスク装置に使用される、第１図に示すようなコンタク
ト・スタート・ストップ・タイプの磁気ヘッドの製造方
法において、第２図乃至第４図に示すように、ヘッドス
ライダ８の浮上面８ａの最終研磨工程の前の、浮上面８
ａの粗研磨工程の前およびあるいは後に、時効硬化処理
工程を介在させて、ヘッドスライダ−８の浮上面８ａの
平面度を出すことを特徴とする磁気ヘッドのヘッドスラ
イダ−の形成方法としたものである。
この発明のようにすると、すなわち、浮上面８ａを最終
研磨する前の、浮上面８ａの粗研磨の前およびあるいは
後に、時効硬化処理を施すことにより、浮上面８ａを最
終研磨した後に、加工治具から磁気ヘッド素子Ｈを取り
外しても、この磁気ヘッド素子Ｈに形成したヘッドスラ
イダ−８の浮上面８ａの平面度が変化することがなくな
る。
研磨する前の、浮上面８ａの粗研磨の前およびあるいは
後に、時効硬化処理を施すことにより、浮上面８ａを最
終研磨した後に、加工治具から磁気ヘッド素子Ｈを取り
外しても、この磁気ヘッド素子Ｈに形成したヘッドスラ
イダ−８の浮上面８ａの平面度が変化することがなくな
る。
以下、この発明の磁気ヘッドのヘッドスライダ−の形成
方法の実施例を第１図乃至第４図に基づいて詳細に説明
する。
方法の実施例を第１図乃至第４図に基づいて詳細に説明
する。
第１図はこの発明の方法によってヘッドスライダ−が形
成された磁気ヘッド素子Ｈの斜視図であり、その形状構
成は従来例のものと同じであり、その構成部には同一符
号を付け、その詳細な説明は省略する。
成された磁気ヘッド素子Ｈの斜視図であり、その形状構
成は従来例のものと同じであり、その構成部には同一符
号を付け、その詳細な説明は省略する。
第２図はこの発明の磁気ヘッドのヘッドスライダ−の形
成方法の第１の実施例の形成工程を示す図である。
成方法の第１の実施例の形成工程を示す図である。
すなわち、第（１）の工程であるウェハーのパターンニ
ング面の切削工程と、第（２）の工程であるウェハーの
裏面の研削により複数の磁気ヘッド素子を有する長方形
ブロックの切り出し工程と、第（３）の工程である長方
形ブロックの治具への貼り付は工程と、第（４）の工程
である磁気ギャップ部の研削工程と、第（５）の工程で
あるヘッドスライダ−の浮上面の形成工程と、第（６）
の工程である浮上面間の溝の形成工程と、第（７）の工
程である複数の磁気ヘッド素子を有する長方形ブロック
から個々の磁気ヘッド素子の分離切断工程とは、前記従
来例と同じである。
ング面の切削工程と、第（２）の工程であるウェハーの
裏面の研削により複数の磁気ヘッド素子を有する長方形
ブロックの切り出し工程と、第（３）の工程である長方
形ブロックの治具への貼り付は工程と、第（４）の工程
である磁気ギャップ部の研削工程と、第（５）の工程で
あるヘッドスライダ−の浮上面の形成工程と、第（６）
の工程である浮上面間の溝の形成工程と、第（７）の工
程である複数の磁気ヘッド素子を有する長方形ブロック
から個々の磁気ヘッド素子の分離切断工程とは、前記従
来例と同じである。
（８）は第（８）の工程である時効硬化処理工程である
。
。
この時効硬化処理の目的は、前記磁気ヘッド素子の形状
、加工による歪みが、接着ワックスによって磁気ヘッド
素子が加工治具５に固定されて押さえられているのを、
前記接着ワックスを軟化点（融点ではない）まで加熱し
、加工歪み、加工形状の変化による歪みを、ヘッドスラ
イダ−の浮上面を研磨する前に解放することである。
、加工による歪みが、接着ワックスによって磁気ヘッド
素子が加工治具５に固定されて押さえられているのを、
前記接着ワックスを軟化点（融点ではない）まで加熱し
、加工歪み、加工形状の変化による歪みを、ヘッドスラ
イダ−の浮上面を研磨する前に解放することである。
この加熱手段として、第３図の（ａ）に示すように、ホ
ットプレート１７の上に、複数の磁気ヘッド素子を有す
る長方形ブロック３を置いて、この長方形ブロック３に
複数の磁気ヘッド素子を接着した接着ワックスの軟化点
まで加熱した後、ホットプレート１７の電源を切り、こ
の長方形ブロック３をホットプレート１７の上で常温ま
で徐々に下げる。または第３図の（ｂ）に示すように、
加熱された長方形ブロック３を、ホットプレート１７か
ら断熱台１８の上に置いて常温まで徐々に下げる。
ットプレート１７の上に、複数の磁気ヘッド素子を有す
る長方形ブロック３を置いて、この長方形ブロック３に
複数の磁気ヘッド素子を接着した接着ワックスの軟化点
まで加熱した後、ホットプレート１７の電源を切り、こ
の長方形ブロック３をホットプレート１７の上で常温ま
で徐々に下げる。または第３図の（ｂ）に示すように、
加熱された長方形ブロック３を、ホットプレート１７か
ら断熱台１８の上に置いて常温まで徐々に下げる。
また、前記複数の磁気ヘッド素子を有する長方形ブロッ
ク３の加熱手段として、適度の熱容量のある加熱炉１９
の中に、この長方形ブロック３を収納した容器２０を入
れ、この加熱炉１９の中でこの長方形ブロック３に複数
の磁気ヘッド素子を接着した接着ワックスの軟化点まで
加熱した後、この長方形ブロック３をこの加熱炉１９の
中から取り出し、常温まで徐々に下げるか、または加熱
炉１９の電源を切り、加熱炉１９の中でこの長方形ブロ
ック３を常温まで徐々に下げる。
ク３の加熱手段として、適度の熱容量のある加熱炉１９
の中に、この長方形ブロック３を収納した容器２０を入
れ、この加熱炉１９の中でこの長方形ブロック３に複数
の磁気ヘッド素子を接着した接着ワックスの軟化点まで
加熱した後、この長方形ブロック３をこの加熱炉１９の
中から取り出し、常温まで徐々に下げるか、または加熱
炉１９の電源を切り、加熱炉１９の中でこの長方形ブロ
ック３を常温まで徐々に下げる。
（９）は第（９）の工程であるヘッドスライダ−の浮上
面の粗研磨および研磨仕上工程である。
面の粗研磨および研磨仕上工程である。
この第（９）の工程においては、従来例の第１２図に示
したものと同様に、モータで研磨定盤１１を回転させ、
ダイヤモンドスラリーを供給しながら、ヘッドスライダ
−８の浮上面８ａの粗研磨を行い、次に研磨仕上を行う
。粗研磨と研磨仕上との違いは、ダイヤモンドスラリー
中のダイヤモンドの粒子が異なる。なお、前記加工治具
５は研磨定盤１１上で揺動および自転させる。
したものと同様に、モータで研磨定盤１１を回転させ、
ダイヤモンドスラリーを供給しながら、ヘッドスライダ
−８の浮上面８ａの粗研磨を行い、次に研磨仕上を行う
。粗研磨と研磨仕上との違いは、ダイヤモンドスラリー
中のダイヤモンドの粒子が異なる。なお、前記加工治具
５は研磨定盤１１上で揺動および自転させる。
００）は第００）の工程であるヘッドスライダ−の浮上
面のエア流入端の研磨工程であり、この工程においては
、従来例の第１３図に示したものと同様に、エア流入端
角度（２０〜３０′）の付いた研磨機１２のアーム１２
ａの先に、前記多数の磁気ヘッド素子が接着された加工
治具５を取付け、この加工治具５に取り付けた磁気ヘッ
ド素子のヘッドスライダ−８の浮上面８ａのエア流入端
部を定盤１３の上で研磨する。
面のエア流入端の研磨工程であり、この工程においては
、従来例の第１３図に示したものと同様に、エア流入端
角度（２０〜３０′）の付いた研磨機１２のアーム１２
ａの先に、前記多数の磁気ヘッド素子が接着された加工
治具５を取付け、この加工治具５に取り付けた磁気ヘッ
ド素子のヘッドスライダ−８の浮上面８ａのエア流入端
部を定盤１３の上で研磨する。
（ＩＩ）は第Ｏ１）の工程であるヘッドスライダ−の稜
部の研磨工程であり、この工程においては、従来例の第
１４図に示したものと同様に、稜部研磨機１４の定盤１
４ａの上にゴム板１５を敷き、この上にダイヤモンドテ
ープ１６を貼り付け、この上で前記加工治具５に接着し
て取り付けた磁気ヘッド素子を動かし、そのヘッドスラ
イダ−８の稜部を研磨する。
部の研磨工程であり、この工程においては、従来例の第
１４図に示したものと同様に、稜部研磨機１４の定盤１
４ａの上にゴム板１５を敷き、この上にダイヤモンドテ
ープ１６を貼り付け、この上で前記加工治具５に接着し
て取り付けた磁気ヘッド素子を動かし、そのヘッドスラ
イダ−８の稜部を研磨する。
θ力は第０２）の工程である個々の磁気ヘッド素子の洗
浄工程であり、加工治具から個々の磁気ヘッド素子を取
り外し、図示しない洗浄手段によって洗浄する。
浄工程であり、加工治具から個々の磁気ヘッド素子を取
り外し、図示しない洗浄手段によって洗浄する。
側は第０３）の工程である個々の磁気ヘッド素子の検査
工程であり、図示しない検査装置でこの磁気ヘッド素子
の性能を検査する。
工程であり、図示しない検査装置でこの磁気ヘッド素子
の性能を検査する。
第４図はこの発明の磁気ヘッドのヘッドスライダ−の形
成方法の第２の実施例の形成工程を示す図である。この
第２の実施例が前記第１の実施例と相違する点は、第（
９）の工程であるヘッドスライダ−の浮上面の粗研磨工
程の前後に、前記同様の時効硬化処理工程を介在させて
、前記磁気ヘッド素子を加工治具に接着した接着ワック
スを軟化点まで加熱して、加工歪み、加工形状の変化に
よる歪みを、ヘッドスライダ−の浮上面を粗研磨する前
および仕上研磨する前に解放するようにしだものである
。
成方法の第２の実施例の形成工程を示す図である。この
第２の実施例が前記第１の実施例と相違する点は、第（
９）の工程であるヘッドスライダ−の浮上面の粗研磨工
程の前後に、前記同様の時効硬化処理工程を介在させて
、前記磁気ヘッド素子を加工治具に接着した接着ワック
スを軟化点まで加熱して、加工歪み、加工形状の変化に
よる歪みを、ヘッドスライダ−の浮上面を粗研磨する前
および仕上研磨する前に解放するようにしだものである
。
このように、時効硬化処理を施すことにより、ヘッドス
ライダ−８の浮上面８ａを最終研磨した後に、加工治具
から磁気ヘッド素子Ｈを取り外しても、この磁気ヘッド
素子Ｈに形成したヘッドスライダ−８の浮上面８ａの平
面度が変化することがなくなる。
ライダ−８の浮上面８ａを最終研磨した後に、加工治具
から磁気ヘッド素子Ｈを取り外しても、この磁気ヘッド
素子Ｈに形成したヘッドスライダ−８の浮上面８ａの平
面度が変化することがなくなる。
この発明は、以上説明したように、磁気ディスク装置に
使用されるコンタクト・スタート・ストップ・タイプの
磁気ヘッドの製造方法において、ヘッドスライダの浮上
面の最終研磨工程の前の、浮上面の粗研磨工程の前およ
びあるいは後に、時効硬化処理工程を介在させて、ヘッ
ドスライダ−の浮上面の平面度を出すことを特徴とする
磁気ヘッドのヘッドスライダ−の形成方法としたので、
浮上面の最終研磨の後に、加工治具から磁気ヘッド素子
を取り外しても、この磁気ヘッド素子に形成したヘッド
スライダ−の浮上面の平面度が変化することがなく、ま
た、浮上面の平面度が経時変化しなくなり、ヘッドスラ
イダ−の浮上面の平面度を高精度にした磁気ヘッドを提
供すことができる。
使用されるコンタクト・スタート・ストップ・タイプの
磁気ヘッドの製造方法において、ヘッドスライダの浮上
面の最終研磨工程の前の、浮上面の粗研磨工程の前およ
びあるいは後に、時効硬化処理工程を介在させて、ヘッ
ドスライダ−の浮上面の平面度を出すことを特徴とする
磁気ヘッドのヘッドスライダ−の形成方法としたので、
浮上面の最終研磨の後に、加工治具から磁気ヘッド素子
を取り外しても、この磁気ヘッド素子に形成したヘッド
スライダ−の浮上面の平面度が変化することがなく、ま
た、浮上面の平面度が経時変化しなくなり、ヘッドスラ
イダ−の浮上面の平面度を高精度にした磁気ヘッドを提
供すことができる。
第１図はこの発明の方法によって製造された磁気ヘッド
素子の斜視図、第２図はこの発明の磁気ヘッドのヘッド
スライダ−の形成方法の第１の実施例の形成工程を示す
図、第３図は時効硬化処理工程の実施例を示す図、第４
図はこの発明の第２の実施例の形成工程を示す図、第５
図乃至第１４図は従来の磁気ヘッドのヘッドスライダ−
の形成方法の工程およびこの工程に関連する図面である
。 １・・・ウェハー ２・・・電磁変換素子 ３・・・長方形ブロック ４・・・治具 ５・・・加工治具 ５ａ・・・切削案内溝 ６・・・磁気ギャップ面 ７・・・回転砥石 ８・・・ヘッドスライダ− ８ａ・・・浮上面 ８ｂ・・・エア流入端部 ８ｃ・・・稜部 ９・・・狭い溝 １０・・・広い溝 １１・・・研磨定盤 １２・・・研９機 °１２ａ・・・アーム １３・・・定盤 １４・・・稜部研磨機 １４ａ・・・定盤 １５・・・ゴム板 １６・・・ダイヤモンドテープ １７・・・ホットプレート １８・・・断熱台 １９・・・加熱炉 ２０・・・容器 この発明の方法によって製造された磁気ヘッド素子の斜
視仄第１図 （ａ） （ｂ） 第７図 シ （ａ） （ｂ） 第８図 ９狭い溝 （ａン （ｂ） 第９図 」 （ａ） （ｂ） 第１０図 」１［ （ａ） （ｂ） 第１１図
素子の斜視図、第２図はこの発明の磁気ヘッドのヘッド
スライダ−の形成方法の第１の実施例の形成工程を示す
図、第３図は時効硬化処理工程の実施例を示す図、第４
図はこの発明の第２の実施例の形成工程を示す図、第５
図乃至第１４図は従来の磁気ヘッドのヘッドスライダ−
の形成方法の工程およびこの工程に関連する図面である
。 １・・・ウェハー ２・・・電磁変換素子 ３・・・長方形ブロック ４・・・治具 ５・・・加工治具 ５ａ・・・切削案内溝 ６・・・磁気ギャップ面 ７・・・回転砥石 ８・・・ヘッドスライダ− ８ａ・・・浮上面 ８ｂ・・・エア流入端部 ８ｃ・・・稜部 ９・・・狭い溝 １０・・・広い溝 １１・・・研磨定盤 １２・・・研９機 °１２ａ・・・アーム １３・・・定盤 １４・・・稜部研磨機 １４ａ・・・定盤 １５・・・ゴム板 １６・・・ダイヤモンドテープ １７・・・ホットプレート １８・・・断熱台 １９・・・加熱炉 ２０・・・容器 この発明の方法によって製造された磁気ヘッド素子の斜
視仄第１図 （ａ） （ｂ） 第７図 シ （ａ） （ｂ） 第８図 ９狭い溝 （ａン （ｂ） 第９図 」 （ａ） （ｂ） 第１０図 」１［ （ａ） （ｂ） 第１１図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 磁気ディスク装置に使用されるコンタクト・スタート・
ストップ・タイプの磁気ヘッドの製造方法において、 ヘッドスライダ（８）の浮上面（８ａ）の最終研磨工程
の前の、浮上面（８ａ）の粗研磨工程の前およびあるい
は後に、時効硬化処理工程を介在させて、ヘッドスライ
ダー（８）の浮上面（８ａ）の平面度を出すことを特徴
とする磁気ヘッドのヘッドスライダーの形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9722690A JP2811599B2 (ja) | 1990-04-12 | 1990-04-12 | 磁気ヘッドスライダーの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9722690A JP2811599B2 (ja) | 1990-04-12 | 1990-04-12 | 磁気ヘッドスライダーの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03295017A true JPH03295017A (ja) | 1991-12-26 |
| JP2811599B2 JP2811599B2 (ja) | 1998-10-15 |
Family
ID=14186719
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9722690A Expired - Fee Related JP2811599B2 (ja) | 1990-04-12 | 1990-04-12 | 磁気ヘッドスライダーの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2811599B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06139750A (ja) * | 1992-07-14 | 1994-05-20 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 低融点ワックスを用いてヘッドをディスク駆動装置に組み込む方法及びヘッド懸垂構造体 |
| US5718035A (en) * | 1995-03-02 | 1998-02-17 | Tdk Corporation | Manufacturing method of thin film magnetic heads |
| US6081991A (en) * | 1997-09-12 | 2000-07-04 | Tdk Corporation | Manufacturing method of magnetic head apparatus |
| US6202289B1 (en) | 1998-10-30 | 2001-03-20 | Hitachi Metals, Ltd. | Manufacturing process of thin film magnetic head sliders |
| US6843878B1 (en) | 2003-09-30 | 2005-01-18 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. | Method of automatically debonding, processing, and handling fragile slider rows |
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| US7028394B2 (en) | 2003-09-30 | 2006-04-18 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | System for automatically debonding, processing, and handling fragile slider rows |
| US7461447B2 (en) | 2006-05-05 | 2008-12-09 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method of fabrication of magnetic head having annealed embedded read sensor |
| US8286334B2 (en) | 2006-07-14 | 2012-10-16 | Hitachi Global Storage Technologies, Netherlands B.V. | Method of manufacturing pre-sliders for read write heads by annealing to saturation |
-
1990
- 1990-04-12 JP JP9722690A patent/JP2811599B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06139750A (ja) * | 1992-07-14 | 1994-05-20 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 低融点ワックスを用いてヘッドをディスク駆動装置に組み込む方法及びヘッド懸垂構造体 |
| US5718035A (en) * | 1995-03-02 | 1998-02-17 | Tdk Corporation | Manufacturing method of thin film magnetic heads |
| US6081991A (en) * | 1997-09-12 | 2000-07-04 | Tdk Corporation | Manufacturing method of magnetic head apparatus |
| US6202289B1 (en) | 1998-10-30 | 2001-03-20 | Hitachi Metals, Ltd. | Manufacturing process of thin film magnetic head sliders |
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| US6843298B1 (en) | 2003-09-30 | 2005-01-18 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. | Apparatus for automatically debonding, processing, and handling fragile slider rows |
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| US7461447B2 (en) | 2006-05-05 | 2008-12-09 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method of fabrication of magnetic head having annealed embedded read sensor |
| US8286334B2 (en) | 2006-07-14 | 2012-10-16 | Hitachi Global Storage Technologies, Netherlands B.V. | Method of manufacturing pre-sliders for read write heads by annealing to saturation |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2811599B2 (ja) | 1998-10-15 |
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|---|---|---|---|
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