JPH11328644A - ヘッドスライダの製造方法 - Google Patents
ヘッドスライダの製造方法Info
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- JPH11328644A JPH11328644A JP13828298A JP13828298A JPH11328644A JP H11328644 A JPH11328644 A JP H11328644A JP 13828298 A JP13828298 A JP 13828298A JP 13828298 A JP13828298 A JP 13828298A JP H11328644 A JPH11328644 A JP H11328644A
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- JP
- Japan
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- slider
- head slider
- holding member
- head
- polishing
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- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ヘッドスライダにおける情報記録媒体との対
向面を球面形状に簡易に形成することができるヘッドス
ライダの製造方法を提供すること。 【解決手段】 シリコンで成る保持部材１８に設けられ
ているスライダ基板１４を保持可能な凹部１８ａに前記
スライダ基板を保持させる。そして、前記保持部材を所
定の曲率の研磨面を有する研磨盤１７上に配置し、前記
保持部材を揺動させることにより前記スライダ基板の一
面を前記研磨面に沿って摺動させ、前記スライダ基板の
一面を前記所定の曲率の曲面形状に加工する。
向面を球面形状に簡易に形成することができるヘッドス
ライダの製造方法を提供すること。 【解決手段】 シリコンで成る保持部材１８に設けられ
ているスライダ基板１４を保持可能な凹部１８ａに前記
スライダ基板を保持させる。そして、前記保持部材を所
定の曲率の研磨面を有する研磨盤１７上に配置し、前記
保持部材を揺動させることにより前記スライダ基板の一
面を前記研磨面に沿って摺動させ、前記スライダ基板の
一面を前記所定の曲率の曲面形状に加工する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば磁気ディス
クや光磁気ディスク等の情報記録媒体に対して情報の記
録再生を行う磁気ヘッドが搭載されたヘッドスライダの
製造方法に関するものである。
クや光磁気ディスク等の情報記録媒体に対して情報の記
録再生を行う磁気ヘッドが搭載されたヘッドスライダの
製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】例えばコンピュータシステムにおいて
は、磁気ディスク装置としてハードディスク装置が用い
られている。このハードディスク装置に内蔵されている
磁気ディスクの両表面には磁性膜が成膜されており、回
転している磁気ディスクの表面上を浮上しながら旋回す
るヘッドスライダに搭載されている磁気ヘッドにより、
磁性膜に情報がトラック状に記録され、また磁性膜にト
ラック状に記録された情報が再生されるようになってい
る。
は、磁気ディスク装置としてハードディスク装置が用い
られている。このハードディスク装置に内蔵されている
磁気ディスクの両表面には磁性膜が成膜されており、回
転している磁気ディスクの表面上を浮上しながら旋回す
るヘッドスライダに搭載されている磁気ヘッドにより、
磁性膜に情報がトラック状に記録され、また磁性膜にト
ラック状に記録された情報が再生されるようになってい
る。
【０００３】図５は、一般的なヘッドスライダの一例を
示す斜視図である。このヘッドスライダ１は、その磁気
ディスクに対向する面１ａの両側であって磁気ディスク
の回転方向に平行に、エアベアリングサーフェイス（Ａ
ＢＳ）として作用するレール１ｂ、１ｃが形成されてい
る。そして、磁気ディスクに対向する面１ａに直交する
面であって磁気ディスクの回転方向に直交する面１ｄ
に、薄膜磁気ヘッド２が搭載されている。
示す斜視図である。このヘッドスライダ１は、その磁気
ディスクに対向する面１ａの両側であって磁気ディスク
の回転方向に平行に、エアベアリングサーフェイス（Ａ
ＢＳ）として作用するレール１ｂ、１ｃが形成されてい
る。そして、磁気ディスクに対向する面１ａに直交する
面であって磁気ディスクの回転方向に直交する面１ｄ
に、薄膜磁気ヘッド２が搭載されている。
【０００４】このようなヘッドスライダ１は、回転して
いる磁気ディスクの表面に接近したとき、磁気ディスク
の回転に伴ってレール１ｂ、１ｃと磁気ディスクの表面
との間に流入する空気流により浮揚力を受けるので、磁
気ディスクの表面から微小間隔（浮上量）をもって浮上
走行する。そして、ヘッドスライダ１は、磁気ディスク
に対してシーク動作し、薄膜磁気ヘッド２が、磁気ディ
スクの所定のトラック等に対して情報の記録再生を非接
触で行なう。
いる磁気ディスクの表面に接近したとき、磁気ディスク
の回転に伴ってレール１ｂ、１ｃと磁気ディスクの表面
との間に流入する空気流により浮揚力を受けるので、磁
気ディスクの表面から微小間隔（浮上量）をもって浮上
走行する。そして、ヘッドスライダ１は、磁気ディスク
に対してシーク動作し、薄膜磁気ヘッド２が、磁気ディ
スクの所定のトラック等に対して情報の記録再生を非接
触で行なう。
【０００５】ここで、一般的に磁気ヘッドの電磁変換特
性を向上させるには、磁気ヘッドと磁気ディスクの磁気
的スペーシングを減らすことが有効である。上述したハ
ードディスク装置において上記磁気的スペーシングを減
らす方法としては、ヘッドスライダ１の浮上量を低下さ
せる方法がある。しかし、ヘッドスライダ１の浮上量を
低下させると、ヘッドスライダ１と磁気ディスクとが接
触するおそれがでてくる。
性を向上させるには、磁気ヘッドと磁気ディスクの磁気
的スペーシングを減らすことが有効である。上述したハ
ードディスク装置において上記磁気的スペーシングを減
らす方法としては、ヘッドスライダ１の浮上量を低下さ
せる方法がある。しかし、ヘッドスライダ１の浮上量を
低下させると、ヘッドスライダ１と磁気ディスクとが接
触するおそれがでてくる。
【０００６】そして、ヘッドスライダ１と磁気ディスク
とが接触すると、ヘッドスライダ１のレール１ｂ、１ｃ
のエッジで磁気ディスクの表面を損傷させる場合があ
る。そこで、レール１ｂ、１ｃのエッジを丸めるため
に、レール１ｂ、１ｃの磁気ディスクに対向する面（Ａ
ＢＳ面）は、図６（Ａ）、（Ｂ）に示すように、曲率半
径Ｒの球面形状（Ｃｒｏｗｎ形状）に形成されている。
とが接触すると、ヘッドスライダ１のレール１ｂ、１ｃ
のエッジで磁気ディスクの表面を損傷させる場合があ
る。そこで、レール１ｂ、１ｃのエッジを丸めるため
に、レール１ｂ、１ｃの磁気ディスクに対向する面（Ａ
ＢＳ面）は、図６（Ａ）、（Ｂ）に示すように、曲率半
径Ｒの球面形状（Ｃｒｏｗｎ形状）に形成されている。
【０００７】図７及び図８は、従来のヘッドスライダの
製造方法の一例を示す工程図である。先ず、ヘッドスラ
イダ１の基板であるウェーハ１０の上面に薄膜磁気ヘッ
ド２を複数個成膜する（図７（ａ））。このウェーハ１
０を薄膜磁気ヘッド２に沿って棒（バー）状に切断加工
する（図７（ｂ））。即ち、このバー１１には、複数個
の薄膜磁気ヘッド２が一列に並んで存在することにな
る。
製造方法の一例を示す工程図である。先ず、ヘッドスラ
イダ１の基板であるウェーハ１０の上面に薄膜磁気ヘッ
ド２を複数個成膜する（図７（ａ））。このウェーハ１
０を薄膜磁気ヘッド２に沿って棒（バー）状に切断加工
する（図７（ｂ））。即ち、このバー１１には、複数個
の薄膜磁気ヘッド２が一列に並んで存在することにな
る。
【０００８】次に、このバー１１の薄膜磁気ヘッド２が
成膜されている面と直交する面を、ワックス等の接着剤
を使用してデプス研磨治具１２に貼り付け、その貼付面
に対向する面を所定のデプスまで研磨加工する（図７
（ｃ））。デプス研磨が終了したら、バー１１をデプス
研磨治具１２から取り外し、エッチングによりレール１
ｂ、１ｃの幅、即ちＡＢＳ面の幅を規制するグルーブ溝
１３を薄膜磁気ヘッド２に対応するように研磨面に形成
する（図７（ｄ））。このグルーブ溝１３が形成された
研磨面がＡＢＳ面となる。
成膜されている面と直交する面を、ワックス等の接着剤
を使用してデプス研磨治具１２に貼り付け、その貼付面
に対向する面を所定のデプスまで研磨加工する（図７
（ｃ））。デプス研磨が終了したら、バー１１をデプス
研磨治具１２から取り外し、エッチングによりレール１
ｂ、１ｃの幅、即ちＡＢＳ面の幅を規制するグルーブ溝
１３を薄膜磁気ヘッド２に対応するように研磨面に形成
する（図７（ｄ））。このグルーブ溝１３が形成された
研磨面がＡＢＳ面となる。
【０００９】グルーブ溝１３を形成した後、バー１１を
グルーブ溝１３に沿ってヘッドスライダ１となるチップ
１４に切断加工する（図８（ａ））。このチップ１４を
１個ずつＡＢＳ面が外側を向くようにして、パッドと呼
ばれる粘着材１５あるいはワックス等の接着剤を使用し
て球面研磨治具１６に貼り付ける（図８（ｂ））。球面
研磨治具１６に貼り付けられたチップ１４のＡＢＳ面を
所定の曲率半径Ｒの球面形状に仕上げられた研磨盤１７
と対向させて接触させる。
グルーブ溝１３に沿ってヘッドスライダ１となるチップ
１４に切断加工する（図８（ａ））。このチップ１４を
１個ずつＡＢＳ面が外側を向くようにして、パッドと呼
ばれる粘着材１５あるいはワックス等の接着剤を使用し
て球面研磨治具１６に貼り付ける（図８（ｂ））。球面
研磨治具１６に貼り付けられたチップ１４のＡＢＳ面を
所定の曲率半径Ｒの球面形状に仕上げられた研磨盤１７
と対向させて接触させる。
【００１０】そして、研磨盤１７上にダイヤモンドスラ
リ等を滴下させつつ、球面研磨治具１６を図示矢印ａ方
向に揺動させてＡＢＳ面を研磨盤１７に沿って摺動させ
ることにより、ＡＢＳ面を研磨加工してＣｒｏｗｎ形状
とする（図８（ｃ））。球面研磨が終了したら、チップ
１４を球面研磨治具１６から取り外してヘッドスライダ
１を完成する（図８（ｄ））。
リ等を滴下させつつ、球面研磨治具１６を図示矢印ａ方
向に揺動させてＡＢＳ面を研磨盤１７に沿って摺動させ
ることにより、ＡＢＳ面を研磨加工してＣｒｏｗｎ形状
とする（図８（ｃ））。球面研磨が終了したら、チップ
１４を球面研磨治具１６から取り外してヘッドスライダ
１を完成する（図８（ｄ））。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のヘッド
スライダの製造方法では、チップ１４を１個ずつパッド
と呼ばれる粘着材１５あるいはワックス等の接着剤を使
用して球面研磨治具１６にセット／リセットする作業
や、チップ１４に付着した粘着材１５あるいは接着剤を
洗浄する作業が必要になるため、工数が膨大となり作業
効率が悪いという問題があった。また、これらの作業が
複雑なため、自動化が困難であるという問題もあった。
スライダの製造方法では、チップ１４を１個ずつパッド
と呼ばれる粘着材１５あるいはワックス等の接着剤を使
用して球面研磨治具１６にセット／リセットする作業
や、チップ１４に付着した粘着材１５あるいは接着剤を
洗浄する作業が必要になるため、工数が膨大となり作業
効率が悪いという問題があった。また、これらの作業が
複雑なため、自動化が困難であるという問題もあった。
【００１２】本発明は上述した事情から成されたもので
あり、ヘッドスライダにおける情報記録媒体との対向面
を球面形状に簡易に形成することができるヘッドスライ
ダの製造方法を提供することを目的とする。
あり、ヘッドスライダにおける情報記録媒体との対向面
を球面形状に簡易に形成することができるヘッドスライ
ダの製造方法を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的は、本発明にあ
っては、ディスク状情報記録媒体に対して情報の記録再
生を行う磁気ヘッドが搭載されたヘッドスライダを製造
する方法において、スライダ基板上に前記磁気ヘッドを
形成し、シリコンで成る保持部材に設けられている前記
スライダ基板を保持可能な凹部に前記スライダ基板を保
持させ、前記保持部材を所定の曲率の研磨面を有する研
磨盤上に配置し、前記保持部材を揺動させることにより
前記スライダ基板の一面を前記研磨面に沿って摺動さ
せ、前記スライダ基板の一面を前記所定の曲率の曲面形
状に加工することにより達成される。
っては、ディスク状情報記録媒体に対して情報の記録再
生を行う磁気ヘッドが搭載されたヘッドスライダを製造
する方法において、スライダ基板上に前記磁気ヘッドを
形成し、シリコンで成る保持部材に設けられている前記
スライダ基板を保持可能な凹部に前記スライダ基板を保
持させ、前記保持部材を所定の曲率の研磨面を有する研
磨盤上に配置し、前記保持部材を揺動させることにより
前記スライダ基板の一面を前記研磨面に沿って摺動さ
せ、前記スライダ基板の一面を前記所定の曲率の曲面形
状に加工することにより達成される。
【００１４】上記構成によれば、球面研磨用の保持部材
が弾性力の高いシリコンで形成されているので、保持部
材に設けられている凹部にスライダ基板を嵌め込むのみ
で、スライダ基板を容易に保持させることができると共
に、凹部の周辺部を押すのみで、スライダ基板を容易に
取外すことができる。従って、スライダ基板の一面を球
面形状に形成する工程を簡易に行うことができる。
が弾性力の高いシリコンで形成されているので、保持部
材に設けられている凹部にスライダ基板を嵌め込むのみ
で、スライダ基板を容易に保持させることができると共
に、凹部の周辺部を押すのみで、スライダ基板を容易に
取外すことができる。従って、スライダ基板の一面を球
面形状に形成する工程を簡易に行うことができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施形態を
添付図を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に述
べる実施形態は、本発明の好適な具体例であるから、技
術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の
範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の
記載がない限り、これらの形態に限られるものではな
い。
添付図を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に述
べる実施形態は、本発明の好適な具体例であるから、技
術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の
範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の
記載がない限り、これらの形態に限られるものではな
い。
【００１６】図１及び図２は、本発明のヘッドスライダ
の製造方法の実施形態を示す工程図である。先ず、ヘッ
ドスライダ１の基板であるウェーハ１０の上面に薄膜磁
気ヘッド２を複数個成膜する（図１（ａ））。このウェ
ーハ１０を薄膜磁気ヘッド２に沿って棒（バー）状に切
断加工する（図１（ｂ））。即ち、このバー１１には、
複数個の薄膜磁気ヘッド２が一列に並んで存在すること
になる。
の製造方法の実施形態を示す工程図である。先ず、ヘッ
ドスライダ１の基板であるウェーハ１０の上面に薄膜磁
気ヘッド２を複数個成膜する（図１（ａ））。このウェ
ーハ１０を薄膜磁気ヘッド２に沿って棒（バー）状に切
断加工する（図１（ｂ））。即ち、このバー１１には、
複数個の薄膜磁気ヘッド２が一列に並んで存在すること
になる。
【００１７】次に、このバー１１の薄膜磁気ヘッド２が
成膜されている面と直交する面を、ワックス等の接着剤
を使用してデプス研磨治具１２に貼り付け、その貼付面
に対向する面を所定のデプスまで研磨加工する（図１
（ｃ））。デプス研磨が終了したら、バー１１をデプス
研磨治具１２から取り外し、エッチングによりレール１
ｂ、１ｃの幅、即ちＡＢＳ面の幅を規制するグルーブ溝
１３を薄膜磁気ヘッド２に対応するように研磨面に形成
する（図１（ｄ））。このグルーブ溝１３が形成された
研磨面がＡＢＳ面となる。
成膜されている面と直交する面を、ワックス等の接着剤
を使用してデプス研磨治具１２に貼り付け、その貼付面
に対向する面を所定のデプスまで研磨加工する（図１
（ｃ））。デプス研磨が終了したら、バー１１をデプス
研磨治具１２から取り外し、エッチングによりレール１
ｂ、１ｃの幅、即ちＡＢＳ面の幅を規制するグルーブ溝
１３を薄膜磁気ヘッド２に対応するように研磨面に形成
する（図１（ｄ））。このグルーブ溝１３が形成された
研磨面がＡＢＳ面となる。
【００１８】グルーブ溝１３を形成した後、バー１１を
グルーブ溝１３に沿ってヘッドスライダ１となるチップ
１４に切断加工する（図２（ａ））。次に、チップ１４
のＡＢＳ面を球面研磨する工程に入る。ここで、図２
（ｂ）に示すように、球面研磨治具１６の先端面にチッ
プ１４を保持するための保持部材１８を接着剤等により
貼り付けておく。
グルーブ溝１３に沿ってヘッドスライダ１となるチップ
１４に切断加工する（図２（ａ））。次に、チップ１４
のＡＢＳ面を球面研磨する工程に入る。ここで、図２
（ｂ）に示すように、球面研磨治具１６の先端面にチッ
プ１４を保持するための保持部材１８を接着剤等により
貼り付けておく。
【００１９】この保持部材１８は、例えばシリコン（商
品名：ＴＳＥ３４５０，東芝シリコーン製、商品名：Ｓ
Ｔシリコン，三真物産製、商品名：フジポリＥＭ（サコ
ーンＧＲ），富士高分子工業製）やゴム（ＪＩＳ−Ａシ
ョア硬度：４０度〜５０度、表面粘着力：１ｇ／ｍ
ｍ2 ）で成る円柱形状に形成されており、球面研磨治具
１６との貼り付け面とは反対側の面、即ち研磨面には、
チップ１４の幅及び長さより若干小さい幅及び長さであ
って、チップ１４の厚さより浅い深さの直方体状の凹部
１８ａが設けられている。
品名：ＴＳＥ３４５０，東芝シリコーン製、商品名：Ｓ
Ｔシリコン，三真物産製、商品名：フジポリＥＭ（サコ
ーンＧＲ），富士高分子工業製）やゴム（ＪＩＳ−Ａシ
ョア硬度：４０度〜５０度、表面粘着力：１ｇ／ｍ
ｍ2 ）で成る円柱形状に形成されており、球面研磨治具
１６との貼り付け面とは反対側の面、即ち研磨面には、
チップ１４の幅及び長さより若干小さい幅及び長さであ
って、チップ１４の厚さより浅い深さの直方体状の凹部
１８ａが設けられている。
【００２０】このような構成の保持部材１８の凹部１８
ａ内にチップ１４をＡＢＳ面が外側を向くようにして押
し込んで嵌め込む（図２（ｂ））。これによりチップ１
４は凹部１８ａのエッジの弾性・復元力で保持される。
次に、保持部材１８の凹部１８ａに保持されたチップ１
４のＡＢＳ面を所定の曲率半径Ｒの球面形状に仕上げら
れた研磨盤１７と対向させて接触させる。そして、研磨
盤１７上にダイヤモンドスラリ等を滴下させつつ、球面
研磨治具１６を図示矢印ａ方向に揺動させてＡＢＳ面を
研磨盤１７に沿って摺動させることにより、ＡＢＳ面を
研磨加工してＣｒｏｗｎ形状とする（図２（ｃ））。
ａ内にチップ１４をＡＢＳ面が外側を向くようにして押
し込んで嵌め込む（図２（ｂ））。これによりチップ１
４は凹部１８ａのエッジの弾性・復元力で保持される。
次に、保持部材１８の凹部１８ａに保持されたチップ１
４のＡＢＳ面を所定の曲率半径Ｒの球面形状に仕上げら
れた研磨盤１７と対向させて接触させる。そして、研磨
盤１７上にダイヤモンドスラリ等を滴下させつつ、球面
研磨治具１６を図示矢印ａ方向に揺動させてＡＢＳ面を
研磨盤１７に沿って摺動させることにより、ＡＢＳ面を
研磨加工してＣｒｏｗｎ形状とする（図２（ｃ））。
【００２１】球面研磨が終了したら、保持部材１８の凹
部１８ａの周囲を押すことにより、凹部１８ａの底面を
弾性変形させて凹部１８ａからチップ１４を押し出し、
ヘッドスライダ１を完成する（図２（ｄ））。このよう
にチップ１４を保持部材１８から容易に取り外すことが
できるので、従来のようなチップ１４を１個ずつパッド
と呼ばれる粘着材１５あるいはワックス等の接着剤を使
用して球面研磨治具１６にセット／リセットする作業
や、チップ１４に付着した粘着材１５あるいは接着剤を
洗浄する作業が不要になるため、工数を低減させて作業
効率を高めることができると共に、自動化も容易に実現
することができる。
部１８ａの周囲を押すことにより、凹部１８ａの底面を
弾性変形させて凹部１８ａからチップ１４を押し出し、
ヘッドスライダ１を完成する（図２（ｄ））。このよう
にチップ１４を保持部材１８から容易に取り外すことが
できるので、従来のようなチップ１４を１個ずつパッド
と呼ばれる粘着材１５あるいはワックス等の接着剤を使
用して球面研磨治具１６にセット／リセットする作業
や、チップ１４に付着した粘着材１５あるいは接着剤を
洗浄する作業が不要になるため、工数を低減させて作業
効率を高めることができると共に、自動化も容易に実現
することができる。
【００２２】図３は、保持部材の別の一例を示す斜視図
である。この保持部材１９は、上記保持部材１８と同様
に、例えばシリコン（商品名：ＴＳＥ３４５０，東芝シ
リコーン製、商品名：ＳＴシリコン，三真物産製、商品
名：フジポリＥＭ（サコーンＧＲ），富士高分子工業
製）やゴム（ＪＩＳ−Ａショア硬度：４０度〜５０度、
表面粘着力：１ｇ／ｍｍ2 ）で成るが、直方体状に形成
されており、研磨面には、チップ１４の幅及び長さより
若干小さい幅及び長さであって、チップ１４の厚さより
浅い深さの直方体状の凹部１９ａが複数個（この例では
４個）設けられている。このような構成の保持部材１９
によれば、複数のチップ１４を同時に研磨加工すること
ができ、作業効率をより向上させることができる。
である。この保持部材１９は、上記保持部材１８と同様
に、例えばシリコン（商品名：ＴＳＥ３４５０，東芝シ
リコーン製、商品名：ＳＴシリコン，三真物産製、商品
名：フジポリＥＭ（サコーンＧＲ），富士高分子工業
製）やゴム（ＪＩＳ−Ａショア硬度：４０度〜５０度、
表面粘着力：１ｇ／ｍｍ2 ）で成るが、直方体状に形成
されており、研磨面には、チップ１４の幅及び長さより
若干小さい幅及び長さであって、チップ１４の厚さより
浅い深さの直方体状の凹部１９ａが複数個（この例では
４個）設けられている。このような構成の保持部材１９
によれば、複数のチップ１４を同時に研磨加工すること
ができ、作業効率をより向上させることができる。
【００２３】図４は、保持部材のさらに別の一例を示す
斜視図である。この保持部材２０は、上記保持部材１９
と同様に、例えばシリコン（商品名：ＴＳＥ３４５０，
東芝シリコーン製、商品名：ＳＴシリコン，三真物産
製、商品名：フジポリＥＭ（サコーンＧＲ），富士高分
子工業製）やゴム（ＪＩＳ−Ａショア硬度：４０度〜５
０度、表面粘着力：１ｇ／ｍｍ2 ）で成る直方体状に形
成されているが、研磨面には、保持部材２０の幅一杯の
幅で、チップ１４の長さより若干小さい長さであって、
チップ１４の厚さより浅い深さの直方体状の凹部２０ａ
が設けられている。
斜視図である。この保持部材２０は、上記保持部材１９
と同様に、例えばシリコン（商品名：ＴＳＥ３４５０，
東芝シリコーン製、商品名：ＳＴシリコン，三真物産
製、商品名：フジポリＥＭ（サコーンＧＲ），富士高分
子工業製）やゴム（ＪＩＳ−Ａショア硬度：４０度〜５
０度、表面粘着力：１ｇ／ｍｍ2 ）で成る直方体状に形
成されているが、研磨面には、保持部材２０の幅一杯の
幅で、チップ１４の長さより若干小さい長さであって、
チップ１４の厚さより浅い深さの直方体状の凹部２０ａ
が設けられている。
【００２４】上述した各保持部材１８、１９の凹部１８
ａ、１９ａは、チップ１４の４側面を保持するように構
成されていたが、この保持部材２０の凹部２０ａは、複
数（この例では４個）のチップ１４の長さ方向の２側面
を保持するように構成されており、複数のチップ１４を
同時に研磨加工した後、凹部２０ａの長手方向の周囲両
端部を図示矢印ａ方向に押すことにより、凹部２０ａの
短手方向の周囲を図示矢印ｂ方向に弾性変形させて、複
数のチップ１４を同時に取り外すことができ、作業効率
をさらに向上させることができる。
ａ、１９ａは、チップ１４の４側面を保持するように構
成されていたが、この保持部材２０の凹部２０ａは、複
数（この例では４個）のチップ１４の長さ方向の２側面
を保持するように構成されており、複数のチップ１４を
同時に研磨加工した後、凹部２０ａの長手方向の周囲両
端部を図示矢印ａ方向に押すことにより、凹部２０ａの
短手方向の周囲を図示矢印ｂ方向に弾性変形させて、複
数のチップ１４を同時に取り外すことができ、作業効率
をさらに向上させることができる。
【００２５】以上のようなヘッドスライダの製造方法に
よれば、従来使用していたパッドと呼ばれる粘着材１５
あるいはワックス等の接着剤を使用する必要がなく、作
業効率を大幅に向上させることができる。また、チップ
１４の取り扱い時に発生していた欠けや・傷等の不良発
生が無くなり、歩留りも大幅に向上させることができ
る。
よれば、従来使用していたパッドと呼ばれる粘着材１５
あるいはワックス等の接着剤を使用する必要がなく、作
業効率を大幅に向上させることができる。また、チップ
１４の取り扱い時に発生していた欠けや・傷等の不良発
生が無くなり、歩留りも大幅に向上させることができ
る。
【００２６】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、ヘッドス
ライダにおける情報記録媒体との対向面を球面形状に簡
易に形成することができ、大幅な工数低減を図ることが
できる。
ライダにおける情報記録媒体との対向面を球面形状に簡
易に形成することができ、大幅な工数低減を図ることが
できる。
【図１】本発明のヘッドスライダの製造方法の実施形態
を示す第１の工程図。
を示す第１の工程図。
【図２】本発明のヘッドスライダの製造方法の実施形態
を示す第２の工程図。
を示す第２の工程図。
【図３】本発明のヘッドスライダの製造方法の実施形態
で用いられる保持部材の別の一例を示す斜視図。
で用いられる保持部材の別の一例を示す斜視図。
【図４】本発明のヘッドスライダの製造方法の実施形態
で用いられる保持部材のさらに別の一例を示す斜視図。
で用いられる保持部材のさらに別の一例を示す斜視図。
【図５】一般的なヘッドスライダの一例を示す斜視図。
【図６】図５に示すヘッドスライダの側面図。
【図７】従来のヘッドスライダの製造方法の一例を示す
第１の工程図。
第１の工程図。
【図８】従来のヘッドスライダの製造方法の一例を示す
第２の工程図。
第２の工程図。
１・・・ヘッドスライダ、１ｂ、１ｃ・・・レール、２
・・・薄膜磁気ヘッド、１０・・・ウェーハ、１１・・
・バー、１２・・・デプス研磨治具、１３・・・グルー
ブ溝、１４・・・チップ、１６・・・球面研磨治具、１
７・・・研磨盤、１８、１９、２０・・・保持部材、１
８ａ、１９ａ、２０ａ・・・凹部
・・・薄膜磁気ヘッド、１０・・・ウェーハ、１１・・
・バー、１２・・・デプス研磨治具、１３・・・グルー
ブ溝、１４・・・チップ、１６・・・球面研磨治具、１
７・・・研磨盤、１８、１９、２０・・・保持部材、１
８ａ、１９ａ、２０ａ・・・凹部
Claims (3)
- 【請求項１】 ディスク状情報記録媒体に対して情報の
記録再生を行う磁気ヘッドが搭載されたヘッドスライダ
を製造する方法において、 スライダ基板上に前記磁気ヘッドを形成し、 シリコンで成る保持部材に設けられている前記スライダ
基板を保持可能な凹部に前記スライダ基板を保持させ、 前記保持部材を所定の曲率の研磨面を有する研磨盤上に
配置し、 前記保持部材を揺動させることにより前記スライダ基板
の一面を前記研磨面に沿って摺動させ、 前記スライダ基板の一面を前記所定の曲率の曲面形状に
加工することを特徴とするヘッドスライダの製造方法。 - 【請求項２】 ディスク状情報記録媒体に対して情報の
記録再生を行う磁気ヘッドが搭載されたヘッドスライダ
を製造する方法において、 スライダ基板上に前記磁気ヘッドを形成し、 ゴムで成る保持部材に設けられている前記スライダ基板
を保持可能な凹部に前記スライダ基板を保持させ、 前記保持部材を所定の曲率の研磨面を有する研磨盤上に
配置し、 前記保持部材を揺動させることにより前記スライダ基板
の一面を前記研磨面に沿って摺動させ、 前記スライダ基板の一面を前記所定の曲率の曲面形状に
加工することを特徴とするヘッドスライダの製造方法。 - 【請求項３】 前記ゴムが、ショア硬度が４０度〜５０
度であって、表面粘着力が１ｇ／ｍｍ2 以上の特性を有
する請求項２に記載のヘッドスライダの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13828298A JPH11328644A (ja) | 1998-05-20 | 1998-05-20 | ヘッドスライダの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13828298A JPH11328644A (ja) | 1998-05-20 | 1998-05-20 | ヘッドスライダの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11328644A true JPH11328644A (ja) | 1999-11-30 |
Family
ID=15218269
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13828298A Pending JPH11328644A (ja) | 1998-05-20 | 1998-05-20 | ヘッドスライダの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11328644A (ja) |
-
1998
- 1998-05-20 JP JP13828298A patent/JPH11328644A/ja active Pending
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