JPH032993Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH032993Y2 JPH032993Y2 JP19453583U JP19453583U JPH032993Y2 JP H032993 Y2 JPH032993 Y2 JP H032993Y2 JP 19453583 U JP19453583 U JP 19453583U JP 19453583 U JP19453583 U JP 19453583U JP H032993 Y2 JPH032993 Y2 JP H032993Y2
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- stem
- acoustic wave
- shell
- surface acoustic
- wave element
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- Expired
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- 238000003466 welding Methods 0.000 description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
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Landscapes
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
[考案の技術分野]
本考案は弾性表面波装置に関する。
[考案の技術的背景とその問題点]
一般に弾性表面波装置は、その断面を示す第1
図およびそのシエルを除いた平面を示す第2図に
示すように、金属製のステム1と、その主面にエ
ポキシ系接着剤2により固着された弾性表面波素
子3と、ステム1を貫通しガラス4により気密に
絶縁支持されたリードピン5と、弾性表面波素子
3を覆つてフランジ部6aをステム1の主面へ気
密に溶接された金属製のシエル6とから構成され
ている。
図およびそのシエルを除いた平面を示す第2図に
示すように、金属製のステム1と、その主面にエ
ポキシ系接着剤2により固着された弾性表面波素
子3と、ステム1を貫通しガラス4により気密に
絶縁支持されたリードピン5と、弾性表面波素子
3を覆つてフランジ部6aをステム1の主面へ気
密に溶接された金属製のシエル6とから構成され
ている。
弾性表面波素子3の圧電基板3aの主面に形成
された表面波トランスジユーサ3bとリードピン
5とは、アルミニウム製ボンデイングワイヤ7で
電気接続されている。またステム1とシエル6と
の溶接は、予めステム1にNiメツキを施しシエ
ル6にはNi−Pメツキを施して、ステム1の主
面上にシエル6のフランジ部6aを当接させた
後、両者間に8〜17KA程度の電流を流してジユ
ール熱により接触部をNi−Pの溶融温度(約740
〜780℃)以上に加熱して共晶接合させることに
より行なわれる。
された表面波トランスジユーサ3bとリードピン
5とは、アルミニウム製ボンデイングワイヤ7で
電気接続されている。またステム1とシエル6と
の溶接は、予めステム1にNiメツキを施しシエ
ル6にはNi−Pメツキを施して、ステム1の主
面上にシエル6のフランジ部6aを当接させた
後、両者間に8〜17KA程度の電流を流してジユ
ール熱により接触部をNi−Pの溶融温度(約740
〜780℃)以上に加熱して共晶接合させることに
より行なわれる。
しかるにこのような弾性表面波装置において
は、ステムの主面が平坦であると、ステム1とシ
エル6の溶接時に、ステム1とシエル6との相対
位置がずれることがある。このようにステム1と
シエル6間の相対位置がずれて溶接が行なわれる
と、ステム1とシエル6間の気密封止が不十分と
なり、特に小型化パツケージの場合にはシエル6
が弾性表面波素子3に当つて弾性表面波素子3に
クラツクが生じて装置の特性不良が発生するとい
う難点があつた。
は、ステムの主面が平坦であると、ステム1とシ
エル6の溶接時に、ステム1とシエル6との相対
位置がずれることがある。このようにステム1と
シエル6間の相対位置がずれて溶接が行なわれる
と、ステム1とシエル6間の気密封止が不十分と
なり、特に小型化パツケージの場合にはシエル6
が弾性表面波素子3に当つて弾性表面波素子3に
クラツクが生じて装置の特性不良が発生するとい
う難点があつた。
このため、第3図に示すように、ステム1の外
周にシエル6の内面にはまり合う段部1aを設
け、シエル6の段部6aをこの段部1aに溶接す
るようにした弾性表面波装置も提案されている
(特開昭57−84607号公報)。
周にシエル6の内面にはまり合う段部1aを設
け、シエル6の段部6aをこの段部1aに溶接す
るようにした弾性表面波装置も提案されている
(特開昭57−84607号公報)。
なお以下の図において、第1図と共通する部分
には同一符号を付してある。
には同一符号を付してある。
しかしながら、このような弾性表面波装置のス
テム1を成型する成型金型は形状が複雑となり、
特に溶接作業の都合上、第4図に示すようにステ
ム1の溶接面にビード1bを形成する必要性があ
るため製造コストが高くなるという難点があつ
た。またこの弾性表面波装置では、第5図に示す
ようにシエル6とステム1との溶接面がA−B面
およびB−C面の広い面積にわたり、溶接電流が
比較的大きくなり、しかもB−C面が高温に加熱
されると、ステム1主面に固定された弾性表面波
素子3にも熱衝撃が加わりこのため弾性表面波素
子3にクラツクが生じる恐れがあつた。
テム1を成型する成型金型は形状が複雑となり、
特に溶接作業の都合上、第4図に示すようにステ
ム1の溶接面にビード1bを形成する必要性があ
るため製造コストが高くなるという難点があつ
た。またこの弾性表面波装置では、第5図に示す
ようにシエル6とステム1との溶接面がA−B面
およびB−C面の広い面積にわたり、溶接電流が
比較的大きくなり、しかもB−C面が高温に加熱
されると、ステム1主面に固定された弾性表面波
素子3にも熱衝撃が加わりこのため弾性表面波素
子3にクラツクが生じる恐れがあつた。
従つてこの溶接面と弾性表面波素子との距離は
十分にとる必要があり、弾性表面波装置の小型化
が困難となる難点もあつた。
十分にとる必要があり、弾性表面波装置の小型化
が困難となる難点もあつた。
[考案の目的]
本考案は上記の点を解決するためになされたも
ので、シエルとステムとの位置ずれを防止し、か
つ両者の溶接面積を小さくして、小型化を可能に
した弾性表面波装置を提供するものである。
ので、シエルとステムとの位置ずれを防止し、か
つ両者の溶接面積を小さくして、小型化を可能に
した弾性表面波装置を提供するものである。
[考案の概要]
すなわち本考案の弾性表面波装置は、ステム
と、このステム主面に固定された弾性表面波素子
と、この弾性表面波素子を気密に包覆し縁部を前
記ステム主面側に溶接されたシエルとを有する弾
性表面波装置において、前記ステム主面へ、前記
シエル内面に当接してシエルとステムの相対位置
を規制する突起を、プレス加工により裏面を凹陥
させて形成したことを特徴としている。
と、このステム主面に固定された弾性表面波素子
と、この弾性表面波素子を気密に包覆し縁部を前
記ステム主面側に溶接されたシエルとを有する弾
性表面波装置において、前記ステム主面へ、前記
シエル内面に当接してシエルとステムの相対位置
を規制する突起を、プレス加工により裏面を凹陥
させて形成したことを特徴としている。
[考案の実施例]
以下本考案の詳細を図面に示す一実施例につい
て説明する。
て説明する。
第6図は本考案の一実施例を示す横断面図、第
7図はそのシエルを除去した状態を示す平面図で
ある。
7図はそのシエルを除去した状態を示す平面図で
ある。
この実施例の弾性表面波装置も、金属製のステ
ム1と、その主面にエポキシ系接着剤2により固
着された弾性表面波素子3と、ステム1を貫通し
ガラス4により気密に絶縁支持されたリードピン
5と、弾性表面波素子3を覆つてフランジ部6a
をステム1の主面へ気密に溶接された金属製のシ
エル6とから構成されている点は第1図ないし第
3図に示した従来の弾性表面波装置と同一構成で
ある。
ム1と、その主面にエポキシ系接着剤2により固
着された弾性表面波素子3と、ステム1を貫通し
ガラス4により気密に絶縁支持されたリードピン
5と、弾性表面波素子3を覆つてフランジ部6a
をステム1の主面へ気密に溶接された金属製のシ
エル6とから構成されている点は第1図ないし第
3図に示した従来の弾性表面波装置と同一構成で
ある。
しかしてこの実施例においては、ステム1は平
坦な金属円板からプレス加工により形成されてお
り、その際、主面側に環状の凸条1cが、またこ
の凸条1cに対応する裏面には環状の凹溝1dが
形成されている。
坦な金属円板からプレス加工により形成されてお
り、その際、主面側に環状の凸条1cが、またこ
の凸条1cに対応する裏面には環状の凹溝1dが
形成されている。
環状の凸条1cはその外周面がシエル6の内面
に当接する寸法とされている。従つてシエル6を
ステム1の主面に載せると、凸条1cによつてシ
エルとステムの相対位置が規制されることにな
る。
に当接する寸法とされている。従つてシエル6を
ステム1の主面に載せると、凸条1cによつてシ
エルとステムの相対位置が規制されることにな
る。
このように構成された本考案の実施例において
は、ステム1とシエル6の相対位置が凸条1cに
より規制されるので、シエル1が溶接時に移動し
て弾性表面波素子3に接触するような恐れはな
く、したがつて弾性表面波素子3にクラツクが生
じて特性不良が発生するようなことはない。
は、ステム1とシエル6の相対位置が凸条1cに
より規制されるので、シエル1が溶接時に移動し
て弾性表面波素子3に接触するような恐れはな
く、したがつて弾性表面波素子3にクラツクが生
じて特性不良が発生するようなことはない。
また溶接時の電流はA−B面にのみ流れるの
で、溶接電流を第1図に示した従来の装置より約
30%低くすることができ、しかも凸条1cおよび
凹溝1dが放熱効果を有しているため、ステムの
外径を小さくしても、すなわち小型化しても弾性
表面波素子に与える熱衝撃を従来以下にすること
ができる。
で、溶接電流を第1図に示した従来の装置より約
30%低くすることができ、しかも凸条1cおよび
凹溝1dが放熱効果を有しているため、ステムの
外径を小さくしても、すなわち小型化しても弾性
表面波素子に与える熱衝撃を従来以下にすること
ができる。
またさらに、プレス加工に際して、裏面の凹溝
1d側から絞り加工の要領で凸条1cを形成する
ことができるので、第3図に示したステム1の段
部1aを形成する場合に比較して成形が容易とな
る利点がある。
1d側から絞り加工の要領で凸条1cを形成する
ことができるので、第3図に示したステム1の段
部1aを形成する場合に比較して成形が容易とな
る利点がある。
第8図は本考案の他の実施例の横断面図、第9
図はシエルを除去した主面を示す平面図である。
図はシエルを除去した主面を示す平面図である。
この実施例においては、第6図および第7図に
示した実施例における凸条1cに代えてステム1
主面に独立した複数個の突起1eが、またこの突
起に対応する裏面には凹孔1fが形成されてい
る。
示した実施例における凸条1cに代えてステム1
主面に独立した複数個の突起1eが、またこの突
起に対応する裏面には凹孔1fが形成されてい
る。
これらの突起1e,1e,1e…もこれらの包
絡線がシエル6の内側に内接するように形成され
てステム1とシエル6との相対位置を規制するこ
とができるようになつている。この実施例におい
ても、前述した実施例と同等の効果を得ることが
できる。
絡線がシエル6の内側に内接するように形成され
てステム1とシエル6との相対位置を規制するこ
とができるようになつている。この実施例におい
ても、前述した実施例と同等の効果を得ることが
できる。
[考案の効果]
以上述べたように本考案の弾性表面波装置によ
れば、ステムとシエルとの相対位置関係を正確に
規制することができ、溶接電流を比較的小さくす
ることができるので、小型化を図ることができ、
さらにステムを通常のプレス成型で製造できるの
でコストダウンを図ることができる。
れば、ステムとシエルとの相対位置関係を正確に
規制することができ、溶接電流を比較的小さくす
ることができるので、小型化を図ることができ、
さらにステムを通常のプレス成型で製造できるの
でコストダウンを図ることができる。
第1図は従来の弾性表面波装置の横断面図、第
2図はそのシエルを除去した状態を示す平面図、
第3図は従来の他の弾性表面波装置を示す横断面
図、第4図は第3図に示した従来の装置において
溶接時に形成されるビードを示す断面図、第5図
はその溶接部の状態を示す横断面図、第6図は本
考案の一実施例の横断面図、第7図はそのシエル
を除去した状態を示す平面図、第8図は本考案の
他の実施例を示す横断面図、第9図はそのシエル
を除去した状態を示す平面図である。 1……ステム、1c……凸条、1d……凹溝、
1e……突起、1f……凹孔、3……弾性表面波
素子、5……リードピン、6……シエル、6a…
…フランジ部、7……ボンデイングワイヤ。
2図はそのシエルを除去した状態を示す平面図、
第3図は従来の他の弾性表面波装置を示す横断面
図、第4図は第3図に示した従来の装置において
溶接時に形成されるビードを示す断面図、第5図
はその溶接部の状態を示す横断面図、第6図は本
考案の一実施例の横断面図、第7図はそのシエル
を除去した状態を示す平面図、第8図は本考案の
他の実施例を示す横断面図、第9図はそのシエル
を除去した状態を示す平面図である。 1……ステム、1c……凸条、1d……凹溝、
1e……突起、1f……凹孔、3……弾性表面波
素子、5……リードピン、6……シエル、6a…
…フランジ部、7……ボンデイングワイヤ。
Claims (1)
- ステムと、このステム主面に固定された弾性表
面波素子と、この弾性表面波素子を気密に包覆し
縁部を前記ステム主面側に溶接されたシエルとを
有する弾性表面波装置において、前記ステム主面
へ、前記シエル内面に当接してシエルとステムの
相対位置を規制する突起を、プレス加工により裏
面を凹陥させて形成したことを特徴とする弾性表
面波装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19453583U JPS60101826U (ja) | 1983-12-16 | 1983-12-16 | 弾性表面波装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19453583U JPS60101826U (ja) | 1983-12-16 | 1983-12-16 | 弾性表面波装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60101826U JPS60101826U (ja) | 1985-07-11 |
| JPH032993Y2 true JPH032993Y2 (ja) | 1991-01-25 |
Family
ID=30418108
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19453583U Granted JPS60101826U (ja) | 1983-12-16 | 1983-12-16 | 弾性表面波装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60101826U (ja) |
-
1983
- 1983-12-16 JP JP19453583U patent/JPS60101826U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60101826U (ja) | 1985-07-11 |
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