JPH0331073Y2 - - Google Patents
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- JPH0331073Y2 JPH0331073Y2 JP1353587U JP1353587U JPH0331073Y2 JP H0331073 Y2 JPH0331073 Y2 JP H0331073Y2 JP 1353587 U JP1353587 U JP 1353587U JP 1353587 U JP1353587 U JP 1353587U JP H0331073 Y2 JPH0331073 Y2 JP H0331073Y2
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- Coating Apparatus (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、フオトマスクブランク、透明導電膜
付基板等の被エツチング層を有する正方形状、長
方形状の基板上にレジスト膜を塗布する回転塗布
装置に関し、特に基板を保持し、かつ基板裏面に
レジストの糸状物の付着を防止する、保持部と、
他のところから保持部に基板を搬送する、又は保
持部から他のところに搬送する、搬送部とを備え
た回転塗布装置に関するものである。
付基板等の被エツチング層を有する正方形状、長
方形状の基板上にレジスト膜を塗布する回転塗布
装置に関し、特に基板を保持し、かつ基板裏面に
レジストの糸状物の付着を防止する、保持部と、
他のところから保持部に基板を搬送する、又は保
持部から他のところに搬送する、搬送部とを備え
た回転塗布装置に関するものである。
従来、この装置としては第7図及び第8図に示
すものがあつた。なお、第7図は平面図、第8図
は正面図である。
すものがあつた。なお、第7図は平面図、第8図
は正面図である。
この装置は、レジスト膜を塗布する、フオトマ
スクブランク等の正方形の基板1を保持する保持
部2と、この保持部2に基板1を搬送する、また
はレジスト膜を塗布した基板1を、基板収納容器
等に搬送する搬送部3とを備えている。
スクブランク等の正方形の基板1を保持する保持
部2と、この保持部2に基板1を搬送する、また
はレジスト膜を塗布した基板1を、基板収納容器
等に搬送する搬送部3とを備えている。
この保持部2は、円板状物からなり、その直径
が基板1の対角線の寸法よりも小さく、かつ基板
1を真空吸着するための真空吸着用穴4が形成さ
れている。また、保持部2には、この保持部2を
回転させる回転用軸5が付設されている。
が基板1の対角線の寸法よりも小さく、かつ基板
1を真空吸着するための真空吸着用穴4が形成さ
れている。また、保持部2には、この保持部2を
回転させる回転用軸5が付設されている。
また、搬送部3は、基板1の搬送中、基板1を
支持する棒状の支持部6と、この支持部6が基板
1の下方において保持部2方向に移動したとき、
その移動距離を検知する棒状の検知部7と、支持
部6と検知部7とを連結する連結部8と、この連
結部8を介して支持部6と検知部7とを第7図に
おいて矢印方向に移動させるための移動部9とを
備えたものである。そして、この搬送部3は、保
持部2を介して対向して一対設けられており、そ
の左右の搬送部3,3の移動は同期している。
支持する棒状の支持部6と、この支持部6が基板
1の下方において保持部2方向に移動したとき、
その移動距離を検知する棒状の検知部7と、支持
部6と検知部7とを連結する連結部8と、この連
結部8を介して支持部6と検知部7とを第7図に
おいて矢印方向に移動させるための移動部9とを
備えたものである。そして、この搬送部3は、保
持部2を介して対向して一対設けられており、そ
の左右の搬送部3,3の移動は同期している。
次に、この回転塗布装置における、レジスト膜
塗布及び塗布後のレジスト膜付基板の搬送方法に
ついて説明する。なお、基板を保持部に搬送する
方法は、塗布後のレジスト膜付基板の搬送方法と
逆の工程であることから説明を省略する。
塗布及び塗布後のレジスト膜付基板の搬送方法に
ついて説明する。なお、基板を保持部に搬送する
方法は、塗布後のレジスト膜付基板の搬送方法と
逆の工程であることから説明を省略する。
先ず、保持部2に搬送され真空吸着された基板
1上にレジストを滴下し、所望する回転数及び回
転時間で、保持部2を回転、すなわち基板1を回
転してレジスト膜を基板1の主表面1a(表面)
に塗布する。次に、搬送部3,3のそれぞれの支
持部6を基板1の下方において保持部2方向に、
それぞれの検知部7が保持部2の側面2aに当接
するまで移動させる。次に側面2aに検知部7が
当接した後、さらに移動させると移動部9を介し
て、この搬送部3,3を移動させるモータに負荷
がかかり、この負荷を検出したとき、搬送部3,
3の移動を停止させる。すなわち、第7図、第8
図に示すとおりとなる。次に、基板1の真空吸着
を解除し、左右の搬送部3,3のそれぞれの支持
部6を離間する方向、すなわち第7,8図におい
て左の搬送部3の支持部6は左方向、右の搬送部
3の支持部6は右方向に、支持部6が上昇したと
き基板1を支持できる程度に移動し、検知部7,
7を保持部2から離間する。次に、搬送部3,3
を上昇させ、それぞれの支持部6を基板1のもう
一方の主表面1b(裏面)に当接し、さらに上昇
させて支持部6により基板1を支持して、例えば
基板収納容器等に搬送する。
1上にレジストを滴下し、所望する回転数及び回
転時間で、保持部2を回転、すなわち基板1を回
転してレジスト膜を基板1の主表面1a(表面)
に塗布する。次に、搬送部3,3のそれぞれの支
持部6を基板1の下方において保持部2方向に、
それぞれの検知部7が保持部2の側面2aに当接
するまで移動させる。次に側面2aに検知部7が
当接した後、さらに移動させると移動部9を介し
て、この搬送部3,3を移動させるモータに負荷
がかかり、この負荷を検出したとき、搬送部3,
3の移動を停止させる。すなわち、第7図、第8
図に示すとおりとなる。次に、基板1の真空吸着
を解除し、左右の搬送部3,3のそれぞれの支持
部6を離間する方向、すなわち第7,8図におい
て左の搬送部3の支持部6は左方向、右の搬送部
3の支持部6は右方向に、支持部6が上昇したと
き基板1を支持できる程度に移動し、検知部7,
7を保持部2から離間する。次に、搬送部3,3
を上昇させ、それぞれの支持部6を基板1のもう
一方の主表面1b(裏面)に当接し、さらに上昇
させて支持部6により基板1を支持して、例えば
基板収納容器等に搬送する。
しかしながら、従来の回転塗布装置において、
その搬送部の支持部6が、保持部2から突出して
いる、基板1の角部1cの裏面1bに当接して支
持することを目的としたものであることから、保
持部2の直径は、基板1の主表面の対角線の寸法
よりも小さい寸法が要求され、そのために、第9
図に示すように基板1の裏面1bの角部には、剥
離してゴミとなる、レジストの糸状物10が付着
してしまう問題点があつた。すなわち、保持部2
に基板1を保持し、回転したとき、保持部2から
外側の、基板1の部分(図で示す二点鎖線よりも
外側の部分)のみならず、二点鎖線の内側にも糸
状物10が付着してしまう問題点があつた。これ
は、基板1が回転すると、基板1の保持部2から
外に出ている角部に対する空気抵抗が大きく、そ
の空気抵抗によつて、裏面1bの角部に、回転中
に基板1から飛散したレジストの糸状物10が付
着する。
その搬送部の支持部6が、保持部2から突出して
いる、基板1の角部1cの裏面1bに当接して支
持することを目的としたものであることから、保
持部2の直径は、基板1の主表面の対角線の寸法
よりも小さい寸法が要求され、そのために、第9
図に示すように基板1の裏面1bの角部には、剥
離してゴミとなる、レジストの糸状物10が付着
してしまう問題点があつた。すなわち、保持部2
に基板1を保持し、回転したとき、保持部2から
外側の、基板1の部分(図で示す二点鎖線よりも
外側の部分)のみならず、二点鎖線の内側にも糸
状物10が付着してしまう問題点があつた。これ
は、基板1が回転すると、基板1の保持部2から
外に出ている角部に対する空気抵抗が大きく、そ
の空気抵抗によつて、裏面1bの角部に、回転中
に基板1から飛散したレジストの糸状物10が付
着する。
本考案は前述した問題点を除去するためになさ
れたもので、その特徴は、レジスト膜を塗布する
基板を保持し、回転させる保持部と、前記基板を
搬送する搬送部とを具備する回転塗布装置におい
て、前記保持部が、その直径が前記基板の主表面
の対角線寸法以上の寸法である円板であり、かつ
前記保持部に前記基板を保持したとき、前記基板
の2側面により形成される角部近傍の下に位置
し、その位置から前記保持部の側面まで切り取ら
れた切欠部を有し、さらに前記搬送部が、前記切
欠部を通し、かつ搬送のときに前記基板を支持す
る支持部を備えている回転塗布装置である。
れたもので、その特徴は、レジスト膜を塗布する
基板を保持し、回転させる保持部と、前記基板を
搬送する搬送部とを具備する回転塗布装置におい
て、前記保持部が、その直径が前記基板の主表面
の対角線寸法以上の寸法である円板であり、かつ
前記保持部に前記基板を保持したとき、前記基板
の2側面により形成される角部近傍の下に位置
し、その位置から前記保持部の側面まで切り取ら
れた切欠部を有し、さらに前記搬送部が、前記切
欠部を通し、かつ搬送のときに前記基板を支持す
る支持部を備えている回転塗布装置である。
なお、本考案の望ましい態様は、前記切欠部
が、前記角部を形成する2側面のうち、前記基板
が回転する方向の後方の側面の下に設けられてい
ることである。
が、前記角部を形成する2側面のうち、前記基板
が回転する方向の後方の側面の下に設けられてい
ることである。
本考案の回転塗布装置の一実施例を第1図〜第
6図に基づいて詳細に説明する。なお、第1図は
平面図、第2図は正面図、第3図及び第4図はそ
れぞれ、第1図のX1−X1線断面図及びY1−Y1線
断面図であり、第5図及び第6図はそれぞれ、基
板に支持部が当接したときの、X1−X1線断面図
及びY1−Y1線断面図である。
6図に基づいて詳細に説明する。なお、第1図は
平面図、第2図は正面図、第3図及び第4図はそ
れぞれ、第1図のX1−X1線断面図及びY1−Y1線
断面図であり、第5図及び第6図はそれぞれ、基
板に支持部が当接したときの、X1−X1線断面図
及びY1−Y1線断面図である。
本例の回転塗布装置は、主表面が4インチ×4
インチである、ガラス基板(厚さ0.09インチ)上
にクロム膜からなる遮光性膜を被着したフオトマ
スクブランクである基板20を保持する保持部2
1と、基板20を搬送する、一対の搬送部22,
22とを具備したものである。そして、保持部2
1の直径は、基板20を保持部21に保持したと
き、平面視、基板20が保持部21の円に内接す
るように、141.4mmであり、その厚さt1は7mmで
ある。また、この保持部21は、4個の切欠部2
1aを有しており、この切欠部21aは、基板2
0を保持部21に保持したとき、基板20の角部
20cを形成する2側面20a,20bのうち、
第1図に示す矢印方向に基板20を回転したとき
の回転方向後方の側面20bの下及び角部20近
傍に形成されている。また、切欠部21aは、保
持部21の側面21bまで切り欠かれており、ま
た切欠部21aの幅寸法l1は12mm、基板20の側
面からの奥行寸法l2は10mmである。さらに、保持
部21には、基板20を真空吸着するための真空
吸着用穴21cが設けられており、また、保持部
21を回転させる回転用軸23が付設されてい
る。一方、搬送部22は、基板20を支持する、
直状の支持部22aとL字状の支持部22bとを
備え、また支持部22a,22bが基板20の下
方において保持部21方向に移動したとき、その
移動距離を検知する棒状の検知部22cと、支持
部22a,22b及び検知部22cとを連結する
連結部22dと、これら支持部22a,22b、
検知部22c、連結部22dを、第1図の矢印
A,Bで示す方向に移動させる移動部22eとを
備えている。
インチである、ガラス基板(厚さ0.09インチ)上
にクロム膜からなる遮光性膜を被着したフオトマ
スクブランクである基板20を保持する保持部2
1と、基板20を搬送する、一対の搬送部22,
22とを具備したものである。そして、保持部2
1の直径は、基板20を保持部21に保持したと
き、平面視、基板20が保持部21の円に内接す
るように、141.4mmであり、その厚さt1は7mmで
ある。また、この保持部21は、4個の切欠部2
1aを有しており、この切欠部21aは、基板2
0を保持部21に保持したとき、基板20の角部
20cを形成する2側面20a,20bのうち、
第1図に示す矢印方向に基板20を回転したとき
の回転方向後方の側面20bの下及び角部20近
傍に形成されている。また、切欠部21aは、保
持部21の側面21bまで切り欠かれており、ま
た切欠部21aの幅寸法l1は12mm、基板20の側
面からの奥行寸法l2は10mmである。さらに、保持
部21には、基板20を真空吸着するための真空
吸着用穴21cが設けられており、また、保持部
21を回転させる回転用軸23が付設されてい
る。一方、搬送部22は、基板20を支持する、
直状の支持部22aとL字状の支持部22bとを
備え、また支持部22a,22bが基板20の下
方において保持部21方向に移動したとき、その
移動距離を検知する棒状の検知部22cと、支持
部22a,22b及び検知部22cとを連結する
連結部22dと、これら支持部22a,22b、
検知部22c、連結部22dを、第1図の矢印
A,Bで示す方向に移動させる移動部22eとを
備えている。
さらに、第3図及び第4図に示すように、支持
部22a,22bのそれぞれの一端部は、段差を
設けており、その底面22a1,22b1は基板20
を支持する面であり、支持部22aの段差の側面
22a2は基板20の搬送において、基板20を挾
持する面であり、一方支持部22bの段差の側面
22b2は、後記する搬送方法において、基板20
に支持部22bを当接したとき、確実にその底面
22b1に当接させるための傾斜面である。なお、
支持部22aの一端から検知部22cまでの長さ
寸法l4は31mmであり、支持部22a,22bのそ
れぞれの幅寸法l3は10mmで、検知部22cが保持
部21に当接したときの、支持部22aの一端か
ら基板20の側面までの長さ寸法l5は9mmであ
る。さらに、支持部22a,22bのそれぞれの
段差の底面22a1,22b1の長さ寸法l6は10mmで
あり、段差寸法l7は1mmである。また支持部22
a,22bの材質はポリアセタール樹脂である。
部22a,22bのそれぞれの一端部は、段差を
設けており、その底面22a1,22b1は基板20
を支持する面であり、支持部22aの段差の側面
22a2は基板20の搬送において、基板20を挾
持する面であり、一方支持部22bの段差の側面
22b2は、後記する搬送方法において、基板20
に支持部22bを当接したとき、確実にその底面
22b1に当接させるための傾斜面である。なお、
支持部22aの一端から検知部22cまでの長さ
寸法l4は31mmであり、支持部22a,22bのそ
れぞれの幅寸法l3は10mmで、検知部22cが保持
部21に当接したときの、支持部22aの一端か
ら基板20の側面までの長さ寸法l5は9mmであ
る。さらに、支持部22a,22bのそれぞれの
段差の底面22a1,22b1の長さ寸法l6は10mmで
あり、段差寸法l7は1mmである。また支持部22
a,22bの材質はポリアセタール樹脂である。
次に、本例における搬送方法について以下に述
べる。なお、レジスト膜の塗布方法は従来と同様
であることから説明を省略し、また基板20を保
持部21から取り外す搬送方法について述べる。
べる。なお、レジスト膜の塗布方法は従来と同様
であることから説明を省略し、また基板20を保
持部21から取り外す搬送方法について述べる。
先ず、レジスト膜が基板20上に塗布された
後、移動部22eを介して、支持部22a,22
b及び検知部22cを基板20側に移動させる。
なお、左右の搬送部22,22は同期している。
そして、検知部22cが保持部21の側面21b
に当接し、すなわち、搬送部22の支持部22
a,22bの一端が、基板20の下方及び切欠部
21aの下方に位置し、さらに移動させると、移
動部22eを介して、この搬送部22を移動させ
るモータに負荷がかかり、負荷検出手段によりこ
の負荷を検出し、搬送部22の移動を停止する。
したがつて、第1図〜第4図に示すように、搬送
部22の支持部22a,22bの一端の底面22
a1,22b1が基板20の下方にくる。次に、搬送
部22を基板20から離れる方向、すなわち左の
搬送部22は左方向、右の搬送部22は右方向に
それぞれ0.5mm移動し、検知部22cを保持部2
1から離間させる。次に、左右の搬送部22,2
2を上昇し、基板20に支持部22a,22bの
段差の底面22a1,22b1を当接し(第5図及び
第6図参照)、さらに搬送部22を上昇させなが
ら、左右の搬送部22,22を基板20側に移動
し、支持部22aの段差の側面22a2により基板
20を挾持し、基板20を支持部22a,22b
によつて支持して上昇させる。なお、この基板2
0の上昇の前に、勿論基板20の真空吸着は解除
しておく。
後、移動部22eを介して、支持部22a,22
b及び検知部22cを基板20側に移動させる。
なお、左右の搬送部22,22は同期している。
そして、検知部22cが保持部21の側面21b
に当接し、すなわち、搬送部22の支持部22
a,22bの一端が、基板20の下方及び切欠部
21aの下方に位置し、さらに移動させると、移
動部22eを介して、この搬送部22を移動させ
るモータに負荷がかかり、負荷検出手段によりこ
の負荷を検出し、搬送部22の移動を停止する。
したがつて、第1図〜第4図に示すように、搬送
部22の支持部22a,22bの一端の底面22
a1,22b1が基板20の下方にくる。次に、搬送
部22を基板20から離れる方向、すなわち左の
搬送部22は左方向、右の搬送部22は右方向に
それぞれ0.5mm移動し、検知部22cを保持部2
1から離間させる。次に、左右の搬送部22,2
2を上昇し、基板20に支持部22a,22bの
段差の底面22a1,22b1を当接し(第5図及び
第6図参照)、さらに搬送部22を上昇させなが
ら、左右の搬送部22,22を基板20側に移動
し、支持部22aの段差の側面22a2により基板
20を挾持し、基板20を支持部22a,22b
によつて支持して上昇させる。なお、この基板2
0の上昇の前に、勿論基板20の真空吸着は解除
しておく。
次に、支持部22によつて支持された基板20
を、例えば基板収納容器等に搬送する。
を、例えば基板収納容器等に搬送する。
以上、本例においては、保持部21に切欠部2
1aを形成し、この切欠部21aに、搬送部22
の支持部22a,22bを通して基板20を支持
するようにしていることから、基板20の対角線
の寸法よりも直径が大きい保持部21を用いるこ
とができ、その結果基板20の角部20cが保持
部21から突出することがないのでレジストの糸
状物が基板20の裏面に付着することもなく、ま
た切欠部21aの形成されている位置が、回転方
向の後方側面の角部近傍であることから、その切
欠部21aを形成してもレジストの糸状物は基板
20の裏面に付着しない。
1aを形成し、この切欠部21aに、搬送部22
の支持部22a,22bを通して基板20を支持
するようにしていることから、基板20の対角線
の寸法よりも直径が大きい保持部21を用いるこ
とができ、その結果基板20の角部20cが保持
部21から突出することがないのでレジストの糸
状物が基板20の裏面に付着することもなく、ま
た切欠部21aの形成されている位置が、回転方
向の後方側面の角部近傍であることから、その切
欠部21aを形成してもレジストの糸状物は基板
20の裏面に付着しない。
本考案は前記実施例に限らず下記のものであつ
てもよい。
てもよい。
先ず、保持部の切欠部の位置は前記実施例のよ
うに、基板の各側面下方に設けずに、相対向する
2側面のそれぞれに2個設けてもよい。しかしな
がら、角部を形成する2側面の回転方向の前方方
向の側面に設けられた、切欠部のところの基板の
裏面にはレジストの糸状物が付着することもある
ので望ましくは前記実施例のような位置がよい。
また、前記実施例では支持部の一端に段差を形成
したが、なくてもよい。また、前記実施例の支持
部22bの底面22b1を傾斜させてもよい。ま
た、切欠部の数は4個に限らず、4個以上であつ
てもよいが、レジストの糸状物の付着防止から、
基板の角部の数と同じ4個がよい。また切欠部の
形状は、支持部の形状を考慮して適宜決定すれば
よい。また、保持部には環状の基板載置用突起を
設けてもよい。また搬送部には凸状の検知部を設
けなくてもよい。このときは、例えば、搬送部の
基板方向への移動距離を予じめ定めておけばよ
い。さらに、保持部の直径は、基板が内接する寸
法でなくてもよく、基板の対角線の寸法以上であ
ればよい。
うに、基板の各側面下方に設けずに、相対向する
2側面のそれぞれに2個設けてもよい。しかしな
がら、角部を形成する2側面の回転方向の前方方
向の側面に設けられた、切欠部のところの基板の
裏面にはレジストの糸状物が付着することもある
ので望ましくは前記実施例のような位置がよい。
また、前記実施例では支持部の一端に段差を形成
したが、なくてもよい。また、前記実施例の支持
部22bの底面22b1を傾斜させてもよい。ま
た、切欠部の数は4個に限らず、4個以上であつ
てもよいが、レジストの糸状物の付着防止から、
基板の角部の数と同じ4個がよい。また切欠部の
形状は、支持部の形状を考慮して適宜決定すれば
よい。また、保持部には環状の基板載置用突起を
設けてもよい。また搬送部には凸状の検知部を設
けなくてもよい。このときは、例えば、搬送部の
基板方向への移動距離を予じめ定めておけばよ
い。さらに、保持部の直径は、基板が内接する寸
法でなくてもよく、基板の対角線の寸法以上であ
ればよい。
以上のとおり、本考案の回転塗布装置によれ
ば、基板の裏面にレジストの糸状物を付着させる
ことなく、レジスト膜を塗布し搬送することがで
きる。
ば、基板の裏面にレジストの糸状物を付着させる
ことなく、レジスト膜を塗布し搬送することがで
きる。
第1図〜第6図は本考案の回転塗布装置の一実
施例を示す図であり、第1図は平面図、第2図は
正面図、第3図は第1図のX1−X1線断面図、第
4図は第1図のY1−Y1線断面図、第5図及び第
6図はそれぞれ基板に支持部が当接したときの、
X1−X1線断面図及びY1−Y1線断面図である。第
7図及び第8図は従来の回転塗布装置を示す図で
あり、第7図は平面図、第8図は正面図である。
第9図は従来の回転塗布装置によつてレジスト膜
を塗布したときのレジストの糸状物を示す基板の
平面図である。 20……基板、20a,20b……側面、20
c……角部、21……保持部、21a……切欠
部、22……搬送部、22a,22b……支持
部、23……回転用軸。
施例を示す図であり、第1図は平面図、第2図は
正面図、第3図は第1図のX1−X1線断面図、第
4図は第1図のY1−Y1線断面図、第5図及び第
6図はそれぞれ基板に支持部が当接したときの、
X1−X1線断面図及びY1−Y1線断面図である。第
7図及び第8図は従来の回転塗布装置を示す図で
あり、第7図は平面図、第8図は正面図である。
第9図は従来の回転塗布装置によつてレジスト膜
を塗布したときのレジストの糸状物を示す基板の
平面図である。 20……基板、20a,20b……側面、20
c……角部、21……保持部、21a……切欠
部、22……搬送部、22a,22b……支持
部、23……回転用軸。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) レジスト膜を塗布する基板を保持し、回転さ
せる保持部と、前記基板を搬送する搬送部とを
具備する回転塗布装置において、前記保持部
が、その直径が前記基板の主表面の対角線寸法
以上の寸法である円板であり、かつ前記保持部
に前記基板を保持したとき、前記基板の2側面
により形成される角部近傍の下に位置し、その
位置から前記保持部の側面まで切り取られた切
欠部を有し、さらに前記搬送部が、前記切欠部
を通し、かつ搬送のときに前記基板を支持する
支持部を備えていることを特徴とする回転塗布
装置。 (2) 実用新案登録請求の範囲第(1)項記載におい
て、前記切欠部が、前記角部を形成する2側面
のうち、前記基板が回転する方向の後方の側面
の下に設けられていることを特徴とする回転塗
布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1353587U JPH0331073Y2 (ja) | 1987-01-30 | 1987-01-30 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1353587U JPH0331073Y2 (ja) | 1987-01-30 | 1987-01-30 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63121434U JPS63121434U (ja) | 1988-08-05 |
| JPH0331073Y2 true JPH0331073Y2 (ja) | 1991-07-01 |
Family
ID=30802683
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1353587U Expired JPH0331073Y2 (ja) | 1987-01-30 | 1987-01-30 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0331073Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4642692B2 (ja) * | 2006-05-08 | 2011-03-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システム |
-
1987
- 1987-01-30 JP JP1353587U patent/JPH0331073Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63121434U (ja) | 1988-08-05 |
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