JPH0332062B2 - - Google Patents
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- JPH0332062B2 JPH0332062B2 JP60039920A JP3992085A JPH0332062B2 JP H0332062 B2 JPH0332062 B2 JP H0332062B2 JP 60039920 A JP60039920 A JP 60039920A JP 3992085 A JP3992085 A JP 3992085A JP H0332062 B2 JPH0332062 B2 JP H0332062B2
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産業上の利用分野
この発明は、静電式複写機あるいは電算機のプ
リンタなどに使用される電子写真用感光体に関す
る。 従来の技術 この種の感光体は、一般にアルミニウム（この
明細書において「アルミニウム」の語はその合金
を含む意味に於いて用いられる。）からなる導電
性支持体上に、密着性を向上するための界面層を
介して光導電性絶縁材からなる光導電層が形成さ
れたものとなされている。光導電性材料として
は、従来から無定形セレンを主体とする各種材料
が広く用いられているところであるが、最近、光
感度、スペクトル特性、受容電位、電荷保持性等
の面で一段と優れた性質を有しかつ無公害である
等の利点から、アモルフアスシリコン（以下ａ−
Siと略記する）の使用の有望性が着目され、その
実用化が進められている。 ところが、従来のセレン系光導電性材料を用い
る場合においても勿論であるが、殊にａ−Siで光
導電層を形成する場合、該光導電層の導電性支持
体に対する密着性、及び帯電・露光後の残留電位
特性の点で問題を生ずることが多い。 従来、アルミニウム製の導電性支持体を用いる
場合、主として光導電層の密着性の向上をはかる
ために、該支持体に予め下地処理として硫酸法等
による陽極酸化処理を施し、支持体表面に下地処
理界面層としての陽極酸化皮膜を形成することが
知られている（例えば特公昭57−104938号）。 発明が解決しようとする問題点 確かにこのような下地処理による陽極酸化皮
膜、なかでも特に硫酸皮膜は、封孔処理しない場
合、表面が吸着性に富み、比較的光導電層との良
好な密着性を実現しうる。ところが反面、電子写
真の画像形成プロセスにおいて、光照射後の残留
電位、即ち光減衰後の残留電位が比較的高いもの
となり、特に連続階調の画像形成に有害な影響を
及ぼすという難点があつた。例えば、最も一般的
な陽極酸化処理条件である硫酸濃度15％、温度20
℃の電解液を用いて、電流密度1.3A／ｄm2の条
件でアルミニウム製電極支持体を陽極酸化処理し
た場合、そのときの化成電圧は使用材料によつて
多少異なるが約15〜20V程度となり、その結果化
成される陽極酸化皮膜のバリヤー層（表面の多孔
質層下の絶縁層）の厚さは150〜200Å程度になる
といわれている。而して、このような皮膜を支持
体と光導電層との界面層として用いた場合、表面
の吸着性に富む多孔質層の存在によつて比較的良
好な密着性を得ることができるものの、露光後の
残留電位が高いものとなり、電気特性の面で必ず
しも高品質の感光体を得ることができないという
問題があつた。 本発明者等は、上記のような問題点を克服する
ことを目的として鋭意研究した結果、電気的特性
の低下の原因が、主に陽極酸化皮膜の下層部分に
不可避的に形成されるバリヤー層の有する比較的
高い絶縁性にあることをつきとめ、かかる知見に
基づいてこの発明を完成したものである。 従つて、この発明の所期目的は、光導電層に対
する密着性を比較的良好に保ちながも、バリヤー
層の厚さを100Å以下の極めて薄いものに制御し
て、露光後の残留電位の低減化をはかりうるよう
な界面陽極酸化皮膜の形成方法、即ち導電性支持
層に対する陽極酸化下地処理方法を提示すること
にある。 問題点を解決するための手段 而して、この発明は、アルミニウムからなる導
電性支持体の表面に、光導電層を密着状に被覆形
成するための下地処理界面層としての陽極酸化皮
膜を形成するに際して、該皮膜形成のための陽極
酸化処理を順次後段に至るに従つて相対的に低い
化成電圧を印加して行う段階的または連続階的な
実質的に複数段の電解処理によつて行うと共に、
最初の第１段目の電解を10V以上の電圧をかけて
行い、最後の第ｎ段目の電解を10V以下で第１段
目の電解電圧より相対的に低い電圧を印加して行
うものとして、陽極酸化皮膜における表面多孔質
層下のバリヤー層の厚さを100Å以下に制御する
ことを特徴とする電子写真用感光体の下地処理方
法を要旨とする。 上記の陽極酸化処理は、好ましくは順次化成電
圧を下げて３段階程度に分けて行うものとするの
が有利であり、また最後の第ｎ段目の電解は、こ
れを5V以下の電圧を印加して行うものとするの
が好適である。 手段の具体的な説明 陽極酸化皮膜を形成するための電解処理浴の種
類はこの発明において特に限定されるものではな
いが、一般的には硫酸、リン酸、シユウ酸等の溶
液が好適に用いられる。ただ、斯る電解液を用い
て導電性支持体を陽極酸化処理する場合、通常の
電解処理条件ではこの発明の所期する低残留電位
効果をもつた陽極酸化皮膜を形成せしめることは
できない。而して、この発明は、上記効果を発現
せしめうるような陽極酸化皮膜２を生成するた
め、陽極酸化皮膜２における表面部の多孔質層２
ｂ下にあつて殊に絶縁層として作用するバリヤー
層２ａの厚さt1を、100Å以下の極く薄いものに
制御しうるような特定の陽極酸化処理条件を提示
するものである。而して、この発明の方法による
処理条件は、基本的には、陽極酸化処理を実質的
に２段階以上の多段階に分けて行うものとし、か
つ順次後段に至るに従つて前段より相対的に低い
化成電圧を印加して行ういわば多段式陽極酸化処
理法である。 更に具体的には、この発明の方法は、初期の第
１段目の陽極酸化電解処理を通常の条件、例えば
好適には15〜20Vの電圧をかけて定電圧または定
電流で電解を行い、これによつて光導電性に対す
る充分な密着性を実現しうるような所定厚みの表
面多孔質層を有する陽極酸化皮膜を化成せしめた
のち、順次段階的にあるいは連続階的に初期電圧
より低い電圧で２段目更には３段目の後段の電解
処理を行うことにより、主としてバリヤー層２ａ
の厚さt1を漸次減少せしめるものである。得られ
る皮膜のバリヤー層２ａの厚さは主に最終の第ｎ
段の電解電圧に支配されて決定される。従つて、
この発明に規定される100Å以下の厚さにバリヤ
ー層を制御するためには、最終段階の化成電圧
は、一般的に２〜10V以下に設定することが必要
であり、好適には３〜8V程度の範囲、なかでも
特に5V以下に設定することが望ましい。また、
第１段目の電解から急激に上記のような低電圧領
域にまで電圧を下げて次段の電解を行うときは、
該効果電圧電解時においてなかなか所要の電流が
回復せず、処理に多くの時間を要することにな
る。このことから、好ましくは３段階程度には電
解処理を分けて行うものとし、順次後段に至るに
従つて５〜10V程度ずつ相対的に電圧を下げて電
解処理するのが有利である。なお、各段階の電解
はこれを完全に分離した工程として行う場合のほ
か、同一浴中で連続階的に次第に化成電圧を下げ
て一連に電解処理するものとしても良い。 その他の電解処理条件は一般的な普通の処理条
件に従えば良い。従つて、例えば硫酸法の場合、
濃度は10〜70％、特に好ましくは10〜20％、温度
15〜30℃程度の範囲で任意に変えることができ
る。かつ、電解時間は10〜60分間程度の範囲で変
えることができる。リン酸溶液を用いる場合に
は、特に多孔質層の孔径の大きいものが得られ、
密着性の更なる向上効果を期待することができる
点で有益である。リン酸法の場合の濃度は５〜20
％程度が好適であり、温度10〜30℃程度、時間３
〜30分間程度の範囲で適宜に変えることができ
る。更にシユウ酸法による場合、濃度１〜５％、
温度10〜30℃程度とされ、処理時間は５〜30分間
程度の範囲とされる。 なお、この発明において、導電性支持体の構成
材料として用いられるアルミニウム材の種類は特
に限定されるものではなく、切削性、強度、硬さ
等を考慮して市販の各種アルミニウム材の中から
適宜のものを選択使用することができる。一般的
には、純アルミニウム系、A3000番系等のアルミ
ニウム展伸材が好適に用いられる。 発明の効果 この発明においては、導電性支持体とその上に
形成される光導電層との間に界面層として介在さ
れることになる陽極酸化皮膜を、特にそのバリヤ
ー層の厚さにおいて通常の陽極酸化処理法では実
現し得ないような100Å以下のものに形成せしめ
うる。従つて、界面層が陽極酸化皮膜であるにも
拘わらず、それ自体の絶縁性を低いものとなし
得、帯電・露光時の光導電層の速やかな光減衰を
妨げることがなく、ひいては露光後の残留電位を
充分に低いものとすることができる。従つて、連
続階調の画像の解像力にも優れた電気特性の良好
な感光体を提供しうる。もとより、界面層がアル
ミニウム製導電性支持体の表面の陽極酸化皮膜と
して形成されるものであるから、表面にポーラス
な多孔質層を有してこれが光導電層に対する良好
な密着性を示し、セレン系の光導電性材料を用い
る場合はもちろんのこと、ａ−Si系の光導電性材
料を用いる場合においても、光導電層の成層形成
後、放冷過程等において該層の別離、ふくれ、亀
裂等の現象を生じることのない安定した感光体の
製造に貢献を果し得る。 実施例 実施例 １ A1070−H14からなる外径80mm、内径74mm、長
さ340mmのアルミニウム円筒体を導電性支持体と
して用い、表面を鏡面切削仕上げし、かつ弱アル
カリ系脱脂剤で脱脂処理したのち、次の処理条件
で３段階に陽極酸化電解処理した。 第１段目電解：電解液 15％硫酸 温度 20℃ 電流密度 1.3A／ｄm2 （化成電圧 16〜18V） 時間 ３分 電解法 定電流電解 第２段目電解：電解液 第１段目と同じ 温度 第１段目と同じ 電圧 8V 時間 ３分 電解法 定電圧電解 第３段目電解：電解液 第１段目と同じ 温度 第１段目と同じ 電圧 3V 時間 ５分 電解法 定電圧電解 次いで、この陽極酸化皮膜を有する支持体を充
分に水洗し、自然乾燥した後、上記支持体上に、
グロー放電法によりａ−Siからなる厚さ約20μｍ
の光導電層を形成し、常温下に自然冷却して電子
写真用感光体の本発明試料No.１を得た。 実施例 ２ 各段の電解処理条件を次のとおりとした以外
は、実施例１と同様にして表面にａ−Si光導電層
を有する感光体の本発明試料No.２を得た。 第１段目電解：電解液 10％リン酸 温度 30℃ 電圧 20V定電圧電解 時間 ３分 第２段目電解：電解液 第１段目と同じ 温度 第１段目と同じ 電圧 10V定電圧電解 時間 ７分 第３段目電解：電解液 第１段目と同じ 温度 第１段目と同じ 電圧 5V定電圧電解 時間 ５分 実施例 ３ 各段の電解処理条件を次のとおりとした以外
は、実施例１と同様にして表面にａ−Si光導電層
を有する感光体の本発明試料No.３を得た。 第１段目電解：電解液 ２％シユウ酸 温度 35℃ 電圧 20V定電圧電解 時間 ７分 第２段目電解：電解液 第１段目と同じ 温度 第１段目と同じ 電圧 15V定電圧電解 時間 ３分 第３段目電解：電解液 第１段目と同じ 温度 第１段目と同じ 電圧 10V定電圧電解 時間 ５分 比較例 １〜２ 実施例１〜３と同様のアルミニウム製円筒状導
電性支持体を前処理したのち、常法に従つて、15
％硫酸電解液により、温度20℃において、電流密
度1.3A／ｄm2の条件で３分間陽極酸化電解処理
した。そして、陽極酸化皮膜の未封孔のもの（比
較例試料No.１）と、更に続いて常法による封孔処
理を施したもの（比較例試料No.２）とをつくり、
以降は前記実施例１〜３の場合と同様にして、表
面にａ−Si光導電層を有する感光体の比較例試料
No.１〜２を得た。 上記実施例の本発明試料No.１〜３及び比較例試
料No.１〜２のそれぞれにつき、その陽極酸化皮膜
のバリヤー層及び多孔質層の厚さを測定すると共
に、光導電層の密着性を評価した。そして又、こ
れらの感光体試料を、暗中においてコロナ電圧
5.5KVで帯電させ、次いでハロゲンランプにて10
χ・ｓ露光したのちの残留電位を測定した。 これらの結果を下表に示す。
リンタなどに使用される電子写真用感光体に関す
る。 従来の技術 この種の感光体は、一般にアルミニウム（この
明細書において「アルミニウム」の語はその合金
を含む意味に於いて用いられる。）からなる導電
性支持体上に、密着性を向上するための界面層を
介して光導電性絶縁材からなる光導電層が形成さ
れたものとなされている。光導電性材料として
は、従来から無定形セレンを主体とする各種材料
が広く用いられているところであるが、最近、光
感度、スペクトル特性、受容電位、電荷保持性等
の面で一段と優れた性質を有しかつ無公害である
等の利点から、アモルフアスシリコン（以下ａ−
Siと略記する）の使用の有望性が着目され、その
実用化が進められている。 ところが、従来のセレン系光導電性材料を用い
る場合においても勿論であるが、殊にａ−Siで光
導電層を形成する場合、該光導電層の導電性支持
体に対する密着性、及び帯電・露光後の残留電位
特性の点で問題を生ずることが多い。 従来、アルミニウム製の導電性支持体を用いる
場合、主として光導電層の密着性の向上をはかる
ために、該支持体に予め下地処理として硫酸法等
による陽極酸化処理を施し、支持体表面に下地処
理界面層としての陽極酸化皮膜を形成することが
知られている（例えば特公昭57−104938号）。 発明が解決しようとする問題点 確かにこのような下地処理による陽極酸化皮
膜、なかでも特に硫酸皮膜は、封孔処理しない場
合、表面が吸着性に富み、比較的光導電層との良
好な密着性を実現しうる。ところが反面、電子写
真の画像形成プロセスにおいて、光照射後の残留
電位、即ち光減衰後の残留電位が比較的高いもの
となり、特に連続階調の画像形成に有害な影響を
及ぼすという難点があつた。例えば、最も一般的
な陽極酸化処理条件である硫酸濃度15％、温度20
℃の電解液を用いて、電流密度1.3A／ｄm2の条
件でアルミニウム製電極支持体を陽極酸化処理し
た場合、そのときの化成電圧は使用材料によつて
多少異なるが約15〜20V程度となり、その結果化
成される陽極酸化皮膜のバリヤー層（表面の多孔
質層下の絶縁層）の厚さは150〜200Å程度になる
といわれている。而して、このような皮膜を支持
体と光導電層との界面層として用いた場合、表面
の吸着性に富む多孔質層の存在によつて比較的良
好な密着性を得ることができるものの、露光後の
残留電位が高いものとなり、電気特性の面で必ず
しも高品質の感光体を得ることができないという
問題があつた。 本発明者等は、上記のような問題点を克服する
ことを目的として鋭意研究した結果、電気的特性
の低下の原因が、主に陽極酸化皮膜の下層部分に
不可避的に形成されるバリヤー層の有する比較的
高い絶縁性にあることをつきとめ、かかる知見に
基づいてこの発明を完成したものである。 従つて、この発明の所期目的は、光導電層に対
する密着性を比較的良好に保ちながも、バリヤー
層の厚さを100Å以下の極めて薄いものに制御し
て、露光後の残留電位の低減化をはかりうるよう
な界面陽極酸化皮膜の形成方法、即ち導電性支持
層に対する陽極酸化下地処理方法を提示すること
にある。 問題点を解決するための手段 而して、この発明は、アルミニウムからなる導
電性支持体の表面に、光導電層を密着状に被覆形
成するための下地処理界面層としての陽極酸化皮
膜を形成するに際して、該皮膜形成のための陽極
酸化処理を順次後段に至るに従つて相対的に低い
化成電圧を印加して行う段階的または連続階的な
実質的に複数段の電解処理によつて行うと共に、
最初の第１段目の電解を10V以上の電圧をかけて
行い、最後の第ｎ段目の電解を10V以下で第１段
目の電解電圧より相対的に低い電圧を印加して行
うものとして、陽極酸化皮膜における表面多孔質
層下のバリヤー層の厚さを100Å以下に制御する
ことを特徴とする電子写真用感光体の下地処理方
法を要旨とする。 上記の陽極酸化処理は、好ましくは順次化成電
圧を下げて３段階程度に分けて行うものとするの
が有利であり、また最後の第ｎ段目の電解は、こ
れを5V以下の電圧を印加して行うものとするの
が好適である。 手段の具体的な説明 陽極酸化皮膜を形成するための電解処理浴の種
類はこの発明において特に限定されるものではな
いが、一般的には硫酸、リン酸、シユウ酸等の溶
液が好適に用いられる。ただ、斯る電解液を用い
て導電性支持体を陽極酸化処理する場合、通常の
電解処理条件ではこの発明の所期する低残留電位
効果をもつた陽極酸化皮膜を形成せしめることは
できない。而して、この発明は、上記効果を発現
せしめうるような陽極酸化皮膜２を生成するた
め、陽極酸化皮膜２における表面部の多孔質層２
ｂ下にあつて殊に絶縁層として作用するバリヤー
層２ａの厚さt1を、100Å以下の極く薄いものに
制御しうるような特定の陽極酸化処理条件を提示
するものである。而して、この発明の方法による
処理条件は、基本的には、陽極酸化処理を実質的
に２段階以上の多段階に分けて行うものとし、か
つ順次後段に至るに従つて前段より相対的に低い
化成電圧を印加して行ういわば多段式陽極酸化処
理法である。 更に具体的には、この発明の方法は、初期の第
１段目の陽極酸化電解処理を通常の条件、例えば
好適には15〜20Vの電圧をかけて定電圧または定
電流で電解を行い、これによつて光導電性に対す
る充分な密着性を実現しうるような所定厚みの表
面多孔質層を有する陽極酸化皮膜を化成せしめた
のち、順次段階的にあるいは連続階的に初期電圧
より低い電圧で２段目更には３段目の後段の電解
処理を行うことにより、主としてバリヤー層２ａ
の厚さt1を漸次減少せしめるものである。得られ
る皮膜のバリヤー層２ａの厚さは主に最終の第ｎ
段の電解電圧に支配されて決定される。従つて、
この発明に規定される100Å以下の厚さにバリヤ
ー層を制御するためには、最終段階の化成電圧
は、一般的に２〜10V以下に設定することが必要
であり、好適には３〜8V程度の範囲、なかでも
特に5V以下に設定することが望ましい。また、
第１段目の電解から急激に上記のような低電圧領
域にまで電圧を下げて次段の電解を行うときは、
該効果電圧電解時においてなかなか所要の電流が
回復せず、処理に多くの時間を要することにな
る。このことから、好ましくは３段階程度には電
解処理を分けて行うものとし、順次後段に至るに
従つて５〜10V程度ずつ相対的に電圧を下げて電
解処理するのが有利である。なお、各段階の電解
はこれを完全に分離した工程として行う場合のほ
か、同一浴中で連続階的に次第に化成電圧を下げ
て一連に電解処理するものとしても良い。 その他の電解処理条件は一般的な普通の処理条
件に従えば良い。従つて、例えば硫酸法の場合、
濃度は10〜70％、特に好ましくは10〜20％、温度
15〜30℃程度の範囲で任意に変えることができ
る。かつ、電解時間は10〜60分間程度の範囲で変
えることができる。リン酸溶液を用いる場合に
は、特に多孔質層の孔径の大きいものが得られ、
密着性の更なる向上効果を期待することができる
点で有益である。リン酸法の場合の濃度は５〜20
％程度が好適であり、温度10〜30℃程度、時間３
〜30分間程度の範囲で適宜に変えることができ
る。更にシユウ酸法による場合、濃度１〜５％、
温度10〜30℃程度とされ、処理時間は５〜30分間
程度の範囲とされる。 なお、この発明において、導電性支持体の構成
材料として用いられるアルミニウム材の種類は特
に限定されるものではなく、切削性、強度、硬さ
等を考慮して市販の各種アルミニウム材の中から
適宜のものを選択使用することができる。一般的
には、純アルミニウム系、A3000番系等のアルミ
ニウム展伸材が好適に用いられる。 発明の効果 この発明においては、導電性支持体とその上に
形成される光導電層との間に界面層として介在さ
れることになる陽極酸化皮膜を、特にそのバリヤ
ー層の厚さにおいて通常の陽極酸化処理法では実
現し得ないような100Å以下のものに形成せしめ
うる。従つて、界面層が陽極酸化皮膜であるにも
拘わらず、それ自体の絶縁性を低いものとなし
得、帯電・露光時の光導電層の速やかな光減衰を
妨げることがなく、ひいては露光後の残留電位を
充分に低いものとすることができる。従つて、連
続階調の画像の解像力にも優れた電気特性の良好
な感光体を提供しうる。もとより、界面層がアル
ミニウム製導電性支持体の表面の陽極酸化皮膜と
して形成されるものであるから、表面にポーラス
な多孔質層を有してこれが光導電層に対する良好
な密着性を示し、セレン系の光導電性材料を用い
る場合はもちろんのこと、ａ−Si系の光導電性材
料を用いる場合においても、光導電層の成層形成
後、放冷過程等において該層の別離、ふくれ、亀
裂等の現象を生じることのない安定した感光体の
製造に貢献を果し得る。 実施例 実施例 １ A1070−H14からなる外径80mm、内径74mm、長
さ340mmのアルミニウム円筒体を導電性支持体と
して用い、表面を鏡面切削仕上げし、かつ弱アル
カリ系脱脂剤で脱脂処理したのち、次の処理条件
で３段階に陽極酸化電解処理した。 第１段目電解：電解液 15％硫酸 温度 20℃ 電流密度 1.3A／ｄm2 （化成電圧 16〜18V） 時間 ３分 電解法 定電流電解 第２段目電解：電解液 第１段目と同じ 温度 第１段目と同じ 電圧 8V 時間 ３分 電解法 定電圧電解 第３段目電解：電解液 第１段目と同じ 温度 第１段目と同じ 電圧 3V 時間 ５分 電解法 定電圧電解 次いで、この陽極酸化皮膜を有する支持体を充
分に水洗し、自然乾燥した後、上記支持体上に、
グロー放電法によりａ−Siからなる厚さ約20μｍ
の光導電層を形成し、常温下に自然冷却して電子
写真用感光体の本発明試料No.１を得た。 実施例 ２ 各段の電解処理条件を次のとおりとした以外
は、実施例１と同様にして表面にａ−Si光導電層
を有する感光体の本発明試料No.２を得た。 第１段目電解：電解液 10％リン酸 温度 30℃ 電圧 20V定電圧電解 時間 ３分 第２段目電解：電解液 第１段目と同じ 温度 第１段目と同じ 電圧 10V定電圧電解 時間 ７分 第３段目電解：電解液 第１段目と同じ 温度 第１段目と同じ 電圧 5V定電圧電解 時間 ５分 実施例 ３ 各段の電解処理条件を次のとおりとした以外
は、実施例１と同様にして表面にａ−Si光導電層
を有する感光体の本発明試料No.３を得た。 第１段目電解：電解液 ２％シユウ酸 温度 35℃ 電圧 20V定電圧電解 時間 ７分 第２段目電解：電解液 第１段目と同じ 温度 第１段目と同じ 電圧 15V定電圧電解 時間 ３分 第３段目電解：電解液 第１段目と同じ 温度 第１段目と同じ 電圧 10V定電圧電解 時間 ５分 比較例 １〜２ 実施例１〜３と同様のアルミニウム製円筒状導
電性支持体を前処理したのち、常法に従つて、15
％硫酸電解液により、温度20℃において、電流密
度1.3A／ｄm2の条件で３分間陽極酸化電解処理
した。そして、陽極酸化皮膜の未封孔のもの（比
較例試料No.１）と、更に続いて常法による封孔処
理を施したもの（比較例試料No.２）とをつくり、
以降は前記実施例１〜３の場合と同様にして、表
面にａ−Si光導電層を有する感光体の比較例試料
No.１〜２を得た。 上記実施例の本発明試料No.１〜３及び比較例試
料No.１〜２のそれぞれにつき、その陽極酸化皮膜
のバリヤー層及び多孔質層の厚さを測定すると共
に、光導電層の密着性を評価した。そして又、こ
れらの感光体試料を、暗中においてコロナ電圧
5.5KVで帯電させ、次いでハロゲンランプにて10
χ・ｓ露光したのちの残留電位を測定した。 これらの結果を下表に示す。
【表】
上表の結果により、この発明に係る下地処理方
法を採用して製作した感光体は、光導電層の密着
性を良好に保ちつつ、殊に露光後の残留電位の低
下効果を認め得るものであつた。
法を採用して製作した感光体は、光導電層の密着
性を良好に保ちつつ、殊に露光後の残留電位の低
下効果を認め得るものであつた。
図面はこの発明の下地処理を施して製作される
感光体の支持体と光導電層との界面部分の構造を
示す模式図である。 １…導電性支持体、２…陽極酸化皮膜、２ａ…
バリヤー層、２ｂ…多孔質層、３…光導電層。
感光体の支持体と光導電層との界面部分の構造を
示す模式図である。 １…導電性支持体、２…陽極酸化皮膜、２ａ…
バリヤー層、２ｂ…多孔質層、３…光導電層。
Claims (1)
- １ アルミニウムからなる導電性支持体の表面
に、光導電層を密着状に被覆形成するための下地
処理界面層としての陽極酸化皮膜を形成するに際
して、該皮膜形成のための陽極酸化処理を順次後
段に至るに従つて相対的に低い化成電圧を印加し
て行う段階的または連続階的な実質的に複数段の
電解処理によつて行うと共に、最初の第１段目の
電解を10V以上の電圧をかけて行い、最後の第ｎ
段目の電解を10V以下で第１段目の電解電圧より
相対的に低い電圧を印加して行うものとして、陽
極酸化皮膜における表面多孔質層下のバリヤー層
の厚さを100Å以下に制御することを特徴とする
電子写真用感光体の下地処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3992085A JPS61198245A (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | 電子写真用感光体の下地処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3992085A JPS61198245A (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | 電子写真用感光体の下地処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61198245A JPS61198245A (ja) | 1986-09-02 |
| JPH0332062B2 true JPH0332062B2 (ja) | 1991-05-09 |
Family
ID=12566370
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3992085A Granted JPS61198245A (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | 電子写真用感光体の下地処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61198245A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2680314B2 (ja) * | 1987-10-21 | 1997-11-19 | 昭和アルミニウム株式会社 | 電子写真用有機感光体の下地処理方法 |
| JP2768634B2 (ja) * | 1994-05-06 | 1998-06-25 | 株式会社神戸製鋼所 | 印刷性に優れた感光体ドラムの製造方法 |
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| JP5014782B2 (ja) * | 2006-12-28 | 2012-08-29 | 三菱アルミニウム株式会社 | 表面処理アルミニウム材料の製造方法および表面処理アルミニウム材料の製造装置 |
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| JP5014781B2 (ja) * | 2006-12-28 | 2012-08-29 | 三菱アルミニウム株式会社 | 表面処理アルミニウム材料の製造方法および表面処理アルミニウム材料の製造装置 |
| KR101780923B1 (ko) * | 2009-03-30 | 2017-09-22 | 액센투스 메디컬 리미티드 | 금속 처리 방법 |
| CN101812712B (zh) * | 2010-05-07 | 2011-11-16 | 常州大学 | 超小孔径多孔阳极氧化铝膜的高速制备方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5022637A (ja) * | 1973-06-26 | 1975-03-11 |
-
1985
- 1985-02-28 JP JP3992085A patent/JPS61198245A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61198245A (ja) | 1986-09-02 |
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