JPH0332077A - レーザ装置 - Google Patents

レーザ装置

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JPH0332077A
JPH0332077A JP16758389A JP16758389A JPH0332077A JP H0332077 A JPH0332077 A JP H0332077A JP 16758389 A JP16758389 A JP 16758389A JP 16758389 A JP16758389 A JP 16758389A JP H0332077 A JPH0332077 A JP H0332077A
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JP
Japan
Prior art keywords
current
capacitor
semiconductor switch
load
laser
Prior art date
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Pending
Application number
JP16758389A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaru Yasuda
賢 安田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPH0332077A publication Critical patent/JPH0332077A/ja
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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、レーザ負荷の放電空間に放電を発生させて
レーザ光を発振するレーザ装置に関するものである。
〔従来の技術〕
第4図は例えば特開昭63−[15083号公報に記載
されたこの種従来のガスレーザ装置の主回路構成を示す
回路図である6図において、(υは高圧tIl源、(2
)はサイラトロンで、グリッドと称する制御端子の電圧
を制御することによりON 、 OFFを行うスイッチ
ング素子である。(3)はコンデンサ、(4)はりアク
ドル、(5)はレーザ負荷で、その内部には放電により
レーザガスの励起を行う主放電空間(6)と、コンデン
サ(7)を介しての予備電離ギャップ(8)とが形成さ
れている。
次に動作について説明する。先ず、サイラトロン(2)
がOFFの状態で高圧電源(1)に充電指令を与え−コ
ンデンサ(3)−リアクトル(4)で構成されるループ
に充電電流Icが流れ、コンデンサ(3)が充電されそ
の端子電圧が上昇する。この闇、レーザ負荷(5)の端
子間には下式の電圧VLが印加される。
但し、 L : リアク ト jしく4〉のインダクタンス 電離ギャップ(8)は勿論、主放電空間(6)にも放電
は発生せず、従って、コンデンサ(7)も充電されない
コンデンサ(3)の充電が完了した後、サイラトロン(
2)に発振指令を与えてONとすると、レーザ負荷(5
)の端子間電圧が跳ね上がり、先ず予備電離ギャップ(
8)が放電する。これによりサイラトロン(2)−コン
デンサ(3)−コンデンサ(7)−予備電離ギャップ(
8)のループが形成され、このループにコンデンサ(3
)からの放電電流が流れてコンデンサ(7)が充電され
る。
そして、このコンデンサ(7)の充電電圧がピークに達
する1での時間は、上記Iレープの残留インダクタンス
をl、ループに含1れるコンデンサ(3) (7)の直
列容量をCとするとπ「で表わされるが、この時筐でに
主放電空間(6)で放電が発生する。
そして、コンデンサ(7)に蓄えられたエネルギは主と
して主放電空間(6)で消費され、また、コンデンサ(
3)に残留しているエネlレギは主として主放電空間(
6)およびリアクトIしく4)の抵抗弁により消費され
、これによりガスレーザ装置の1回の放it!1111
作が完了する。
通常、レーザ光の出力を大きくするため上述の動作を多
数回繰り返す必要がある。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来のガスレーザ装置は以上のように電流のスイッチン
グにサイラトロン(2)を使用している。サイラトロン
(2)は水銀やアルゴンのガス中に熱I J4iを備え
たもので、この電極の消耗や封入ガスの劣化等があり、
保守が煩雑になるとともに寿命が短かく、保守費用やサ
イラトロンの更新費用が高くなるという問題点があった
。この場合、このサイラトロンを半導体スイッチにその
11置き換える方法が一応考えられるが、サイラトロン
のON時間は10 n5ecのオーダで、レーザ負荷(
5)に必要な電圧を発生させるのに十分な高速性能を有
しているが、半導体スイッチのそれは1 、gsecの
オーダで、遅くレーザWX源用としては適当でない。
この発明は以上のような問題点を解消するためになされ
たもので、半導体スイッチの適用を可能として保守が簡
便で長寿命のレーザ装置を得ることを目的とする。
〔課−を解決するための手段および作用〕この発明に係
るレーザ装置は、インダクタンス要素を有するインダク
タンス回路と自己消弧形の半V1.にスイッチとをそれ
ぞれレーザ負荷と並列に接続するとともに、駆動回路に
より、先ず、上記半導体スイッチに電流を供給し、通電
時に上記半導体スイッチを遮断してレーザ負荷に高電圧
を発生させる。
〔実施例〕
第1図はこの発明の一実施例におけるガスレーザ装置の
主回路構成を示す回路図である1図において、(1)(
5)は従来と向嘩、それぞれ高圧l!源およびレーザ負
荷である。但し、高圧電源(1)は第1図ではその下方
の端子が正極側となっている。また、レーザ負荷(5)
には放電空間(6)を挾んで第1の電極(9)、第2の
電極(ト)および第3の電極(6)が設けられている。
03は静電誘導形サイリスタ等の高速遮断が可能な自己
消弧形の半導体スイッチ、cLlは半導体スイツチング
□に逆並列接続されたダイオード、α◆はインダクタン
ス要素としてのりアクトIし、 (1Gはコンデンサで
、このリアクトIしαEとコンデンサ(至)との直列体
によりインダクタンス回路Qθを構成する。
そしてaηは駆動回路で、先の高圧電源(1)、この高
圧電H(13と並列に接続されたサイリスタμsとこれ
に逆並列接続されたダイオードCIIJ 、および高圧
電源(1)と直列に接続されたコンデンサ(1)とりア
クトIしく口)から構成されている。
次に、動作を第2図のタイムチャートに従って説明する
。先ず、時刻T1で充電指令が出されるが、半導体スイ
ツチOのゲートGlには既にON信号が与えられている
。上記充電指令により駆動回路α力の高圧電源T1)が
動作してその出力電圧を立上らせる。これによって、高
圧llt源(11−ダイオード(至)−リアクトIL/
(ロ)−コンデンサに)で186されるIレープに充L
IE流が流れ、コンデンサ(7)の端子間の電圧は第1
図に示すti!j性に徐々に上昇し、やがて時刻T2で
高圧11E 源+1)で定まる値に到達し、充電が完了
して以後、一定の電圧値を保持する。
その後、時刻T3において、発振指令が出されサイリス
タ叫のゲートG2にON信号が与えられる。これにより
、サイリスタα呻−コンデンサーーリアクドル(ロ)−
半導体スイツy−叫のループが構成され、コンデンサ曽
が放電を開始する。この放電電流がほぼ最大に達した時
刻T4で半導体スイツy−□□□にOFF信号即ちター
ンオフの駆動信号を与える。
半導体スイノーPQ2の高速遮断により、コンデンサ(
7)の放電電流は半導体スイッチ(6)からインダクタ
ンス回路αGに転流し、その高い電流時間変化率からリ
アクトIしα弔のインダクタンス分により高電圧が発生
してレーザ負荷(5)に印加される。
この結果、レーザ負荷(5)の内部の第2の電画aOと
第3の電極(ロ)との間でコロナ放電が発生し、これが
予1棺電離となって、直ちに第1の電極(9)と第3の
a 厖(+1)との間の主放電に移行しレーザ発振が行
われる。
時刻T5でレーザ負荷(5)の電流が零になると、以後
、コンデンサ(4)の放KW流は、コンデンサ(イ)−
ダイオード09−ダイオード0−リアクトlしく財)で
構成されるIレープを流れることになる。そして、この
ダイオード(2)の通電中時刻T6で、半導体スイツy
″OのゲートGlに再びON信号を与えてリセット状部
とする。
コンデンサ四の電圧はこのダイオード03の通電中に反
転して再び当初の極性となり、時刻T7でその電圧が極
大値に達し、放電電流が零になると、半導体スイッチ(
2)およびサイリスタ斡は共にOFF状態であるので、
以後放電Iレープは形成されず、コンデンサ(1)の電
圧は一定の値を保持する。以上回目の動作終了後の電圧
から開始される。なお、レーザ装置を完全に停止する場
合には、最終回の放電動作完了後、サイリスタ嬶にON
信号を与え、放電ループを形成してループ内の抵抗弁に
より蓄積エネルギを消費させるようにする。
この実施例では、半導体スイッチ0の高速度のターンオ
フ特性を利用して高い電流時間変化率を発生させるよう
にしたので、レーザ負荷(5)の放電動作に十分な高電
圧が得られ、筐た、半導体スイッチであるので多頻度の
動作であっても簡便な保守で長寿命が撮られる。
なお、上記説明では、リアクトル軸および@を回路素子
として扱ったが、具体的な配線構造によ傅 り実質的に府在するいわゆる残留インダクタンス成分を
利用することにより、回路素子としてのりアクトIしを
省略する構成としてもよい。
第3図はこの発明の他の実施例を示すもので、ここでば
MA動回路aηの電源として定電流源のを利用している
放電に先だって、先ず、この定電流源@により半導体ス
イツf−(2)に直流電流を流しておく、そして、発振
指令が出ると、半導体スイッチ0を高速遮断し、上記実
施例と同臘、その電流をインダクタンス回路CI6へ転
流させて高電圧を発生させる訳である。
〔発明の効果〕
以上のように、この発明では、インダクタンス回路と自
己消弧形の半導体スイッチとをそれぞれレーザ負荷と並
列に接続し、上記半導体スイッチをその通電時に遮断し
てレーザ負荷に電圧を印加する構成としたので、確実な
放電動作が得られるとともに、保守が簡便で寿命も増大
し、経済的で信頼性の高いレーザ装置が実現する。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例によるガスレーザ装置の主
回路構成を示す回路図、第2図はその動作を説明するタ
イムチャート、第3図はこの発明の他の実施例によるも
のを示す同罎の回路図、第4図は従来のガスレーザ装置
の主回路構成を示す回路図である。 図において、(5)はレーザ負荷、〈6)は放電空間、
(6)は半導体スイッチ、0ηはインダクタンス要素と
してのりアクドル、αQはインダクタンス回路、(ロ)
は駆動回路である。 なお、 各図中、 同一符号は同一または相当部分 を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 内部に放電空間を形成したレーザ負荷と、インダクタン
    ス要素を有し上記レーザ負荷と並列に接続されたインダ
    クタンス回路と、上記レーザ負荷と並列に接続された自
    己消弧形の半導体スイッチと、この半導体スイッチに順
    方向に電流を供給し、この通電時に上記半導体スイッチ
    を遮断することにより上記レーザ負荷に電圧を印加して
    その放電空間に放電を発生せしめる駆動回路とからなる
    レーザ装置。
JP16758389A 1989-06-29 1989-06-29 レーザ装置 Pending JPH0332077A (ja)

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JP16758389A JPH0332077A (ja) 1989-06-29 1989-06-29 レーザ装置

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JP16758389A JPH0332077A (ja) 1989-06-29 1989-06-29 レーザ装置

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