JPH0332139B2 - - Google Patents
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- JPH0332139B2 JPH0332139B2 JP60269512A JP26951285A JPH0332139B2 JP H0332139 B2 JPH0332139 B2 JP H0332139B2 JP 60269512 A JP60269512 A JP 60269512A JP 26951285 A JP26951285 A JP 26951285A JP H0332139 B2 JPH0332139 B2 JP H0332139B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- weight
- parts
- curable resin
- layer
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えばビデオ用テープ、オーデイオ
用テープ等の磁気テープ、又はフロツピーデイス
ク、ハードデイスク等の磁気デイスクといつた磁
気記録媒体の製造法に関するものである。 〔従来技術とその問題点〕 従来より、磁気記録媒体の耐摩耗性及び耐衝撃
性向上の為に、磁気記録媒体の磁性層表面に各種
の保護膜、例えば熱可塑性又は熱硬化性の樹脂
よりなる保護膜、磁性塗膜中に放射線重合性の
滑剤を含ませておき、放射線照射により硬化させ
てなる保護膜を構成することが提案されている。 これらのうち、例えば特開昭47−24804号公報
等に示されている上記の技術にあつては、磁性
塗膜層構成の為に用いたバインダが熱可塑性のも
のであるか又は熱硬化型のものであるかによつて
４通りの場合があるものの、保護膜が熱可塑性樹
脂よりなる場合には耐摩耗性が充分でない欠点が
あり、又、特に磁性塗膜層構成の為に用いたバイ
ンダが熱硬化性のものであつて、かつ保護膜が熱
可塑性のものである場合には、磁性塗料を塗布し
て構成した磁性塗膜層を硬化させた後に保護膜の
塗料を塗布といつた工程を経なければならないの
で、すなわち保護膜の塗料を塗布した後に硬化作
業を行なうとブロツキングが起きるので、それだ
け製造が面倒である欠点があり、又、保護膜が熱
硬化型樹脂よりなる場合には、保護膜の塗料を塗
布後熱硬化反応を行なわなければならないのでブ
ロツキングが生じてしまう欠点がある。 又、特開昭57−24028号公報等に示されている
上記の技術にあつては、塗膜強度の向上は充分
なものとは言えず、又、磁性層への転写を防ぐこ
とが出来ず、Ｃ／Ｎが低下するといつた欠点があ
る。 〔発明の開示〕 本発明者は、前記の問題点に対する研究を行な
つた結果、非磁性支持体上に磁性粉及びバインダ
を含む磁性塗料を塗布した後、この上に紫外線硬
化型樹脂又は電子線硬化型樹脂を含む塗料を塗布
し、その後表面平滑化処理を行なつた後紫外線照
射又は電子線照射して硬化処理することによつて
磁気記録媒体を製造すると、この場合にはブロツ
キングが起きないものとなり、又、表面平滑化処
理の前に磁性層上に紫外線硬化型樹脂又は電子線
硬化型樹脂を含む塗料を塗布するので、磁性層表
面の空隙あるいは凹部にこの塗料が入り込み、こ
の結果磁性層への紫外線硬化型樹脂又は電子線硬
化型樹脂の稠密性が高くなり、磁気記録媒体の耐
摩耗性及び耐衝撃性が向上し、又、再生出力の低
下は極めて小さく、又、磁性層と反対側面の転写
の問題が起きにくい磁気記録媒体が得られること
を見い出したのである。 尚、非磁性支持体としては、例えばポリエステ
ルフイルム、ポリイミドフイルム、ポリフエニレ
ンスルフイドフイルム等があり、又、磁性粉とし
ては、例えばγ−Fe2O3、Co含有γ−Fe2O3、
Fe3O4、Co含有γ−Fe3O4、CrO2、Fe、Fe−Co
−Ni、バリウムフエライト等があり、又、バイ
ンダとしては、例えばポリエステル樹脂、ポリウ
レタン樹脂、エポキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル−ビニルアルコール共重合体、硝化綿、ニト
リルゴム等がある。 又、紫外線又は電子線照射型樹脂としては、例
えばポリウレタンアクリレート、エポキシアクリ
レート、ポリエステルアクリレート、シリコーン
樹脂アクリレート、又はジメチルアミノメタクリ
レート等がある。 尚、非磁性支持体上に塗布される磁性塗料中に
は、上記磁性粉及びバインダの他に、通常分散
剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤等の添加剤が必
要に応じて所定量添加されており、又、磁性塗膜
上に塗布される紫外線硬化型樹脂又は電子線硬化
型樹脂を含む塗料中には、必要に応じて単官能ア
クリレートモノマ、二官能アクリレートモノマ、
多官能アクリレートモノマ等の反応性希釈剤、及
びベンジルジメチルケタール、ベンゾフエノン等
の重合開始剤が所定量添加されている。 又、非磁性支持体上に磁性塗料を塗布すること
によつて設けられる磁性塗膜層の厚みは従来から
の磁気記録媒体のものと同様に約１〜5μｍ厚あ
れば良く、又、この磁性塗膜層上に塗布すること
によつて設けられる紫外線硬化型樹脂又は電子線
硬化型樹脂の層は約0.5μｍ以下の厚みであること
が、より一層好ましくは約0.05〜0.2μｍの厚みで
あることが望ましい。 尚、磁性塗膜層構成の為に用いたバインダが熱
硬化性樹脂である場合には、紫外線照射又は電子
線照射の前に熱処理によつて熱硬化反応を行う
と、非磁性支持体上の磁性層と非磁性支持体の裏
面側とが、ロール状に巻回した場合に互いに接触
し、その状態で熱硬化炉に入れると、熱により磁
性層が軟化して接触する非磁性支持体の裏面側の
表面が転写またはブロツキングを起こすことがあ
り、従つて紫外線照射又は電子線照射の後に熱硬
化反応を行う方が望ましい。 実施例 １ Co含有γ−Fe2O3100重量部、塩化ビニル−酢
酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（米国U.
C.C.社のVAGH）10重量部、ポリウレタンエラ
ストマー（日本ポリウレタン工業(株)製のN2304）
10重量部、レシチン１重量部、カーボンブラツク
５重量部、アルミナ粉末５重量部、ステアリン酸
イソアミル１重量部、トルエンとメチルエチルケ
トンとメチルイソブチルケトンの等量混合溶剤
300重量部を、サンドミル約20時間混合分散し、
これに硬化剤としてポリイソシアネート（日本ポ
リウレタン工業(株)製のコロネートＬ）を５重量部
加え、このようにして得られた磁性塗料を約75μ
ｍ厚のポリエステルフイルムからなる非磁性支持
体上に約2.5μｍ厚塗布し、乾燥する。 次に、このようにして構成された磁性塗膜層上
に、下記の構造式 で表わされるポリエステルアクリレート70重量
部、トリメチロールプロパントリアクリレート20
重量部、ヒドロキシエチルアクリレート５重量
部、ベンゾフエノン３重量部、ジメチルアミノエ
タノール２重量部からなる塗料を約0.2μｍ厚塗布
し、そしてその後スチールロール又はプラスチツ
クロール等のカレンダーによつて表面平滑化処理
を行なう。 この表面平滑化処理の後、紫外線照射装置を用
いて紫外線照射処理を行なつて表面硬化反応を行
なわしめ、続いて50℃で48時間の熱硬化反応を行
なわしめる。 そして、最終的に約130mmの径に打ち抜いて磁
気デイスク等の磁気記録媒体を作製する。 実施例 ２ γ−Fe2O3100重量部、ポリエステル樹脂（東
洋紡績製のバイロン＃200）27重量部、ポリウレ
タンエラストマー（日本ポリウレタン工業(株)製の
N2304）３重量部、レシチン１重量部、カーボン
ブラツク５重量部、アルミナ粉末10重量部、オレ
イン酸４重量部、トルエンとメチルエチルケトン
の混合溶剤300重量部を、サンドミルで約20時間
混合分散し、この磁性塗料を実施例１と同様な非
磁性支持体上に同様に塗布して乾燥する。 次に、このようにして構成された磁性塗膜層上
に、実施例１と同様な紫外線硬化型の樹脂を含む
塗料を同様に塗布し、その後同様な表面平滑化処
理を行なう。 この表面平滑化処理の後、紫外線照射装置を用
いて紫外線照射処理を行ない表面硬化反応を行な
わしめる。 そして、最終的に実施例１と同様にして磁気記
録媒体を作製する。 実施例 ３ 実施例１において作製した磁性塗膜層上に、ジ
メチルアミノメタクリレート10重量部、ポリウレ
タンアクリレート（分子量約5000）５重量部、ト
リメチロールプロパントリアクリレート７重量
部、トリラウリルホスフエート５重量部、トルエ
ン100重量部からなる塗料を約0.2μｍ厚塗布し、
そして実施例１と同様な表面平滑化処理を行な
う。 この表面平滑化処理の後、電子線照射装置を用
いて10Mradの電子線照射処理を行なつて表面硬
化反応を行なわしめ、続いて実施例１と同様な熱
処理を行なつて熱硬化反応を行なわしめる。 そして、最終的に実施例１と同様にして磁気記
録媒体を作製する。 比較例 １ 実施例１において、紫外線硬化型の樹脂を用い
ないで同様に行ない、磁気記録媒体を作製する。 比較例 ２ 実施例２において、紫外線硬化型の樹脂を用い
ないで同様に行ない、磁気記録媒体を作製する。 比較例 ３ 実施例１において、紫外線硬化型の樹脂を含む
塗料を磁性塗膜層上に塗布する前に、磁性膜層の
表面平滑化処理を行ない、その後熱硬化反応を行
なわしめた後、紫外線硬化型の樹脂を含む塗料を
塗布し、そして同様な紫外線照射処理を行なつて
表面硬化反応を行なわしめ、そし最終的に実施例
１と同様にして磁気記録媒体を作製する。 比較例 ４ 実施例２において、紫外線硬化型の樹脂を含む
塗料を磁性塗膜層上に塗布する前に、磁性塗膜層
の表面平滑化処理を行ない、その後紫外線硬化型
の樹脂を含む塗料を塗布し、そして同様な紫外線
照射処理を行なつて表面硬化反応を行なわしめ、
そし最終的に実施例２と同様にして磁気記録媒体
を作製する。 比較例 ５ 実施例１において、紫外線硬化型の樹脂を含む
塗料の代りに、ポリビニルホルマール90重量部、
メラミン樹脂10重量部、イソプロピルアルコール
200重量部よりなる熱硬化型の樹脂の塗料を用い
て磁性塗膜層上に同様に塗布し、そして表面平滑
化処理及び50℃で48時間の熱硬化処理を行ない、
最終的に実施例１と同様にして磁気記録媒体を作
製する。 比較例 ６ Co含有γ−Fe2O3100重量部、塩化ビニル−酢
酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（米国U.
C.C.社製のVAGH）10重量部、ポリウレタンエ
ラストマー（日本ポリウレタン工業(株)製の
N2304）10重量部、レシチン１重量部、カーボン
ブラツク５重量部、アルミナ粉末５重量部、CH2
＝CHCOOC13H271重量部、及び溶剤300重量部を
サンドミルで約20時間混合分散し、そしてこれに
硬化剤としてポリイソシアネート（日本ポリウレ
タン工業(株)製のコロネートＬ）を５重量部加え、
この磁性塗料を実施例３と同様な非磁性支持体上
に同様に塗布し、乾燥後表面平滑化処理を同様に
行ない、そして実施例３と同様な電子線処理を行
ない、その後最終的に実施例３と同様にして磁気
記録媒体を作製する。 〔特性〕 上記各例で得た磁気記録媒体について、そのパ
ス回数（耐久性）、表面研磨によるスクラツチの
発生の有無、及び2F信号の出力を調べると、表
に示す通りである。
用テープ等の磁気テープ、又はフロツピーデイス
ク、ハードデイスク等の磁気デイスクといつた磁
気記録媒体の製造法に関するものである。 〔従来技術とその問題点〕 従来より、磁気記録媒体の耐摩耗性及び耐衝撃
性向上の為に、磁気記録媒体の磁性層表面に各種
の保護膜、例えば熱可塑性又は熱硬化性の樹脂
よりなる保護膜、磁性塗膜中に放射線重合性の
滑剤を含ませておき、放射線照射により硬化させ
てなる保護膜を構成することが提案されている。 これらのうち、例えば特開昭47−24804号公報
等に示されている上記の技術にあつては、磁性
塗膜層構成の為に用いたバインダが熱可塑性のも
のであるか又は熱硬化型のものであるかによつて
４通りの場合があるものの、保護膜が熱可塑性樹
脂よりなる場合には耐摩耗性が充分でない欠点が
あり、又、特に磁性塗膜層構成の為に用いたバイ
ンダが熱硬化性のものであつて、かつ保護膜が熱
可塑性のものである場合には、磁性塗料を塗布し
て構成した磁性塗膜層を硬化させた後に保護膜の
塗料を塗布といつた工程を経なければならないの
で、すなわち保護膜の塗料を塗布した後に硬化作
業を行なうとブロツキングが起きるので、それだ
け製造が面倒である欠点があり、又、保護膜が熱
硬化型樹脂よりなる場合には、保護膜の塗料を塗
布後熱硬化反応を行なわなければならないのでブ
ロツキングが生じてしまう欠点がある。 又、特開昭57−24028号公報等に示されている
上記の技術にあつては、塗膜強度の向上は充分
なものとは言えず、又、磁性層への転写を防ぐこ
とが出来ず、Ｃ／Ｎが低下するといつた欠点があ
る。 〔発明の開示〕 本発明者は、前記の問題点に対する研究を行な
つた結果、非磁性支持体上に磁性粉及びバインダ
を含む磁性塗料を塗布した後、この上に紫外線硬
化型樹脂又は電子線硬化型樹脂を含む塗料を塗布
し、その後表面平滑化処理を行なつた後紫外線照
射又は電子線照射して硬化処理することによつて
磁気記録媒体を製造すると、この場合にはブロツ
キングが起きないものとなり、又、表面平滑化処
理の前に磁性層上に紫外線硬化型樹脂又は電子線
硬化型樹脂を含む塗料を塗布するので、磁性層表
面の空隙あるいは凹部にこの塗料が入り込み、こ
の結果磁性層への紫外線硬化型樹脂又は電子線硬
化型樹脂の稠密性が高くなり、磁気記録媒体の耐
摩耗性及び耐衝撃性が向上し、又、再生出力の低
下は極めて小さく、又、磁性層と反対側面の転写
の問題が起きにくい磁気記録媒体が得られること
を見い出したのである。 尚、非磁性支持体としては、例えばポリエステ
ルフイルム、ポリイミドフイルム、ポリフエニレ
ンスルフイドフイルム等があり、又、磁性粉とし
ては、例えばγ−Fe2O3、Co含有γ−Fe2O3、
Fe3O4、Co含有γ−Fe3O4、CrO2、Fe、Fe−Co
−Ni、バリウムフエライト等があり、又、バイ
ンダとしては、例えばポリエステル樹脂、ポリウ
レタン樹脂、エポキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル−ビニルアルコール共重合体、硝化綿、ニト
リルゴム等がある。 又、紫外線又は電子線照射型樹脂としては、例
えばポリウレタンアクリレート、エポキシアクリ
レート、ポリエステルアクリレート、シリコーン
樹脂アクリレート、又はジメチルアミノメタクリ
レート等がある。 尚、非磁性支持体上に塗布される磁性塗料中に
は、上記磁性粉及びバインダの他に、通常分散
剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤等の添加剤が必
要に応じて所定量添加されており、又、磁性塗膜
上に塗布される紫外線硬化型樹脂又は電子線硬化
型樹脂を含む塗料中には、必要に応じて単官能ア
クリレートモノマ、二官能アクリレートモノマ、
多官能アクリレートモノマ等の反応性希釈剤、及
びベンジルジメチルケタール、ベンゾフエノン等
の重合開始剤が所定量添加されている。 又、非磁性支持体上に磁性塗料を塗布すること
によつて設けられる磁性塗膜層の厚みは従来から
の磁気記録媒体のものと同様に約１〜5μｍ厚あ
れば良く、又、この磁性塗膜層上に塗布すること
によつて設けられる紫外線硬化型樹脂又は電子線
硬化型樹脂の層は約0.5μｍ以下の厚みであること
が、より一層好ましくは約0.05〜0.2μｍの厚みで
あることが望ましい。 尚、磁性塗膜層構成の為に用いたバインダが熱
硬化性樹脂である場合には、紫外線照射又は電子
線照射の前に熱処理によつて熱硬化反応を行う
と、非磁性支持体上の磁性層と非磁性支持体の裏
面側とが、ロール状に巻回した場合に互いに接触
し、その状態で熱硬化炉に入れると、熱により磁
性層が軟化して接触する非磁性支持体の裏面側の
表面が転写またはブロツキングを起こすことがあ
り、従つて紫外線照射又は電子線照射の後に熱硬
化反応を行う方が望ましい。 実施例 １ Co含有γ−Fe2O3100重量部、塩化ビニル−酢
酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（米国U.
C.C.社のVAGH）10重量部、ポリウレタンエラ
ストマー（日本ポリウレタン工業(株)製のN2304）
10重量部、レシチン１重量部、カーボンブラツク
５重量部、アルミナ粉末５重量部、ステアリン酸
イソアミル１重量部、トルエンとメチルエチルケ
トンとメチルイソブチルケトンの等量混合溶剤
300重量部を、サンドミル約20時間混合分散し、
これに硬化剤としてポリイソシアネート（日本ポ
リウレタン工業(株)製のコロネートＬ）を５重量部
加え、このようにして得られた磁性塗料を約75μ
ｍ厚のポリエステルフイルムからなる非磁性支持
体上に約2.5μｍ厚塗布し、乾燥する。 次に、このようにして構成された磁性塗膜層上
に、下記の構造式 で表わされるポリエステルアクリレート70重量
部、トリメチロールプロパントリアクリレート20
重量部、ヒドロキシエチルアクリレート５重量
部、ベンゾフエノン３重量部、ジメチルアミノエ
タノール２重量部からなる塗料を約0.2μｍ厚塗布
し、そしてその後スチールロール又はプラスチツ
クロール等のカレンダーによつて表面平滑化処理
を行なう。 この表面平滑化処理の後、紫外線照射装置を用
いて紫外線照射処理を行なつて表面硬化反応を行
なわしめ、続いて50℃で48時間の熱硬化反応を行
なわしめる。 そして、最終的に約130mmの径に打ち抜いて磁
気デイスク等の磁気記録媒体を作製する。 実施例 ２ γ−Fe2O3100重量部、ポリエステル樹脂（東
洋紡績製のバイロン＃200）27重量部、ポリウレ
タンエラストマー（日本ポリウレタン工業(株)製の
N2304）３重量部、レシチン１重量部、カーボン
ブラツク５重量部、アルミナ粉末10重量部、オレ
イン酸４重量部、トルエンとメチルエチルケトン
の混合溶剤300重量部を、サンドミルで約20時間
混合分散し、この磁性塗料を実施例１と同様な非
磁性支持体上に同様に塗布して乾燥する。 次に、このようにして構成された磁性塗膜層上
に、実施例１と同様な紫外線硬化型の樹脂を含む
塗料を同様に塗布し、その後同様な表面平滑化処
理を行なう。 この表面平滑化処理の後、紫外線照射装置を用
いて紫外線照射処理を行ない表面硬化反応を行な
わしめる。 そして、最終的に実施例１と同様にして磁気記
録媒体を作製する。 実施例 ３ 実施例１において作製した磁性塗膜層上に、ジ
メチルアミノメタクリレート10重量部、ポリウレ
タンアクリレート（分子量約5000）５重量部、ト
リメチロールプロパントリアクリレート７重量
部、トリラウリルホスフエート５重量部、トルエ
ン100重量部からなる塗料を約0.2μｍ厚塗布し、
そして実施例１と同様な表面平滑化処理を行な
う。 この表面平滑化処理の後、電子線照射装置を用
いて10Mradの電子線照射処理を行なつて表面硬
化反応を行なわしめ、続いて実施例１と同様な熱
処理を行なつて熱硬化反応を行なわしめる。 そして、最終的に実施例１と同様にして磁気記
録媒体を作製する。 比較例 １ 実施例１において、紫外線硬化型の樹脂を用い
ないで同様に行ない、磁気記録媒体を作製する。 比較例 ２ 実施例２において、紫外線硬化型の樹脂を用い
ないで同様に行ない、磁気記録媒体を作製する。 比較例 ３ 実施例１において、紫外線硬化型の樹脂を含む
塗料を磁性塗膜層上に塗布する前に、磁性膜層の
表面平滑化処理を行ない、その後熱硬化反応を行
なわしめた後、紫外線硬化型の樹脂を含む塗料を
塗布し、そして同様な紫外線照射処理を行なつて
表面硬化反応を行なわしめ、そし最終的に実施例
１と同様にして磁気記録媒体を作製する。 比較例 ４ 実施例２において、紫外線硬化型の樹脂を含む
塗料を磁性塗膜層上に塗布する前に、磁性塗膜層
の表面平滑化処理を行ない、その後紫外線硬化型
の樹脂を含む塗料を塗布し、そして同様な紫外線
照射処理を行なつて表面硬化反応を行なわしめ、
そし最終的に実施例２と同様にして磁気記録媒体
を作製する。 比較例 ５ 実施例１において、紫外線硬化型の樹脂を含む
塗料の代りに、ポリビニルホルマール90重量部、
メラミン樹脂10重量部、イソプロピルアルコール
200重量部よりなる熱硬化型の樹脂の塗料を用い
て磁性塗膜層上に同様に塗布し、そして表面平滑
化処理及び50℃で48時間の熱硬化処理を行ない、
最終的に実施例１と同様にして磁気記録媒体を作
製する。 比較例 ６ Co含有γ−Fe2O3100重量部、塩化ビニル−酢
酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（米国U.
C.C.社製のVAGH）10重量部、ポリウレタンエ
ラストマー（日本ポリウレタン工業(株)製の
N2304）10重量部、レシチン１重量部、カーボン
ブラツク５重量部、アルミナ粉末５重量部、CH2
＝CHCOOC13H271重量部、及び溶剤300重量部を
サンドミルで約20時間混合分散し、そしてこれに
硬化剤としてポリイソシアネート（日本ポリウレ
タン工業(株)製のコロネートＬ）を５重量部加え、
この磁性塗料を実施例３と同様な非磁性支持体上
に同様に塗布し、乾燥後表面平滑化処理を同様に
行ない、そして実施例３と同様な電子線処理を行
ない、その後最終的に実施例３と同様にして磁気
記録媒体を作製する。 〔特性〕 上記各例で得た磁気記録媒体について、そのパ
ス回数（耐久性）、表面研磨によるスクラツチの
発生の有無、及び2F信号の出力を調べると、表
に示す通りである。
本発明に係る磁気記録媒体の製造法は、非磁性
支持体上に磁性粉及びバインダを含む磁性層を塗
設し、さらに前記磁性層上に紫外線硬化型樹脂又
は電子線硬化型樹脂を含む保護層を塗設してなる
磁気記録媒体の製造法であつて、前記保護層に紫
外線又はい子線を照射して硬化処理を行つた後
に、前記磁性層の熱硬化処理を行うので、得られ
る磁気記録媒体の磁性塗膜層表面には紫外線硬化
型樹脂又は電子線硬化型樹脂の保護膜が設けられ
ているから耐久性及び耐摩耗性に富んでおり、
又、表面平滑化処理の前に紫外線硬化型樹脂又は
電子線硬化型樹脂を含む塗料を磁性塗膜層上に塗
布するので、紫外線硬化型樹脂又は電子線硬化型
樹脂の保護膜層によるスペーシングロスで再生出
力が低下するといつたことはほとんどなく、又、
製造に際してブロツキングが起きることもない等
の特長を有する。
支持体上に磁性粉及びバインダを含む磁性層を塗
設し、さらに前記磁性層上に紫外線硬化型樹脂又
は電子線硬化型樹脂を含む保護層を塗設してなる
磁気記録媒体の製造法であつて、前記保護層に紫
外線又はい子線を照射して硬化処理を行つた後
に、前記磁性層の熱硬化処理を行うので、得られ
る磁気記録媒体の磁性塗膜層表面には紫外線硬化
型樹脂又は電子線硬化型樹脂の保護膜が設けられ
ているから耐久性及び耐摩耗性に富んでおり、
又、表面平滑化処理の前に紫外線硬化型樹脂又は
電子線硬化型樹脂を含む塗料を磁性塗膜層上に塗
布するので、紫外線硬化型樹脂又は電子線硬化型
樹脂の保護膜層によるスペーシングロスで再生出
力が低下するといつたことはほとんどなく、又、
製造に際してブロツキングが起きることもない等
の特長を有する。
Claims (1)
- １ 非磁性支持体上に磁性粉及びバインダを含む
磁性層を塗設し、さらに前記磁性層上に紫外線硬
化型樹脂又は電子線硬化型樹脂を含む保護層を塗
設してなる磁気記録媒体の製造法であつて、前記
保護層に紫外線又は電子線を照射して硬化処理を
行つた後に、前記磁性層の熱硬化処理を行うこと
を特徴とする磁気記録媒体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26951285A JPS62129939A (ja) | 1985-12-02 | 1985-12-02 | 磁気記録媒体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26951285A JPS62129939A (ja) | 1985-12-02 | 1985-12-02 | 磁気記録媒体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62129939A JPS62129939A (ja) | 1987-06-12 |
| JPH0332139B2 true JPH0332139B2 (ja) | 1991-05-10 |
Family
ID=17473443
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26951285A Granted JPS62129939A (ja) | 1985-12-02 | 1985-12-02 | 磁気記録媒体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62129939A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61110340A (ja) * | 1984-10-31 | 1986-05-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1985
- 1985-12-02 JP JP26951285A patent/JPS62129939A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62129939A (ja) | 1987-06-12 |
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