JPH0332220B2 - - Google Patents

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JPH0332220B2
JPH0332220B2 JP63270157A JP27015788A JPH0332220B2 JP H0332220 B2 JPH0332220 B2 JP H0332220B2 JP 63270157 A JP63270157 A JP 63270157A JP 27015788 A JP27015788 A JP 27015788A JP H0332220 B2 JPH0332220 B2 JP H0332220B2
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JP
Japan
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silicon wafer
suction
suction hand
distance
hand
Prior art date
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JP63270157A
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Kazuo Kimata
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  • Manipulator (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は、シリコンウエハーのボート(棚状に
シリコンウエハーを収納した収納部)や各種処理
装置のステージに載置されたシリコンウエハー
を、自動搬送装置の吸着ハンドにより吸着する際
の吸着方法に関する。
<従来の技術> シリコンウエハーに各種の処理を施したり、測
定器にかけてその性能を測定する場合、ボート内
に棚状に載置されたシリコンウエハーを、自動搬
送装置の吸着ハンドに吸着させ、処理装置等のス
テージまで搬送する搬送装置は、本発明者によ
り、特開昭62−93112号公報等において、すでに
提案されている。
IC等に使用されるシリコンウエハーは、非常
に歪みや傷や塵を嫌い、また歪みや傷が付きやす
いため、収納する際や、自動搬送装置を使用して
のシリコンウエハーの搬送には細心の注意を必要
とする。
<発明が解決しようとする課題> このために、シリコンウエハーは、例えばボー
ト内において、表面に塵が載らないように裏面を
上にし、且つその端部を2〜3箇所で支持した状
態で水平に載置され、シリコンウエハーをハンド
リングする場合、その表面に触れないようにする
ために、上面となる裏面に吸着ハンドを吸着さ
せ、シリコンウエハーに衝撃がかからないよう
に、その吸着時の吸引力も必要最小限にしてい
る。
しかし、自動搬送装置の吸着ハンドによりシリ
コンウエハーを吸着する場合、理想的には吸着ハ
ンドをシリコンウエハーの僅か真上(例えば表面
から0.1mm上)で停止させ、この状態で吸着動作
を開始してシリコンウエハーを軽い吸引で吸着ハ
ンドの下面に吸着させることがベストであるが、
ボートやステージに載置されているシリコンウエ
ハーの位置にバラツキや大きな誤差があつたり、
シリコンウエハーが何らかの理由で少しでも傾斜
して載置されていた場合には、吸着ハンドでシリ
コンウエハーを押して傷付けてしまつたり、吸着
できなくなる恐れがあつた。
<課題を解決するための手段> 本発明は、上記の課題を解決するためになされ
たもので、ボート等に水平に載置されたシリコン
ウエハーを、自動搬送装置の吸着ハンドにより、
押し付けて傷付けたりせず、確実に吸着すること
ができるシリコンウエハーの吸着方法を提供する
ことを目的とする。
このために、本発明の吸着方法は、下面に吸着
孔を持つ吸着ハンドとその吸着状態を検出するセ
ンサと吸着ハンドを昇降させる昇降機構を備えた
自動搬送装置が、水平に載置されたシリコンウエ
ハーを、吸着ハンドによつて吸着する吸着方法に
おいて、シリコンウエハーの真上に基準位置を設
定し、シリコンウエハーの載置位置が誤差として
最も高い位置にずれた場合の基準位置からその真
下のシリコンウエハーまでの距離を一定の下降距
離hと設定し、第一工程として吸着ハンドを基準
位置に位置させ、第二工程として吸着動作を開始
しながら下降距離hだけ吸着ハンドを水平に下降
させ、第三工程として吸着ハンドを再び基準位置
まで上昇させ、このとき、吸着ハンドがシリコン
ウエハーを吸着しいるか否かを検出し、第四工程
としての吸着ハンドがシリコンウエハーを吸着し
ていないことが検出された場合、前記下降距離h
に微小距離aを加えた距離を新たな下降距離hと
し、再び上記第一から第三工程を行い、吸着ハン
ドがシリコンウエハーを吸着できない場合、上記
の第一から第四工程を複数回繰り返すように構成
される。
<作用> このようなシリコンウエハーの吸着方法では、
基準位置からシリコンウエハーまでの下降距離h
を、予めシリコンウエハーの載置位置の誤差が最
高位置の場合つまり、シリコンウエハーが最も高
い位置にズレて載置された場合の距離となるよう
に設定しているため、吸着ハンドを第1回目に基
準位置から下降距離hだけ下降させた際、シリコ
ンウエハーの位置が上にズレていても、吸着ハン
ドがシリコンウエハーを押し付けて傷付けるよう
なことは防止できる。そして、シリコンウエハー
が傾斜していたり、低い位置にズレていた場合、
吸着ハンドはシリコンウエハーを吸着するために
下降する毎に、微小距離(例えば0.1mm)ずつシ
リコンウエハーに近づくことになり、吸着ハンド
がシリコンウエハーを押し付けずに吸着可能な位
置まで確実に下降し、最小の吸引力によりシリコ
ンウエハーに衝撃等を与えないようにしてこれを
吸着し、搬送することができる。
<実施例> 以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明す
る。
第1図はシリコンウエハーを搬送するための吸
着ハンドを備えた自動搬送装置を示している。こ
の図により搬送装置の概略構造を説明すると、本
体1の上部に水平移動部2が上昇、旋回可能に配
設され、水平移動部2内にはキヤリツジ3がその
上部を上に突出した状態で水平移動可能に配設さ
れる。そして、キヤリツジ3には吸着ハンド5が
回転軸4を介して水平方向に取着される。
水平移動部2は、本体1内に昇降可能に配設さ
れた昇降板7上に立設された円筒6の先端に取着
され、昇降板7は本体1内に回転可能に立設され
たボールねじ8に螺合し、ボールねじ8はステツ
プモータ9により回転駆動され、このステツプモ
ータ9の駆動により水平移動部2つまりキヤリツ
ジ3の吸着ハンド5が昇降動作する。また、本体
1内には、図示は省略されているが、円筒6を回
転駆動するためのモータが配設され、キヤリツジ
3を走行させるモータが昇降板7に取付けられ
る。
水平移動部2内には両端と中央にプーリが配設
され、これらのプーリ間に駆動用のワイヤがかけ
られ、ワイヤの一部がキヤリツジ3に連結され、
中央のプーリが円筒6内を通る回転軸に軸着さ
れ、このプーリが本体1内のモータにより回転駆
動されることにより、キヤリツジ3は水平移動部
2上を移動する。また、キヤリツジ3内には、吸
着ハンド反転用のモータが回転軸4を回転駆動す
るように配設され、このモータにより吸着ハンド
5は反転される。
第3図、第4図の示すように、吸着ハンド5内
には空気通路10が設けられ、この空気通路の開
口部として吸着孔11が吸着ハンド5の下面に設
けられ、空気通路の末端が図示しない真空ポンプ
等の吸気口に連通接続される。また、空気通路の
一部には吸気圧を検出するための圧力センサ12
が設置され、この圧力センサ12の検出圧力が一
定値以下になつたとき、吸着ハンド5がその下面
にシリコンウエハー15を吸着したことが検出さ
れる。なお、吸着孔11からの吸気をオンオフす
るために、空気通路10等に第2図の電磁バルブ
22が設置される。
上記構成の自動搬送装置は、CPU20を主要
部とする制御回路により制御され、その制御回路
の概略を示す第2図のように、吸着用の吸気圧を
検出する圧力センサ12の検出信号はCPU20
に送られ、CPU20から出力された吸着オンオ
フ用の駆動信号は駆動回路21を介して電磁バル
ブ22に送られ、吸着ハンド5を昇降させるため
の信号は駆動回路23に送られ、この駆動回路2
3により昇降用のステツプモータ9が回転駆動さ
れる。
一方、シリコンウエハー15はクリーンルーム
内のボート内に収納されるが、ボートは第3図、
第4図のように立設された3本の支持柱16に一
定の間隔で溝17を設けてなり、ウエハー15は
裏を上側にし、その縁部を溝17に係止するよう
に水平に載置されている。
次に、このような自動搬送装置を用いて行うシ
リコンウエハーの吸着方法を、第5図のフローチ
ヤートに基づき説明する。
ボート内に載置されたシリコンウエハーを取出
して搬送する場合、自動搬送装置は、先ず原位置
にある吸着ハンド5を、第3図のように、ボート
内における搬出しようとするシリコンウエハー1
5の真上の基準位置まで移動させる(ステツプ
100)。この基準位置は、その位置からシリコンウ
エハー15までの距離が、h(例えば2〜3mm)
となる位置に設定され、且つその距離hは、シリ
コンウエハーの載置位置の誤差が最高位置の場合
つまり、シリコンウエハーが最も高い位置にズレ
て載置された最高誤差の距離に予め設定される。
次に、ステツプ110で、電磁バルブ22が開か
れ、吸着ハンド5の吸着孔11から吸気が始まり
その吸着動作が開始される。そして、ステツプ
120で、昇降用のステツプモータ9を回転させて
水平移動部2を下降させることにより、吸着ハン
ド5を距離hだけ下降させ(第3図)、次にステ
ツプ130で、ステツプモータ9を逆回転させて吸
着ハンド5を距離hだけ、つまり基準位置まで上
昇させる。
このとき、シリコンウエハー15が適正状態で
溝17に載置されていれば、吸着ハンド5が下降
した際、シリコンウエハー15がその吸着孔11
に吸着され、吸着ハンド5はシリコンウエハー1
5をその下面に吸着した状態で基準位置まで上昇
する。
この吸着ハンド5の吸着状態はステツプ140で
判定され、圧力センサ12の検出信号が一定圧力
以下の場合、シリコンウエハー15を吸着したも
のとして、次にステツプ150に進む。
ステツプ150では、キヤリツジ3を移動させる
などして、予め決められた原位置に、シリコンウ
エハー15を吸着保持した吸着ハンド5を移動さ
せ、ステツプ160で、シリコンウエハー15の吸
着保持を確認した後、図示しない処理装置のステ
ージ等の位置までシリコンウエハーを搬送する。
一方、シリコンウエハー15に変形があり、或
は何らかの理由でシリコンウエハー15が傾斜し
て載置されていて、吸着ハンド5とシリコンウエ
ハー15間に予想以上の隙間が生じて、吸着に失
敗した場合、圧力センサ12によりこれが検出さ
れ、ステツプ140からステツプ170に進む。ステツ
プ170では、距離hに一定の微小距離a(例えば
0.1mm)が加算されて新たな距離hが設定される。
そして、再びステツプ120に戻り、吸着ハンド
5が新たな距離hだけ基準位置から下降され、ス
テツプ130で、吸着ハンド5を再び基準位置の距
離hだけ上昇させる。そして、ステツプ140で、
再び吸着ハンド5がシリコンウエハー15を吸着
したか否かを判定し、吸着した場合には、上記と
同様にステツプ150に進み、吸着ハンド5を原位
置に移動させ、なお吸着しない場合、もう一度ス
テツプ170で距離hに微小距離aを加算し、ステ
ツプ120からステツプ140までの動作を繰り返す。
このように、ステツプ120〜ステツプ140とステ
ツプ170が繰り返えされることにより、吸着ハン
ド5が基準位置から下降する距離hが微小距離
0.1mmずつ増し、シリコンウエハー15に変形や
姿勢不良があつて直ちに吸着ができない場合であ
れば、このような動作により、吸着ハンド5はシ
リコンウエハー15を押し付けずに安全に吸着す
ることができる。
一方、吸着できない場合、このような動作を三
回まで繰り返した後、ステツプ180からステツプ
190に進み、電磁バルブ22を閉鎖して吸着孔1
1からの吸着動作を停止し、ステツプ200で、吸
着ハンド5を原位置に戻し、ステツプ210でボー
トにおけるその棚位置に、シリコンウエハーが載
置されていないと認識する。そして、次のシリコ
ンウエハーの基準位置に吸着ハンド5を移動し、
その吸着処理に移行する。
尚、上記の距離hや微小距離aは任意の値に設
定でき、また、吸着に失敗した際に繰り返し回数
も任意の回数に設定できる。さらに、上記のよう
な吸着方法は処理装置等のステージ上に載置され
たシリコンウエハーを吸着する際にも使用するこ
とができる。
<発明の効果> 以上説明したように、本発明のシリコンウエハ
ーの吸着方法によれば、下面に吸着孔を持つ吸着
ハンドとその吸着状態を検出するセンサと吸着ハ
ンドを昇降させる昇降機構を備えた自動搬送装置
が、水平に載置されたシリコンウエハーを、吸着
ハンドによつて吸着する吸着方法において、シリ
コンウエハーの真上に基準位置を設定し、シリコ
ンウエハーの載置位置が誤差として最も高い位置
にずれた場合の基準位置からその真下のシリコン
ウエハーまでの距離を一定の下降距離hとして設
定し、第一工程として吸着ハンドを基準位置に位
置させ、第二工程として吸着動作を開始しながら
下降距離hだけ吸着ハンドを水平に下降させ、第
三工程として吸着ハンドを再び基準位置まで上昇
させ、このとき、吸着ハンドがシリコンウエハー
を吸着しているか否かを検出し、第四工程として
吸着ハンドがシリコンウエハーを吸着していない
ことが検出されたとき、前記下降距離hに微小距
離aを加えた距離を新たな下降距離hとし、再び
上記第一から第三工程を行い、吸着ハンドがシリ
コンウエハーを吸着できない場合、上記の第一か
ら第四工程を複数回繰り返すように構成した。
従つて、基準位置からシリコンウエハーまでの
下降距離hを、予めシリコンウエハーの載置位置
の誤差が最高位置の場合、つまり、シリコンウエ
ハーが最も高い位置にズレて載置された場合の距
離となるように設定しているため、吸着ハンドを
第1回目に基準位置から下降距離hだけ下降させ
た際、シリコンウエハーの位置が上にズレていて
も、吸着ハンドがシリコンウエハーを押し付けて
傷付けるようなことは防止できる。また、シリコ
ンウエハーが傾斜していたり、低い位置にズレて
いた場合、吸着ハンドはシリコンウエハーを吸着
するために下降する毎に、微小距離ずつシリコン
ウエハーに近づくことになり、吸着ハンドがシリ
コンウエハーを押し付けずに吸着可能な位置まで
確実に下降し、最小の吸引力によりシリコンウエ
ハーに衝撃等を与えないようにしてこれを吸着
し、搬送することができる。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の一実施例を示し、第1図は自動搬
送装置の正面図、第2図は制御系のブロツク図、
第3図は吸着ハンドの吸着状態を示す正面図、第
4図はその平面図、第5図はシリコンウエハーの
吸着処理のフローチヤートである。 5……吸着ハンド、12……圧力センサ、15
……シリコンウエハー。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 下面に吸着孔を持つ吸着ハンドとその吸着状
    態を検出するセンサと該吸着ハンドを昇降させる
    昇降機構を備えた自動搬送装置が、水平に載置さ
    れたシリコンウエハーを、該吸着ハンドによつて
    吸着する吸着方法において、 該シリコンウエハーの真上に基準位置を設定
    し、該シリコンウエハーの載置位置が誤差として
    最も高い位置にずれた場合の該基準位置からその
    真下のシリコンウエハーまでの距離を、一定の下
    降距離hとして設定し、 第一工程として前記吸着ハンドを基準位置に位
    置させ、 第二工程として吸着動作を開始しながら下降距
    離hだけ該吸着ハンドを水平に下降させ、 第三工程として該吸着ハンドを再び基準位置ま
    で上昇させ、このとき、該吸着ハンドがシリコン
    ウエハーを吸着しいるか否かを検出し、 第四工程として該吸着ハンドがシリコンウエハ
    ーを吸着していないことが検出されたとき、前記
    下降距離hに微小距離aを加えた距離を新たな下
    降距離hとし、再び上記第一から第三工程を行
    い、吸着ハンドがシリコンウエハーを吸着できな
    い場合、上記の第一から第四工程を複数回繰り返
    すことを特徴とするシリコンウエハーの吸着方
    法。
JP63270157A 1988-10-26 1988-10-26 シリコンウエハーの吸着方法 Granted JPH02116142A (ja)

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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5834106A (en) * 1992-05-26 1998-11-10 Nihon Cement Co., Ltd. Ceramic substrate and producing process thereof, and a suction carrier for wafers using a ceramic wafer-chucking substrate
JP4737392B2 (ja) * 2005-06-06 2011-07-27 株式会社ニコン 基板検査装置
JP2009078316A (ja) * 2007-09-25 2009-04-16 Tosoh Corp 吸着ヘッドの駆動方法
JP5381865B2 (ja) * 2010-03-30 2014-01-08 富士電機株式会社 ウェハ搬送装置およびウェハ搬送方法
JP2016154168A (ja) * 2015-02-20 2016-08-25 株式会社ディスコ 被加工物の受け渡し方法
JP7265842B2 (ja) * 2018-06-15 2023-04-27 株式会社北川鉄工所 エンドエフェクタ及びワーク加工方法
DE102021113345A1 (de) * 2021-05-21 2022-11-24 LST-Automation GmbH Verfahren zum Betreiben einer Greifvorrichtung zur Vereinzelung von Wäschestücken aus einem Wäschehaufen
JP2024014518A (ja) * 2022-07-22 2024-02-01 キヤノン株式会社 搬送装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011014582A (ja) * 2009-06-30 2011-01-20 Tesetsuku:Kk 電子部品用搬送装置

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