JPH0581177B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0581177B2 JPH0581177B2 JP62145498A JP14549887A JPH0581177B2 JP H0581177 B2 JPH0581177 B2 JP H0581177B2 JP 62145498 A JP62145498 A JP 62145498A JP 14549887 A JP14549887 A JP 14549887A JP H0581177 B2 JPH0581177 B2 JP H0581177B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- cassette
- wafers
- wafer support
- wafer cassette
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は半導体ウエハ（以下ウエハという）
のCVD処理工程やエツチング処理工程、あるい
は検査工程等に用いられるウエハ搬送装置の構成
に関する。
のCVD処理工程やエツチング処理工程、あるい
は検査工程等に用いられるウエハ搬送装置の構成
に関する。
従来より、半導体製造装置に組み込まれウエハ
の搬送を行うウエハ搬送装置の一つに第７図に示
すものがある。以下、図面をもとにその構成およ
び作用を説明する。
の搬送を行うウエハ搬送装置の一つに第７図に示
すものがある。以下、図面をもとにその構成およ
び作用を説明する。
第７図において、２はウヘハ収納溝２ａを有す
るウエハカセツトで、その内部には複数のウエハ
１が一枚づつ表面（プロセス処理側面）を上方に
向けて水平かつ等間隔に収納されている。また、
４は昇降スラージでその下部には昇降ネジ軸５と
ガイド軸６が取り付けられている。この昇降ネジ
軸５は昇降駆動用のモータM1によつて回転され
る歯車７と噛み合う歯車８のネジ切り部８ａに係
合し、歯車８とベアリング９を介してベース１０
に支持されており、ガイド軸６は、ベース１０の
嵌合部１０ａに嵌合するようにして支持されてい
る。したがつて、モータM1が駆動されると、ネ
ジの送り作用により、昇降ステージ４は上昇また
は下降する。なお、歯車８は、ウエハカセツト２
のウエハ収納溝２ａピツチに相当する分だけ昇降
ステージ４が昇降したときの歯車８の回転角に対
応するスリツトを切つた円板３９が取り付けられ
ており、このスリツトを光電センサー、あるいは
静電容量型センサー等のセンサー４０で検出し、
その信号をもとにモータM1を駆動、停止させる
ことによつて、昇降ステージ４がウエハカセツト
２のウエハ収納溝ピツチに相当する距離づつ昇降
するようになつている。
るウエハカセツトで、その内部には複数のウエハ
１が一枚づつ表面（プロセス処理側面）を上方に
向けて水平かつ等間隔に収納されている。また、
４は昇降スラージでその下部には昇降ネジ軸５と
ガイド軸６が取り付けられている。この昇降ネジ
軸５は昇降駆動用のモータM1によつて回転され
る歯車７と噛み合う歯車８のネジ切り部８ａに係
合し、歯車８とベアリング９を介してベース１０
に支持されており、ガイド軸６は、ベース１０の
嵌合部１０ａに嵌合するようにして支持されてい
る。したがつて、モータM1が駆動されると、ネ
ジの送り作用により、昇降ステージ４は上昇また
は下降する。なお、歯車８は、ウエハカセツト２
のウエハ収納溝２ａピツチに相当する分だけ昇降
ステージ４が昇降したときの歯車８の回転角に対
応するスリツトを切つた円板３９が取り付けられ
ており、このスリツトを光電センサー、あるいは
静電容量型センサー等のセンサー４０で検出し、
その信号をもとにモータM1を駆動、停止させる
ことによつて、昇降ステージ４がウエハカセツト
２のウエハ収納溝ピツチに相当する距離づつ昇降
するようになつている。
一方、４１はウエハ４１はウエハ１を支持する
ウエハ支持部である。このウエハ支持部４１には
真空吸着口４２とそれに連通する環状孔４３とが
設けられている。また、４４はウエハ支持部４１
を水平面内で移動させる移動手段で、ウエハ支持
部４１の下部に取り付けた方向変換用の回転アク
チユエータ４５と、一端に固着された歯車４７を
有し、回転アクチユエータ４５のネジ切り部４５
ａに係合する送りネジ軸４６と、歯車４７に噛み
合う歯車４８を回転させる前後駆動用のモータ
M2とから構成されている。このため、モータM2
が駆動されると、ウエハ支持部４１は前進または
後退する。
ウエハ支持部である。このウエハ支持部４１には
真空吸着口４２とそれに連通する環状孔４３とが
設けられている。また、４４はウエハ支持部４１
を水平面内で移動させる移動手段で、ウエハ支持
部４１の下部に取り付けた方向変換用の回転アク
チユエータ４５と、一端に固着された歯車４７を
有し、回転アクチユエータ４５のネジ切り部４５
ａに係合する送りネジ軸４６と、歯車４７に噛み
合う歯車４８を回転させる前後駆動用のモータ
M2とから構成されている。このため、モータM2
が駆動されると、ウエハ支持部４１は前進または
後退する。
上述の如く構成されたウエハ搬送装置によつ
て、次のようにウエハ１の搬送が行われる。すな
わち、まず、ウエハカセツト２の設置されている
昇降ステージ４が最も上昇した状態にセツトされ
る。このとき、ウエハ支持部４１上端の高さ位置
は、ウエハカセツト２に収納された最下部のウエ
ハ１の高さ位置より、ウエハ収納溝ピツチ分だけ
下に位置するように調整されている。次に、モー
タM2が駆動され、ウエハ支持部４１が送りネジ
軸４６に沿つて前進をはじめ、ウエハカセツト２
内に進入し、所定の位置で停止する。そして、モ
ータM1が駆動され、昇降ステージ４がウエハ収
納溝ピツチ分だけ下降して停止すると、ウエハ１
の裏面がウエハ支持部に当接する。ここで、ウエ
ハ１により寒がれた真空吸着口４２内の空気が環
状孔４３から真空ポンプ（図示せず）等で排気さ
れ、真空吸着口４２内が負圧になると、ウエハ１
は真空吸着口４２に吸着され、ウエハ支持部４１
に固定される。この状態で、モータM2が逆回転
駆動され、ウエハ支持部４１が後退をはじめ、所
定の位置で停止する。さらに、回転アクチユエー
タ４５が所定の角度だけ回転することにより、ウ
エハ１は次のステーシヨンへ搬送される。そこ
で、ウエハ１に化学的処理、あるいは物理的処理
等が施される。以上の動作の繰り返しによつて、
ウエハカセツト２内の複数のウエハ１を次のステ
ーシヨンへ搬送する。なお、ウエハカセツト２に
ウエハを収納する際には、上述の逆動作により、
ウエハカセツト２のウエハ収納溝の最上段から順
次ウエハ１を挿入していくようになつている。
て、次のようにウエハ１の搬送が行われる。すな
わち、まず、ウエハカセツト２の設置されている
昇降ステージ４が最も上昇した状態にセツトされ
る。このとき、ウエハ支持部４１上端の高さ位置
は、ウエハカセツト２に収納された最下部のウエ
ハ１の高さ位置より、ウエハ収納溝ピツチ分だけ
下に位置するように調整されている。次に、モー
タM2が駆動され、ウエハ支持部４１が送りネジ
軸４６に沿つて前進をはじめ、ウエハカセツト２
内に進入し、所定の位置で停止する。そして、モ
ータM1が駆動され、昇降ステージ４がウエハ収
納溝ピツチ分だけ下降して停止すると、ウエハ１
の裏面がウエハ支持部に当接する。ここで、ウエ
ハ１により寒がれた真空吸着口４２内の空気が環
状孔４３から真空ポンプ（図示せず）等で排気さ
れ、真空吸着口４２内が負圧になると、ウエハ１
は真空吸着口４２に吸着され、ウエハ支持部４１
に固定される。この状態で、モータM2が逆回転
駆動され、ウエハ支持部４１が後退をはじめ、所
定の位置で停止する。さらに、回転アクチユエー
タ４５が所定の角度だけ回転することにより、ウ
エハ１は次のステーシヨンへ搬送される。そこ
で、ウエハ１に化学的処理、あるいは物理的処理
等が施される。以上の動作の繰り返しによつて、
ウエハカセツト２内の複数のウエハ１を次のステ
ーシヨンへ搬送する。なお、ウエハカセツト２に
ウエハを収納する際には、上述の逆動作により、
ウエハカセツト２のウエハ収納溝の最上段から順
次ウエハ１を挿入していくようになつている。
しかしながら、上述のような従来のウエハ搬送
装置においては、ウエハ１表面（プロセス処理側
面）のプロセス処理部がウエハ支持部４１に当接
し汚損されることのないように、表面を上方に向
けるようにしてウエハ１を搬送していたが、搬送
中のごみ等の落下によりウエハ１表面のプロセス
処理部が汚損されることがあつた。また、昇降ス
テージ４の昇降が、歯車８に取り付けた円板３９
のスリツトをセンシングするセンサー４０からの
信号をもとにして行われるので、昇降ステージ４
は、常にウエハ収納溝ピツチ分だけ移動したとこ
ろで停止する。このため、ウエハカセツト２内の
ウエハ１が欠落している場合には空搬送が行われ
る。この事が、ロスタイムを発生させ、ワークロ
ストを上げる原因となつていた。
装置においては、ウエハ１表面（プロセス処理側
面）のプロセス処理部がウエハ支持部４１に当接
し汚損されることのないように、表面を上方に向
けるようにしてウエハ１を搬送していたが、搬送
中のごみ等の落下によりウエハ１表面のプロセス
処理部が汚損されることがあつた。また、昇降ス
テージ４の昇降が、歯車８に取り付けた円板３９
のスリツトをセンシングするセンサー４０からの
信号をもとにして行われるので、昇降ステージ４
は、常にウエハ収納溝ピツチ分だけ移動したとこ
ろで停止する。このため、ウエハカセツト２内の
ウエハ１が欠落している場合には空搬送が行われ
る。この事が、ロスタイムを発生させ、ワークロ
ストを上げる原因となつていた。
この発明は上述の問題点に鑑みなされたもの
で、表面を下方に向けた状態でウエハ支持し、プ
ロセス処理部を欠損することなくウエハを次のス
テーシヨンへ搬送することが可能で、かつ、空搬
送のおそれのないウエハ搬送装置を提供すること
を目的とする。
で、表面を下方に向けた状態でウエハ支持し、プ
ロセス処理部を欠損することなくウエハを次のス
テーシヨンへ搬送することが可能で、かつ、空搬
送のおそれのないウエハ搬送装置を提供すること
を目的とする。
上記の目的を達成するために、本発明によれ
ば、表面（プロセス処理面）を下方に向けた複数
のウエハを一枚ずつ水平に収納するウエハカセツ
トと；前記ウエハを固定する固定手段が設けられ
この固定手段にウエハの表面の外周部が当接する
ようにして前記ウエハを支持するウエハ支持部
と、このウエハ支持部を水平面内で移動させ、ウ
エハ支持部をウエハカセツト内に進入・離脱させ
る移動手段からなるウエハハンドラと；前記ウエ
ハカセツトを昇降させる昇降手段と；前記ウエハ
カセツト内の搬送すべきウエハの位置を検出し、
前記移動手段にウエハ支持部をウエハカセツト内
に進入させる駆動信号を送出する第１の検出手段
と；前記ウエハが前記ウエハ支持部の固定手段に
支持されていることを検知し、前記昇降手段の昇
降を停止させ前記移動手段にウエハ支持部をウエ
ハカセツトから離脱させる駆動信号を送出する第
２の検出手段と；を備えたウエハ搬送装置であつ
て、前記固定手段は、内側に下降傾斜する案内面
と前記ウエハの外周に整合する底面とを有する第
１の凹部と、前記底面と前記ウエハのプロセス処
理部とが当接することを防止する第２の凹部とか
らなるものとする。
ば、表面（プロセス処理面）を下方に向けた複数
のウエハを一枚ずつ水平に収納するウエハカセツ
トと；前記ウエハを固定する固定手段が設けられ
この固定手段にウエハの表面の外周部が当接する
ようにして前記ウエハを支持するウエハ支持部
と、このウエハ支持部を水平面内で移動させ、ウ
エハ支持部をウエハカセツト内に進入・離脱させ
る移動手段からなるウエハハンドラと；前記ウエ
ハカセツトを昇降させる昇降手段と；前記ウエハ
カセツト内の搬送すべきウエハの位置を検出し、
前記移動手段にウエハ支持部をウエハカセツト内
に進入させる駆動信号を送出する第１の検出手段
と；前記ウエハが前記ウエハ支持部の固定手段に
支持されていることを検知し、前記昇降手段の昇
降を停止させ前記移動手段にウエハ支持部をウエ
ハカセツトから離脱させる駆動信号を送出する第
２の検出手段と；を備えたウエハ搬送装置であつ
て、前記固定手段は、内側に下降傾斜する案内面
と前記ウエハの外周に整合する底面とを有する第
１の凹部と、前記底面と前記ウエハのプロセス処
理部とが当接することを防止する第２の凹部とか
らなるものとする。
上述の如く構成された本発明によるウエハ搬送
装置においては、複数のウエハが表面（プロセス
処理側面）を下方に向けるようにして、一枚づつ
水平にウエハカセツト収納されており、第１の検
出手段がウエハカセツト内の搬送すべきウエハの
位置を検出すると、ウエハカセツトとウエハハン
ドラとの間でのウエハの受け渡し位置が設定され
る。それにもとづいてウエハハンドラの移動手段
が作動し、ウエハ支持部に設けられた固定手段が
ウエハカセツト内の搬送すべきウエハの真下に移
動される。次に、ウエハカセツトを昇降させる昇
降手段が作動し、ウエハと固定手段とが当接する
と、ウエハは表面を下方に向けた状態で固定され
る。同時に、ウエハがウエハ支持部の固定手段に
固定されたことを第２の検知手段が検知すると、
昇降手段が停止する。ウエハ支持部に設けられた
固定手段は、ウエハの表面の外周部に当接するよ
うにしてウエハを固定するものであるから、ウエ
ハの表面のプロセス処理部が汚損されることはな
い。そして、ウエハ支持部の固定手段に固定され
たウエハは、表面を下方に向けたままの状態で、
移動手段により次のステーシヨンに搬送される。
装置においては、複数のウエハが表面（プロセス
処理側面）を下方に向けるようにして、一枚づつ
水平にウエハカセツト収納されており、第１の検
出手段がウエハカセツト内の搬送すべきウエハの
位置を検出すると、ウエハカセツトとウエハハン
ドラとの間でのウエハの受け渡し位置が設定され
る。それにもとづいてウエハハンドラの移動手段
が作動し、ウエハ支持部に設けられた固定手段が
ウエハカセツト内の搬送すべきウエハの真下に移
動される。次に、ウエハカセツトを昇降させる昇
降手段が作動し、ウエハと固定手段とが当接する
と、ウエハは表面を下方に向けた状態で固定され
る。同時に、ウエハがウエハ支持部の固定手段に
固定されたことを第２の検知手段が検知すると、
昇降手段が停止する。ウエハ支持部に設けられた
固定手段は、ウエハの表面の外周部に当接するよ
うにしてウエハを固定するものであるから、ウエ
ハの表面のプロセス処理部が汚損されることはな
い。そして、ウエハ支持部の固定手段に固定され
たウエハは、表面を下方に向けたままの状態で、
移動手段により次のステーシヨンに搬送される。
ウエハ支持部に設けられた固定手段は、第１の
凹部を有するので、ウエハが搬送中に落下するこ
とはない。またこの第１の凹部は、ウエハをその
外周のみで固定するだけでなく、下降傾斜する案
内面、即ちテーパ面を有しているので、ウエハの
センタリングが確実になされ、ウエハの位置ずれ
が防止される。
凹部を有するので、ウエハが搬送中に落下するこ
とはない。またこの第１の凹部は、ウエハをその
外周のみで固定するだけでなく、下降傾斜する案
内面、即ちテーパ面を有しているので、ウエハの
センタリングが確実になされ、ウエハの位置ずれ
が防止される。
以下、本発明の実施例を図面にもとづいて説明
する。第１図は、本発明によるウエハ搬送装置の
構成図である。
する。第１図は、本発明によるウエハ搬送装置の
構成図である。
第１図において、２は表面（プロセス処理側
面）を下方に向けた複数のウエハ１を一枚づつ水
平に収納するウエハカセツトで、第２図（矢印方
向から見たウエハカセツト２の正面図）に示すよ
うに、その内部にはウエハ１を収納するためのウ
エハ収納溝２ａが等間隔に設けられている。
面）を下方に向けた複数のウエハ１を一枚づつ水
平に収納するウエハカセツトで、第２図（矢印方
向から見たウエハカセツト２の正面図）に示すよ
うに、その内部にはウエハ１を収納するためのウ
エハ収納溝２ａが等間隔に設けられている。
また、３は昇降手段で次のように構成されてい
る。すなわち、ウエハカセツト２が設置される昇
降ステージ４の下部に昇降ネジ軸５とガイド軸６
が取り付けられており、昇降ネジ軸５が昇降駆動
用のモータM1によつて回転される歯車７と噛み
合う歯車８のネジ切り部８ａに係合し、歯車８と
ベアリング９を介してベース１０に支持され、ガ
イド軸６がベース１０の嵌合部１０ａに嵌合する
ようにして支持されている。このため、モータ
M1が駆動されると、ネジの送り作用により、昇
降ステージ４が上昇または下降する。
る。すなわち、ウエハカセツト２が設置される昇
降ステージ４の下部に昇降ネジ軸５とガイド軸６
が取り付けられており、昇降ネジ軸５が昇降駆動
用のモータM1によつて回転される歯車７と噛み
合う歯車８のネジ切り部８ａに係合し、歯車８と
ベアリング９を介してベース１０に支持され、ガ
イド軸６がベース１０の嵌合部１０ａに嵌合する
ようにして支持されている。このため、モータ
M1が駆動されると、ネジの送り作用により、昇
降ステージ４が上昇または下降する。
１１は、ウエハカセツト２内の搬送すべきウエ
ハ１の位置を検出する第１の検出手段で、ベース
１０上に固定されたセンサー支え１２の上端に取
り付けられている。なお、第１の検出手段とし
て、例えば、光電センサーあるいは静電容量型セ
ンサーなどが用いられる。
ハ１の位置を検出する第１の検出手段で、ベース
１０上に固定されたセンサー支え１２の上端に取
り付けられている。なお、第１の検出手段とし
て、例えば、光電センサーあるいは静電容量型セ
ンサーなどが用いられる。
１３は、ウエハ支持部１４と移動手段２３とか
らなるウエハハンドラで、通常、真空容器３８内
に取り付けられている。
らなるウエハハンドラで、通常、真空容器３８内
に取り付けられている。
ウエハ支持部１４には、第３図に示すように、
内側に下降傾斜する案内面１６ａとウエハ１の外
周に整合する底面１６ｂを有するテーパ状の第１
の凹部１６と、前記底面１６と、前記底面１６ｂ
に円形加工を施すことによつて形成された第２の
凹部１７とからなる固定手段１５が設けられてい
る。これにより、ウエハカセツト２とウエハ支持
部１４との間でウエハ１の受け渡しをする際、ウ
エハ１は案内面１６ａに当接すると、案内面１６
ａに沿つて下方に滑り落ち、ウエハ１の外周に整
合する底面１６ｂに位置決めされる。底面１６ｂ
には第２の凹部１７が設けられているので、ウエ
ハ１は表面の外周部だけを支持されることにな
り、プロセス処理部が汚損されることはない。通
常、ウエハ１の各種処理工程では、ウエハ１に処
理を施す際、ウエハ１の位置合わせを必要とする
ので、この種のウエハ搬送装置においては、常に
ウエハ１をウエハ支持部１４の所定位置で固定す
るようにして搬送することが重要である。しか
し、ウエハカセツト２内のウエハ１は各々、前
後、左右に不揃いな状態で収納されているので、
上述のようにウエハをウエハ支持部１４に設けら
れた固定手段１５に位置決めし、固定する必要が
ある。なお、フラツト部１８は、ウエハカセツト
２から突出して収納されているウエハ１を押し込
み、ウエハ１を案内面１６ａに当接させるための
ものである。また、第１図および第３図中の２２
は、ウエハ１ウエハ支持部１４の固定手段１５に
支持されているか否かを検知するための第２の検
出手段で、例えば、光電センサーあるいは静電容
量型センサーなどである。
内側に下降傾斜する案内面１６ａとウエハ１の外
周に整合する底面１６ｂを有するテーパ状の第１
の凹部１６と、前記底面１６と、前記底面１６ｂ
に円形加工を施すことによつて形成された第２の
凹部１７とからなる固定手段１５が設けられてい
る。これにより、ウエハカセツト２とウエハ支持
部１４との間でウエハ１の受け渡しをする際、ウ
エハ１は案内面１６ａに当接すると、案内面１６
ａに沿つて下方に滑り落ち、ウエハ１の外周に整
合する底面１６ｂに位置決めされる。底面１６ｂ
には第２の凹部１７が設けられているので、ウエ
ハ１は表面の外周部だけを支持されることにな
り、プロセス処理部が汚損されることはない。通
常、ウエハ１の各種処理工程では、ウエハ１に処
理を施す際、ウエハ１の位置合わせを必要とする
ので、この種のウエハ搬送装置においては、常に
ウエハ１をウエハ支持部１４の所定位置で固定す
るようにして搬送することが重要である。しか
し、ウエハカセツト２内のウエハ１は各々、前
後、左右に不揃いな状態で収納されているので、
上述のようにウエハをウエハ支持部１４に設けら
れた固定手段１５に位置決めし、固定する必要が
ある。なお、フラツト部１８は、ウエハカセツト
２から突出して収納されているウエハ１を押し込
み、ウエハ１を案内面１６ａに当接させるための
ものである。また、第１図および第３図中の２２
は、ウエハ１ウエハ支持部１４の固定手段１５に
支持されているか否かを検知するための第２の検
出手段で、例えば、光電センサーあるいは静電容
量型センサーなどである。
一方、移動手段２３は、一般にメカニカルパン
タグラフ機構と呼ばれるもので、以下、第４図お
よび第５図にもとづいて、その構成および動作を
詳細に説明する。第４図において、２４は、伸縮
駆動用のモータM2により回転される回転軸で、
プーリー２５と歯車２６が固着されている。この
回転軸２４の中央部はベアリングを介して本体２
７に支持され、上端部はベアリングを介して第１
のアーム２８の一端に連結されている。２９は歯
車３１が固着された連結軸３２と、プーリー３３
が固着された連結軸３４を有する第２のアーム
で、連結軸３２はウエハ支持部１４に、連結軸３
４は第１のアーム２８に、それぞれベアリングを
介して連結されている。また、３５はプーリー２
５の駆動力をプーリー３３に伝達するためのタイ
ミングベルトである。なお、第１のアーム２８と
第２のアーム２９とからなるアーム部３０は対を
なすようにして設けられており、一対の歯車３１
と３１および一対の歯車２６と２６が互いに噛み
合うように配置されているので、モータM2が駆
動されると、アーム部３０は、第５図ａ〜ｃに示
すような伸縮動を行う。すなわち、第５ａ図はア
ーム部３０を完全に伸ばした状態、第５ｂ図はア
ーム部３０が縮んでいく状態、第５ｃ図はアーム
部３０が完全に縮んだ状態を示すものである。さ
らに、本体２７がベアリングを介して真空容器３
８に固定されたサポート３６に支持され、本体２
７の最下部に形成された歯車２７ａが旋回駆動用
のモータM3により回転される歯車３７と噛み合
つているのでモータM3を駆動させることにより、
本体２７が回転し、アーム部３０は旋回を行う。
したがつて、モータM2およびモータM3の駆動を
制御すれば、ウエハ支持部１４を一定範囲の水平
面内で移動させることが可能である。なお、駆動
源となるモータとしては、パルスモータあるいは
インダクシヨンモータ等が用いられる。
タグラフ機構と呼ばれるもので、以下、第４図お
よび第５図にもとづいて、その構成および動作を
詳細に説明する。第４図において、２４は、伸縮
駆動用のモータM2により回転される回転軸で、
プーリー２５と歯車２６が固着されている。この
回転軸２４の中央部はベアリングを介して本体２
７に支持され、上端部はベアリングを介して第１
のアーム２８の一端に連結されている。２９は歯
車３１が固着された連結軸３２と、プーリー３３
が固着された連結軸３４を有する第２のアーム
で、連結軸３２はウエハ支持部１４に、連結軸３
４は第１のアーム２８に、それぞれベアリングを
介して連結されている。また、３５はプーリー２
５の駆動力をプーリー３３に伝達するためのタイ
ミングベルトである。なお、第１のアーム２８と
第２のアーム２９とからなるアーム部３０は対を
なすようにして設けられており、一対の歯車３１
と３１および一対の歯車２６と２６が互いに噛み
合うように配置されているので、モータM2が駆
動されると、アーム部３０は、第５図ａ〜ｃに示
すような伸縮動を行う。すなわち、第５ａ図はア
ーム部３０を完全に伸ばした状態、第５ｂ図はア
ーム部３０が縮んでいく状態、第５ｃ図はアーム
部３０が完全に縮んだ状態を示すものである。さ
らに、本体２７がベアリングを介して真空容器３
８に固定されたサポート３６に支持され、本体２
７の最下部に形成された歯車２７ａが旋回駆動用
のモータM3により回転される歯車３７と噛み合
つているのでモータM3を駆動させることにより、
本体２７が回転し、アーム部３０は旋回を行う。
したがつて、モータM2およびモータM3の駆動を
制御すれば、ウエハ支持部１４を一定範囲の水平
面内で移動させることが可能である。なお、駆動
源となるモータとしては、パルスモータあるいは
インダクシヨンモータ等が用いられる。
以上の如く構成された本発明からなるウエハ搬
送装置によつて、次のようにウエハが行われる。
ウエハ１の搬送にあたつては、まず、表面を下方
に向けた複数のウエハ１を収納しているウエハカ
セツト２を昇降ステージ４に設置するとともに、
アーム部３０を縮めた状態でウエハハンドラ１３
をウエハカセツト２に対向させておく。いま、第
１の検出手段１１が、ウエハカセツト２内に収納
されている最下部のウエハ１の位置を検出する
と、ウエハカセツト２とウエハハンドラ１３との
間でのウエハ１の受け渡し位置が設定され、ウエ
ハ支持部１４が搬送すべきウエハ１よりやや下方
に位置するように、ウエハカセツト２とウエハハ
ンドラ１３の高さ位置関係が調整される。ここ
で、移動手段２３の駆動源であるモータM2が駆
動され、アーム部３０が伸びることにより、ウエ
ハ支持部１４はウエハカセツト２内に進入する
が、搬送すべきウエハ１の下方の所定位置まで進
むと、モータM2が停止され、ウエハ支持部１４
の固定手段１５はその位置に位置決めされる。次
に、昇降手段３の駆動源であるモータM1が駆動
され、昇降ステージ４が下降することにより、ウ
エハ１はウエハ支持部１４の固定手段１５に当接
して固定される。同時に、この事を第２の検出手
段２２が検知して、モータM1を停止させる。こ
のようにして、ウエハ１がウエハ支持部１４の固
定手段１５に固定されると、モータM2が前記と
は逆方向に回転駆動され、アーム部３０が縮むこ
とにより、ウエハ支持部１４は後退するが、予め
設定された所定の位置まで後退するとモータM2
が停止され、ウエハ支持部１４はその位置で停止
する。続いて、モータM3が駆動され、アーム部
３０が旋回することにより、ウエハ支持部１４は
次のステーシヨンに向かい旋回をはじめ、ウエハ
支持部１４がウエハ１を搬出すべき方向に向く
と、モータM3が停止され、ウエハ支持部１４は
その位置で停止する。そして、再び、モータM2
が駆動され、アーム部３０が伸びることにより、
ウエハ支持部１４に支持されているウエハ１は次
のステーシヨンへ搬送される。この際、図示しな
い周知の昇降手段をウエハハンドラ１３に付設し
ておけば、ウエハ１は搬送された位置において上
昇し、真空容器３８中に配置された、例えば
CVD処理工程用のウエハ支持台に真空吸着等に
より固定される。ウエハ１の搬送が完了すると、
ウエハハンドラ１３はウエハカセツト２と対向す
る初期の状態にもどる。なお、この状態でウエハ
１取り出し用の制御信号が入ると、ウエハ搬送装
置は上述の動作を繰り返し、ウエハカセツト２内
のウエハ１は最下部のものから、順次、次のステ
ーシヨンへと搬送されていく。
送装置によつて、次のようにウエハが行われる。
ウエハ１の搬送にあたつては、まず、表面を下方
に向けた複数のウエハ１を収納しているウエハカ
セツト２を昇降ステージ４に設置するとともに、
アーム部３０を縮めた状態でウエハハンドラ１３
をウエハカセツト２に対向させておく。いま、第
１の検出手段１１が、ウエハカセツト２内に収納
されている最下部のウエハ１の位置を検出する
と、ウエハカセツト２とウエハハンドラ１３との
間でのウエハ１の受け渡し位置が設定され、ウエ
ハ支持部１４が搬送すべきウエハ１よりやや下方
に位置するように、ウエハカセツト２とウエハハ
ンドラ１３の高さ位置関係が調整される。ここ
で、移動手段２３の駆動源であるモータM2が駆
動され、アーム部３０が伸びることにより、ウエ
ハ支持部１４はウエハカセツト２内に進入する
が、搬送すべきウエハ１の下方の所定位置まで進
むと、モータM2が停止され、ウエハ支持部１４
の固定手段１５はその位置に位置決めされる。次
に、昇降手段３の駆動源であるモータM1が駆動
され、昇降ステージ４が下降することにより、ウ
エハ１はウエハ支持部１４の固定手段１５に当接
して固定される。同時に、この事を第２の検出手
段２２が検知して、モータM1を停止させる。こ
のようにして、ウエハ１がウエハ支持部１４の固
定手段１５に固定されると、モータM2が前記と
は逆方向に回転駆動され、アーム部３０が縮むこ
とにより、ウエハ支持部１４は後退するが、予め
設定された所定の位置まで後退するとモータM2
が停止され、ウエハ支持部１４はその位置で停止
する。続いて、モータM3が駆動され、アーム部
３０が旋回することにより、ウエハ支持部１４は
次のステーシヨンに向かい旋回をはじめ、ウエハ
支持部１４がウエハ１を搬出すべき方向に向く
と、モータM3が停止され、ウエハ支持部１４は
その位置で停止する。そして、再び、モータM2
が駆動され、アーム部３０が伸びることにより、
ウエハ支持部１４に支持されているウエハ１は次
のステーシヨンへ搬送される。この際、図示しな
い周知の昇降手段をウエハハンドラ１３に付設し
ておけば、ウエハ１は搬送された位置において上
昇し、真空容器３８中に配置された、例えば
CVD処理工程用のウエハ支持台に真空吸着等に
より固定される。ウエハ１の搬送が完了すると、
ウエハハンドラ１３はウエハカセツト２と対向す
る初期の状態にもどる。なお、この状態でウエハ
１取り出し用の制御信号が入ると、ウエハ搬送装
置は上述の動作を繰り返し、ウエハカセツト２内
のウエハ１は最下部のものから、順次、次のステ
ーシヨンへと搬送されていく。
次に、ウエハ１をウエハカセツト２へ搬送し収
納する場合の本装置の動作について説明する。ウ
エハ１の収納にあたつては、まず、ウエハカセツ
ト２に対向するウエハハンドラ１３のウエハ支持
部１４の固定手段１５にウエハ１を載置するとと
もに、ウエハ１がウエハカセツト２に設けられた
最上段のウエハ収納溝２ａの中心部に挿入される
ように、ウエハカセツト２とウエハハンドラ１３
との高さ位置関係を調整しておく。なお、このと
き、第２の検出手段２２は、ウエハ支持部１４の
固定手段１５に支持されているウエハ１を検知し
ている。いま、ウエハ１収納用の制御信号が入る
と、ウエハ支持部１４はウエハ１を最上段のウエ
ハ収納溝２ａに挿入しながらウエハカセツト２内
に進入し、所定の位置で停止する。次に、昇降ス
テージ４が上昇し、ウエハ収納溝２ａがウエハ支
持部１４の固定手段１５上のウエハ１を持ちあげ
る。そして、ウエハ１が固定手段１５から浮上
し、第２の検出手段２２がウエハ１を検知できな
くなると、昇降ステージ４が停止するとともに、
ウエハ支持部１４が後退をはじめる。ウエハ支持
部１４が初期の状態にもどると、再び、昇降ステ
ージ４は上昇をはじめるが、最上段のウエハ収納
溝２ａ挿入されたウエハ１、ウエハ支持部１４よ
りウエハ収納溝ピツチ分だけ上方に位置したこと
を第１の検出手段１１が検知した時点で停止す
る。このため、次にウエハカセツト２内に収納さ
れるウエハ１は、上から二段目のウエハ収納溝２
ａに挿入されることになる。上述の動作の繰り返
しにより、ウエハ１は最上段のウエハ収納溝２ａ
から、順次、挿入され、ウエハカセツト２に収納
される。
納する場合の本装置の動作について説明する。ウ
エハ１の収納にあたつては、まず、ウエハカセツ
ト２に対向するウエハハンドラ１３のウエハ支持
部１４の固定手段１５にウエハ１を載置するとと
もに、ウエハ１がウエハカセツト２に設けられた
最上段のウエハ収納溝２ａの中心部に挿入される
ように、ウエハカセツト２とウエハハンドラ１３
との高さ位置関係を調整しておく。なお、このと
き、第２の検出手段２２は、ウエハ支持部１４の
固定手段１５に支持されているウエハ１を検知し
ている。いま、ウエハ１収納用の制御信号が入る
と、ウエハ支持部１４はウエハ１を最上段のウエ
ハ収納溝２ａに挿入しながらウエハカセツト２内
に進入し、所定の位置で停止する。次に、昇降ス
テージ４が上昇し、ウエハ収納溝２ａがウエハ支
持部１４の固定手段１５上のウエハ１を持ちあげ
る。そして、ウエハ１が固定手段１５から浮上
し、第２の検出手段２２がウエハ１を検知できな
くなると、昇降ステージ４が停止するとともに、
ウエハ支持部１４が後退をはじめる。ウエハ支持
部１４が初期の状態にもどると、再び、昇降ステ
ージ４は上昇をはじめるが、最上段のウエハ収納
溝２ａ挿入されたウエハ１、ウエハ支持部１４よ
りウエハ収納溝ピツチ分だけ上方に位置したこと
を第１の検出手段１１が検知した時点で停止す
る。このため、次にウエハカセツト２内に収納さ
れるウエハ１は、上から二段目のウエハ収納溝２
ａに挿入されることになる。上述の動作の繰り返
しにより、ウエハ１は最上段のウエハ収納溝２ａ
から、順次、挿入され、ウエハカセツト２に収納
される。
さらに、本発明の他の実施例を第６図を用いて
説明する。第６図は、真空吸着機構１９を付加し
たウエハ支持部１４の固定手段１５を示すもので
ある。この真空吸着機構１９は、ウエハ１外周部
と当接する底面１６ｂに設けた真空吸着溝２０
と、それに連通する環状孔２１と、真空ポンプ
（図示せず）とから構成され、ウエハ１が底面１
６ｂに当接すると同時に真空ポンプの運転を開始
し、ウエハ１の外周部を吸着するようにして確実
にウエハ１を固定するものである。なお、このよ
うな真空吸着機構１９を備えた固定手段１５を用
いれば、ウエハ１の表面を下方に向けた状態で、
ウエハ１の裏面を吸着するようにして支持するこ
とも可能である。
説明する。第６図は、真空吸着機構１９を付加し
たウエハ支持部１４の固定手段１５を示すもので
ある。この真空吸着機構１９は、ウエハ１外周部
と当接する底面１６ｂに設けた真空吸着溝２０
と、それに連通する環状孔２１と、真空ポンプ
（図示せず）とから構成され、ウエハ１が底面１
６ｂに当接すると同時に真空ポンプの運転を開始
し、ウエハ１の外周部を吸着するようにして確実
にウエハ１を固定するものである。なお、このよ
うな真空吸着機構１９を備えた固定手段１５を用
いれば、ウエハ１の表面を下方に向けた状態で、
ウエハ１の裏面を吸着するようにして支持するこ
とも可能である。
以上説明した本発明によるウエハ搬送装置にお
いては、ウエハハンドラ１３とウエハカセツト２
との間でウエハ１の受け渡しを行う際、ウエハカ
セツト２を昇降させる昇降手段３を用いて、ウエ
ハ１の受け渡しを行うようにしているが、ウエハ
ハンドラ１３を昇降させる別の昇降手段を用い
て、ウエハ１の受け渡しを行うようにしても何ら
問題はない。
いては、ウエハハンドラ１３とウエハカセツト２
との間でウエハ１の受け渡しを行う際、ウエハカ
セツト２を昇降させる昇降手段３を用いて、ウエ
ハ１の受け渡しを行うようにしているが、ウエハ
ハンドラ１３を昇降させる別の昇降手段を用い
て、ウエハ１の受け渡しを行うようにしても何ら
問題はない。
本発明によれば、上記の構成を採用した結果、
搬送中のごみ等の落下のために、ウエハ１のプロ
セス処理部が汚損されるということが防止され
る。さらに、ウエハカセツト２とウエハハンドラ
１３との間でウエハ１の受け渡しを行う際に、第
１の検出手段１１で、直接ウエハ１の位置を検出
し、それをもとにしてウエハ１の受け渡し位置を
設定するようにしたので、ウエハカセツト２内の
ウエハ１が欠落している場合の空搬送が防止さ
れ、ワークコストの点でも改善が期待できる。
搬送中のごみ等の落下のために、ウエハ１のプロ
セス処理部が汚損されるということが防止され
る。さらに、ウエハカセツト２とウエハハンドラ
１３との間でウエハ１の受け渡しを行う際に、第
１の検出手段１１で、直接ウエハ１の位置を検出
し、それをもとにしてウエハ１の受け渡し位置を
設定するようにしたので、ウエハカセツト２内の
ウエハ１が欠落している場合の空搬送が防止さ
れ、ワークコストの点でも改善が期待できる。
さらに固定手段１５の第１の凹部により、ウエ
ハが搬送中に落下する可能性が皆無となる。また
この第１の凹部の下降傾斜する案内面により、ウ
エハ１は精度よくセンタリングされ、位置ずれを
生じることはない。
ハが搬送中に落下する可能性が皆無となる。また
この第１の凹部の下降傾斜する案内面により、ウ
エハ１は精度よくセンタリングされ、位置ずれを
生じることはない。
第１図ないし第５図は本発明の実施例を示す
もので、第１図はウエハ搬送装置の構成図、第２
図はウエハカセツトの正面図、第３図はウエハ支
持部の固定手段部分の側面図、第４図はウエハハ
ンドラの構成図、第５図はウエハハンドラの動作
態様図であり、第６図は本発明の他の実施例を示
すウエハ支持部の固定手段部分の側面図である。
また、第７図は従来のウエハ搬送装置の構成図で
ある。 １：ウエハ、２：ウエハカセツト、３：昇降手
段、１１：第１の検出手段、１３：ウエハハンド
ラ、１４：ウエハ支持部、１５：固定手段、２
２：第２の検出手段、２３：移動手段。
もので、第１図はウエハ搬送装置の構成図、第２
図はウエハカセツトの正面図、第３図はウエハ支
持部の固定手段部分の側面図、第４図はウエハハ
ンドラの構成図、第５図はウエハハンドラの動作
態様図であり、第６図は本発明の他の実施例を示
すウエハ支持部の固定手段部分の側面図である。
また、第７図は従来のウエハ搬送装置の構成図で
ある。 １：ウエハ、２：ウエハカセツト、３：昇降手
段、１１：第１の検出手段、１３：ウエハハンド
ラ、１４：ウエハ支持部、１５：固定手段、２
２：第２の検出手段、２３：移動手段。
Claims (1)
- １ 表面（プロセス処理面）を下方に向けた複数
のウエハを一枚ずつ水平に収納するウエハカセツ
トと；前記ウエハを固定する固定手段が設けられ
この固定手段にウエハの表面の外周部が当接する
ようにして前記ウエハを支持するウエハ支持部
と、このウエハ支持部を水平面内で移動させ、ウ
エハ支持部をウエハカセツト内に進入・離脱させ
る移動手段からなるウエハハンドラと；前記ウエ
ハカセツトを昇降させる昇降手段と；前記ウエハ
カセツト内の搬送すべきウエハの位置を検出し、
前記移動手段にウエハ支持部をウエハカセツト内
に進入させる駆動信号を送出する第１の検出手段
と；前記ウエハが前記ウエハ支持部の固定手段に
支持されていることを検知し、前記昇降手段の昇
降を停止させ前記移動手段にウエハ支持部をウエ
ハカセツトから離脱させる駆動信号を送出する第
２の検出手段と；を備えたウエハ搬送装置であつ
て、前記固定手段は、内側に下降傾斜する案内面
と前記ウエハの外周に整合する底面とを有する第
１の凹部と、前記底面と前記ウエハのプロセス処
理部とが当接することを防止する第２の凹部とか
らなることを特徴とするウエハ搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62145498A JPS63308928A (ja) | 1987-06-11 | 1987-06-11 | ウエハ搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62145498A JPS63308928A (ja) | 1987-06-11 | 1987-06-11 | ウエハ搬送装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63308928A JPS63308928A (ja) | 1988-12-16 |
| JPH0581177B2 true JPH0581177B2 (ja) | 1993-11-11 |
Family
ID=15386649
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62145498A Granted JPS63308928A (ja) | 1987-06-11 | 1987-06-11 | ウエハ搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63308928A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002217274A (ja) * | 2001-01-18 | 2002-08-02 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置の作製方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59175740A (ja) * | 1983-03-25 | 1984-10-04 | Telmec Co Ltd | ウエハ検出装置 |
| JPS59208837A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-27 | Nec Kyushu Ltd | プラズマエツチング装置 |
-
1987
- 1987-06-11 JP JP62145498A patent/JPS63308928A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63308928A (ja) | 1988-12-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN1123519C (zh) | 整体式装载口－输送机输送装置 | |
| KR100640105B1 (ko) | 무인운반차, 무인운반차시스템 및 웨이퍼운반방법 | |
| JP3208562B2 (ja) | 位置決め装置及び位置決め方法 | |
| JP4509411B2 (ja) | 搬出入装置 | |
| KR0165350B1 (ko) | 반도체웨이퍼 공급장치 | |
| JP5689096B2 (ja) | 基板搬送装置及び基板搬送方法並びに基板搬送用記憶媒体 | |
| KR100832772B1 (ko) | 반도체이송장비 | |
| CN1733578B (zh) | 工件输送收容装置和方法、以及具有该收容装置的切削装置 | |
| TW201707887A (zh) | 基板搬送機器人及基板檢測方法 | |
| CN105458912A (zh) | 加工装置 | |
| JPH03782B2 (ja) | ||
| JP2000294616A (ja) | 仮置台付位置合わせ機構及びポリッシング装置 | |
| JP2002270674A (ja) | 搬出装置 | |
| KR20230082037A (ko) | 산업용 로봇 | |
| JPH06211320A (ja) | ウエハ搬出搬入装置 | |
| JPH0727952B2 (ja) | ウエハ搬送装置 | |
| JP3607207B2 (ja) | 収納容器からの半導体ウエーハ取り出し方法と装置 | |
| JPS63308928A (ja) | ウエハ搬送装置 | |
| JP2657466B2 (ja) | 円盤状物体の取り扱い装置 | |
| JP2001287141A (ja) | 研削装置 | |
| JP3323730B2 (ja) | ガラス基板搬出方法 | |
| CN112582317A (zh) | 半导体设备及晶圆盒搬运方法 | |
| JPH0881008A (ja) | ウエハ搬送装置 | |
| JP2020107658A (ja) | 電子部品搬送装置 | |
| CN100452343C (zh) | 托架支承装置 |