JPH0332538A - ユニバーサルチャックテーブル - Google Patents

ユニバーサルチャックテーブル

Info

Publication number
JPH0332538A
JPH0332538A JP16583689A JP16583689A JPH0332538A JP H0332538 A JPH0332538 A JP H0332538A JP 16583689 A JP16583689 A JP 16583689A JP 16583689 A JP16583689 A JP 16583689A JP H0332538 A JPH0332538 A JP H0332538A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
suction
partition
ring
shaped
suction area
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP16583689A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiyuki Mori
利之 森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
Priority to JP16583689A priority Critical patent/JPH0332538A/ja
Publication of JPH0332538A publication Critical patent/JPH0332538A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Jigs For Machine Tools (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野1 本発明は、サイズの異なる半導体ウェーハ等の被加工物
を選択的に載置し、該被加工物のサイズに夫々対応して
適切にバキューム手段により吸着保持させ、その表面を
例えば研磨加工(グラインダー)又は研削加工を行うた
めのユニバーサルチャックテーブルに関するものである
。
【従来技術】
この種のチャックテーブルとしては、例えば特開昭61
−182738号公報に開示された構成のものが従来例
として周知である。この従来例におけるチャック機構の
構成は、被加工物のサイズに対応したテーブル、即ちポ
ーラスセラミックが同心円状に複数段配設され、各ポー
ラスセラミックの隣設部に接着剤を介してリング状の仕
切り部が表面に存在する構成になっている。
【発明が解決しようとする課題】
前記従来例においては、特にサイズの大きい被加工物を
載置吸着させてクラインダー加工を施した場合、テーブ
ル上に各サイズに対応するリング状の仕切り部が接着剤
を介して表出した構成になっているため、被加工物をバ
キュームにより吸羽保持し、且つその表面を適宜のグラ
インダーにより所定の押圧力をもって研磨した際に、そ
の押圧力と前記バキューム吸着とにより、被加工物が強
力にテーブル面上に押し付けられることになり、それに
よって前記仕切り部とテーブル面、即ちポーラスセラミ
ックとの間における段差及び材質の相違により、研磨さ
れた被加工物の表面に前記仕切り部の形状、即ち同心円
状の模様が写し出される。このような現象を一般に「転
写」と称され、その転写された模様が目視できるばかり
でなく、模様部分の段差が数ミクロンに及ぶことがある
。 従って、この種のフリーサイズ又はユニバーサルテーブ
ルにおいて、前記「転写1の問題が解決しなければなら
ない課題になっている。
【課題を解決するための手段】
前記従来例における課題を解決する具体的手段として本
発明は、サイズの異なる被処理物に対応してリング状の
仕切り部で吸引領域が複数に区画され、その仕切り部と
吸引領域とが一体焼結体で形成されたことを特徴とする
ユニバーサルチャックテーブルを提供するものであり、
更に具体的には、リング状の仕切り部を有し且つ通気性
を有づ−る吸引領域の上面に、細かいメツシュの粉末で
形成した表層部を設けて一体焼結し、吸引領域を形成す
る本体部は、表層部と、裏層部と、リング状の仕切り部
とを順次細かいメツシュの粉末で形成して一体焼結した
ことにより、被処理物がU、置吸着される表面が、一体
平面となり、それによって、被処理物に転写現象が全く
生じなくなるのである。
【実施例】
次に本発明を図示の実施例により、更に詳しく説明する
と、1はチャックテーブル全体を示すものであり、該チ
ャックテーブルは円板状のフレーム部材2と、該フレー
ム部材に取付けて使用される吸引領域が区分され且つ表
層部3及び裏層部4からなる本体部40で構成されてい
る。 前記円板状のフレーム部材2は、その上面に所定深さの
円形状の凹部5が形成され、上面周縁部にリング状部2
aが形成される。前記凹部5の底部2bには、その中心
部に凹陥部6を設けると共に、該凹陥部を中心にして複
数のリング状の溝部7〜10が同心円状に形成され、前
記凹陥部6には一個の吸気孔11が設けられ、前記各溝
部には複数の吸気孔12〜15が夫々設けられている。 前記吸引領域が区分された本体部40は、前記フレーム
部材2の凹部5内に嵌り込む円板状を呈する一体焼結体
であり、全体として通気性を有する材料で形成される。 そして、被加工物のサイズに対応して吸引領域が区分さ
れるように、複数のリング状の仕切り部16〜19が同
心円状に設けられ、これ等仕切り部16〜19は、・前
記リング状の溝部7〜10間に対応するように設けられ
たものであり、例えば、仕切り部16が凹陥部6と溝部
7との間に位置し、仕切り部17が溝部7と溝部8との
間に位置するように、他の仕切り部18.19も順次こ
れに倣って形成されている。 この場合の本体部40は、表層部3及び裏層部4も含め
て全体として通気性を右するものであるが、前記仕切り
部16〜19はほとんど通気性を有しないようになって
いる。例えば、各仕切り部を金属又はセラミック等の無
機質材料で形成し、他の部分も同様に金属又はセラミッ
ク等の無機質材料を使用し全体を一体焼結体として形成
するのである。 この場合に、使用される無機質材料は、これに限定され
るものではないが、前記仕切り部16〜19が#600
メツシュの例えばグリーンカーボンランダム粉末を用い
、表層部3は略#100メツシュの同様の粉末を使用し
、他の本体部4は#36メツシユの同様の粉末のものを
用いて全体を円板状に形成し、それを焼結することによ
り一体焼結体、謂ゆる全体が通気性を有するポーラス材
として形成される。つまり、焼結する前に、前記仕切り
部16〜19と、表層部3と裏層部4を粘土状又は泥土
状の内に一体に形成し、その表面を平坦にして1個の円
盤状に形成し、それを500〜1200℃の高温で焼結
することにより、実質的に仕切り部16〜19と表層部
3との間に段差の全く無いものが形成できるのである。 そして、前記仕切り部16〜19が最も細かいメツシュ
の粉末で形成されているので、焼結させても通気性が大
巾に抑制された構成になり、吸着のための仕切り機能が
充分発揮されるのである。 又、前記仕切り部16〜19のリング状の径は、被処理
物のサイズに対応させである。即ち、仕切り部16は略
3インチにし、仕切り部17は略4インチ、仕切り部1
8は略5インチ、仕切り部19は略6インチにし、そし
て前記吸引領域の仕切り又は区分部材を含む本体部40
の全体の直径を略8インチにし、全体の厚みを略5mに
形成するのである。このように形成することで、被処理
物のサイズが3〜8インチ迄のものが適宜選択的に載置
吸着できるものである。 前記フレーム部材2における底部2bに設けられた吸気
孔11〜15には、第3図に示したように、サクション
バイブ等の吸気手段21〜25が連設されており、各吸
気手段は夫々バルブ26〜3◇を介して適宜の減圧手段
に接続されている。そして、前記バルブ26〜30を選
択的に開閉することで、被処理物のサイズに対応して吸
引領域が設定されるのである。つまり、バルブ26のみ
を開にし、他のバルブ27〜30を閉にすると、吸引領
域aの部分に吸着作用が生じ、これに対応する例えば3
インチのサイズの被処理物が吸着できる。この場合に、
吸引領14aはリング状の仕切り部16によって仕切ら
れており、凹陥部6を介して減圧された吸引作用がその
仕切り部1G内の範囲において、その上方にある裏層部
4に作用し、それによって本体部40における一定の領
域、即ち吸引領域aの部分に吸着作用が生ずるようにな
るのである。本体部40における吸引w4域aは、本体
部全体が通気性を有するため、その境界部分において多
少の拡がりを持つようになるが、その吸引にかかる範囲
は無視できるものである。 前記同様にして、例えば6インチのサイズの被処理物を
載置吸着させる場合には、バルブ26〜29を開にし、
バルブ30を閉にした状態で吸引作用させると、吸引領
域idの範囲が吸引作用を行うこεになるのである。従
って、バルブ26.27を開にした場合には吸引領域b
が吸引作用をして4インチの′lI処理物を吸着し、バ
ルブ26.27.28を開にすると吸引Fl lji 
Cが吸引作用をし5インチの被処理物を吸着し、全部の
バルブを間にすると吸引領域eが吸引作用をして8イン
チの被処理物を吸着するのであり、これ等を被処理物の
サイズによって適宜選択して切り替えれば良いのである
。この場合のバルブは、切り替えが簡単に行える電磁バ
ルブが好ましい。本発明において、吸引領域は表層部と
裏層部の2屑としたがこれに限定されるものではなく、
1層又は3層以上の多層としても良い。 又本体部を形成する材料としてグリーンカーボランダム
を使用したがアランダムその他のセラミックスを使用し
ても良いし、必要とあればアルミニウム等の金属を使用
しても良い。更に、仕切り部を通気性のないように形成
しても良い。 [発明の効果1 以上説明したように本発明に係るユニバーサルチャック
テーブルは、サイズの異なる被処理物に対応してリング
状の仕切り部で吸引領域が複数に区画され、その仕切り
部と吸引領域とが一体焼結体で形成された構成にしたこ
とにより、前記仕切り部が表面に露出していてもその表
面は一体平面となり、該テーブル上にサイズの異なる被
処理物を選択的に載置し安定して吸着保持できると共に
、被処理物上から所定の押圧力を加えて加工しても、仕
切り部の転写が全く生じないと云う優れた効果を奏する
。 又、リング状の仕切り部を有し且つ通気性を有する吸引
領域の上面に、細かいメツシュの粉末で形成した表層部
を設けて一体燐結したことにより、表面の平滑度が良好
になると共に、リング状の仕切り部をより細かいメツシ
ュの粉末を使用したことにより、区分された領域の吸着
保持機能が充分で、サイズの異なる被処理物であっても
、それに対応して安定した状態での保持が望めると云う
優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係るユニバーサルチャックテ−プルの
要部を分離して示した略示的斜視図、第2図は同チャッ
クテーブルの要部を断面で示した斜視図、第3図は同チ
ャックテーブルにおける吸着領域を理解するための説明
図である。 1・・・・・・ユニバーサルチャックテーブル2・・・
・・・フレーム部材 2a・・・リング状部2b・・・
底部     3・・・・・・表層部4・・・・・・裏
層部    40・・・・・・表面部材の本体部5・・
・・・・円形状の凹部 6・・・・・・凹陥部7〜10
・・・・・・リング状の溝部 11〜15・・・・・・吸気孔 16〜19・・・・・・リング状の仕切り部21〜25
・・・・・・吸気手段 26〜30・・・・・・バルブ
a−e・・・・・・吸引領域

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)サイズの異なる被処理物に対応してリング状の仕
    切り部で吸引領域が複数に区画され、その仕切り部と吸
    引領域とが一体焼結体で形成されたことを特徴とするユ
    ニバーサルチャックテーブル。
  2. (2)リング状の仕切り部を有し且つ通気性を有する吸
    引領域の上面に、細かいメッシュの粉末で形成した表層
    部を設けて一体焼結した請求項(1)記載のユニバーサ
    ルチャックテーブル。
  3. (3)吸引領域を形成する本体部は、裏層部と、表層部
    と、リング状の仕切り部とを順次細かいメッシュの粉末
    で形成して一体焼結した請求項(1)、(2)記載のユ
    ニバーサルチャックテーブル。
JP16583689A 1989-06-28 1989-06-28 ユニバーサルチャックテーブル Pending JPH0332538A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16583689A JPH0332538A (ja) 1989-06-28 1989-06-28 ユニバーサルチャックテーブル

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16583689A JPH0332538A (ja) 1989-06-28 1989-06-28 ユニバーサルチャックテーブル

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0332538A true JPH0332538A (ja) 1991-02-13

Family

ID=15819925

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16583689A Pending JPH0332538A (ja) 1989-06-28 1989-06-28 ユニバーサルチャックテーブル

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0332538A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0839376A (ja) * 1994-07-29 1996-02-13 Ckd Corp 真空チャックの吸着板、真空チャック及び吸着板の製造方法
KR20240024746A (ko) 2022-08-17 2024-02-26 가부시기가이샤 디스코 척 테이블의 제조 방법

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61182738A (ja) * 1985-02-07 1986-08-15 Shibayama Kikai Kk ウエハのフリ−サイズチヤツク機構
JPS6325737U (ja) * 1986-08-04 1988-02-19

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61182738A (ja) * 1985-02-07 1986-08-15 Shibayama Kikai Kk ウエハのフリ−サイズチヤツク機構
JPS6325737U (ja) * 1986-08-04 1988-02-19

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0839376A (ja) * 1994-07-29 1996-02-13 Ckd Corp 真空チャックの吸着板、真空チャック及び吸着板の製造方法
KR20240024746A (ko) 2022-08-17 2024-02-26 가부시기가이샤 디스코 척 테이블의 제조 방법
US12605801B2 (en) 2022-08-17 2026-04-21 Disco Corporation Chuck table manufacturing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0850723B1 (en) Wafer holding jig
CN104040709B (zh) 吸附盘
JP3469999B2 (ja) 吸着盤の製造方法
CN106653671B (zh) 一种吸盘及其吸附方法
JP3121886B2 (ja) 真空吸着装置
JP2000126960A (ja) 被加工物の真空吸着装置
JPH07136885A (ja) 真空チャック
JP4703590B2 (ja) 真空吸着装置及びそれを用いた吸着方法
JPH0582631A (ja) 半導体ウエーハ用真空チヤツク
JPH09174364A (ja) 半導体ウエハのユニバーサルチャックテーブル
JP2004140227A (ja) 半導体ウエーハ保護ユニット及び半導体ウエーハ処理方法
JPH11243135A (ja) 真空吸着盤
JP4266136B2 (ja) 真空チャック
JPH0332537A (ja) ユニバーサルチャックテーブル
JP2001341042A (ja) 真空チャックおよびその製造方法
JP2001176957A (ja) 吸着プレート及び真空吸引装置
JP4519457B2 (ja) 加工用基板固定装置およびその製造方法
JP3026677U (ja) 半導体ウエハのユニバーサルチャックテーブル
JP3993296B2 (ja) 吸着固定装置
JPS60146675A (ja) チヤツク
JPH06297306A (ja) 鏡面研摩方法及び装置
JPH081464A (ja) ユニバーサルチャック機構の自動切換装置
JPH06224281A (ja) ウエハ移載用治具
JP2001138228A (ja) 吸着板及びその吸着板を備えた研削装置
JP2000021959A (ja) 真空吸着盤