JPH0332566A - 円盤状のワークの両面を処理する装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

先東上曵剋皿１１ 本発明は、円盤状のワークの両面を処理する装置に関し
、特に磁気ディスクの両面をテープ状処理体で処理する
ための装置に関する。 に＆史上１ 従来の磁気ディスクの両面をラッピングテープで処理す
る装置には、ディスクを垂直に維持し、そして回転させ
、その回転するディスクに進行するラッピングテープを
その両側からロールで押し付けて処理するものがある。 そのような両面処理装置は、ディスクが所定の処理位置
に設置されたとき、そのロールが回転自在に取り付けら
れた一対のアームを、ロールに掛けられたラッピングテ
ープがディスクに当接するまで互いに接近させ、固定す
るするものである。 が　　しようと　る− 上記のような両面処理装置では、磁気ディスクがアーム
の間の所定の処理位置に配置されたときに、ラッピング
テープがディスクに接当するように、両アームをディス
クに接近させるが、その接近を急激に行うとラッピング
テープとディスクとが衝突し、ディスクを傷付けること
になる。一方。 そのアームの接近を榎やかに行うとラッピングテープと
ディスクとの接触までに時間がかかり、大量のディスク
を処理する装置としては、望ましくない。 また、処理するべき磁気ディスクは完全に平担ではなく
、ディスクの表面に微細な傷を付ける微粗面処理におい
ては、磁気ディスクは歪んだものといえる。そのため、
アームを固定するものであると、ラッピングテープと磁
気ディスクとの接触圧がその歪みとともに変化し、均一
なＩＲ粗粗雑処理困難であった。ディスクの歪みを検知
しローラの位置および回転方向を制御して、ラッピング
テープと磁気ディスクとの接触圧を均一にすることも考
え得るが、ディスクは高速で回転するため実際上、かか
る制御は困難である。 そこで、本発明の目的は、円盤状ワークを傷付けること
なく、ラッピングテープの円盤状ワークへの接触時間を
短くする、円盤状ワークの両面を均一に処理する装置を
提供することである。 本発明の池の目的は、高速で回転する円盤状ワークに対
してラッピングテープを一定の接触圧で接触させて、ワ
ークの両面を均一に処理する装置を提供することである
。 東匙り並太ヱ五２五 上記課題を解決するために、本発明は、円盤状ワークの
両面に対して接当離間可能な一対のテープ状処理体を長
さ方向にそって進行させるテープ状処Ｆ！！体駆動装置
に、往復移動手段により、前記円盤状ワークへ対称的に
往復移動できるように取り付けられる一対のベースと、
前記円盤状ワークへ接近および離間させるため、前記ベ
ースのそれぞれに摺動可能に取り付けられる一対のフレ
ームと、前記テープ処理体が掛けられるローラを一端で
回転自在に支持し、他端に延設部を有し、鉛直プｒ　１
１１１に関して揺動するように前記延設部の中央で前記
フレームの一端に枢着されるアームと、前記アームの移
動速度を制御し、前記ローラに掛かったテープ処理体を
前記ワークに一定圧で接触させるための弾性手段とから
構成されるものである。 その弾性手段は、アームの延設部の両端に外付力を与え
る一対の第１の弾性手段、およびフレームに円盤状ワー
クから遠ざかる方向に弾性力を与える第２の弾性手段か
ら成り、第１の弾性手段は、シリンダと、該シリンダよ
りも僅かに径が小さく、一端が前記アームの延設部に接
触するピストンとから構成される。 供回 アームの延設部の両端に弾性力を与える一対の第１の弾
性手段、およびフレームに円盤状ワークから遠ざかる方
向に弾性力を与える第２の弾性手段により、円盤状ワー
クに急速に接近したアームは減速され、テープ状処理体
はディスクに滑らかに接触する。 また、アームは円盤状ワークの歪み、挟持位置の変動に
追随して、枢動および前進ｔ＆退し、一定圧でワークに
接触する。 及旌担 以下で、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。 第５図は周辺装置を含めたケース本体ｌＯを示し、その
本体１０は、開閉扉ｌ、２．３をイ■する。 第１のＨ％ｌの興には、未処理の円盤状ワーク５、たと
えば磁気ディスクを並列に並べて支持するための未処理
支持台６が設置されている。その未処理支持台６は横移
動装胛７により並列方向に移動自在どなっている。第２
のｒｉＫ２の奥には、円盤状ワークの両面を処理する装
Ｗｓが設置されている。 第３の扉３の奥には、処工Ｉ′！！済みの）ＬＪ盤状ワ
ーク５八を並列に並べて支持する処理支持台９が設置さ
れ、この支持台９は横移動装青１１により並列方向に移
動自在となっている。 前記両面を処理する装置８の下方には搬送装置１２が設
けられ、その上で移動する２台の円盤状ワーク５を受は
取る搬送台１３Ａ、１３Ｂを有する。支持台６に収納さ
れた未処理のワーク５は移載装ｗｔ、１４により、支持
台６から搬送台１３Ａに移される。搬送台１３Ａはワー
ク５を所定の処理値′１１まで搬送する。処理されたワ
ーク５Ａは搬送台１・３Ｂに移された後、移載装置１５
により支持角９に移される。 第１〜４図に詐細に図示された両面を処理する装置８は
、一般的に内盤状ワークを垂直に挟持し、回転させる挟
持回転装置２０、テープ状処理体を駆動する駆動装置４
０、およびテープ状処理体を円盤状ワークに接当および
離間する移動装’ｌ　７０から構成される。以下各装置
ごとに説明する。 〔挟持回転装置］ 挟持回転装７１２０は、第１図に簡略して図示されてい
る。ワーク５は、搬送台１３Ａにより所定の位置に搬送
されると、第１挟持手段２１、才３よび第２挟持手１１
２５がシリンダ装７１．２２１３よび２６によりそれぞ
れ接近し、ワーク５を挟持する。 そして、シリンダ装置２６内に設けられた回転手段（図
示せず）によりワーク５は回転する。処ＩｊＦ後、第１
および第２挟持手段２２．２５は互いに離れ処理済みワ
ーク５Ａを放す。そのワーク５Ａは搬送台１３Ｂに移さ
れ、支持角９に移される。 この挟持回転装置は上記のようにワークを戊持し、回転
すればよく、かかる機能のある従前の装置でよい（たと
えば、特開昭６１−７１９６１号、特開昭６１−２１９
５６２号を参照）。 ［テープ状処理体駆動装置］ テ−プ状処理体駆動！＋［４ｏは、第１および第４Ｉ２
１に示されている。この駆動装置４０は、ラッピングテ
ープなどのようなテープ状処理体を供給し、巻き１■る
ための各種リール！ｊよびローラが左右対称に設けられ
た可動台４１を有し、この可動臼４１はその近傍で支持
台９″ｒｒりに支持枠１６に固定された上下一対のレー
ル４２に摺動可能に取り付けられている。可動台４１に
は、螺子軸４３および受動輪４４が取り付けられ、支持
枠１６には正逆駆動装置４５が取り付けられている。こ
の受動輪４４と正逆駆動装置４５は無端回動体４６によ
り連動連結し、これにより、可動台４１は正逆駆動袋穴
４５の作動により往復移動自在となる。 したがって、可動台４１は横移動してワークを処理する
位置に接近および離間することができる。 可動金４１には、テープ状処理体５０Ａ、Ｂを供給する
供給リール５１Ａ、Ｂ、およびそのテープ状処理体５０
Ａ、Ｂを巻き取る巻取りリール５２Ａ、Ｂが左右対称的
に取る付けられている。この供給リール５１Ａ、１３お
よび巻取りリール５２Ａ、Ｂは歯車を介してモータ６１
Ａ、Ｂおよび６２Ａ、Ｂにそれぞれ連結連動されている
。 供給リール５１／１．Ｂより供給されたテープ状処理体
５０Ａ、Ｂは、第１ガイドローラ５３Ａ、Ｂを介して、
以下で説明する移動装置７０に設けられたコンタクトロ
ーラ７１に案内され、そして第２ガイドローラ５４Ａ、
Ｂ、さらに第３ガイドローラ５５Ａ、Ｂを介して巻取り
リール５２Ａ、Ｂに巻き取られる。このとき、第１ガイ
ドローラ５３Ａおよび第２ガイドローラ５４Ａの位置は
、テープ状処理体５０Ａによるコンタクトローラ７１を
上方に引っ張る合力がそのコンタクトローラの回転軸に
作用するように定められる。第１ガイドローラ５３Ｂお
よび第２ガイドローラ５４Ｌ１の位置も同機に定められ
る。このように第１および第２ガイドローラの位置が定
められると、移動装置７０のアーム９０の水平方向への
移動は、事実上、テープ状処理体の張力により妨げられ
るこがない、なぜならば、その張力の合力はコンタクト
ローラの回転軸に対して真上に作用し、水平方向に作用
しないからである。 このようにして、テープ状処理体５０Ａ、Ｂはその長さ
方向に移動自在となっている。 第４図には、上述した駆動装置４０と全く同じｉｌｌ造
の駆動装置が駆動装置　４０と向がい合うように設置さ
れている。したがって、各構成要素の説明は省略する。 ただし、この駆動装置はクリーニングテープを使用して
る点で、駆動装置４０と異なる。このクリーニングテー
プを長さ方向に駆動することで、処理後のワークのクリ
ーニングを行う、しかし、この駆動装置は本発明の両面
処理装置において必須のものではない。 ［移動装設］ 移動装置７０は、基本的にそれぞれ対となったベース７
２．フレーム７６、およびアーム９ｏがら成り、その一
部断面が第２図に示されている。 ベース７２の一端はほぼ矩形のプレートでスライドベア
リングを介して可動台４１に連結され、シリンダ手段７
３により可動台４１にそって往復移動する（第４ｒＺＩ
照）、その移動量はマイクロメータ７４により制御され
る。ベース７２の（ＩＪ！、　端の下には、以下で説明
するようにフレーム７６がスライドベアリング８５を介
して数ミリメートル程度の往復移動できるように連結さ
れている。そのスライドベアリング８５はベースの他端
下方に形成された沼７５と、フレーム７６の上面に形成
された消７７との間に配置されている。 フレーム７６には、上下に平行な横延長部７８．７９お
よび縦延長部８ｏが設けられている。それら横延長部７
８および７９の間にシリンダ８１を固定するプレート８
３が配置され、そのプレート８３は２つのサイドプレー
ト８４ａ、ｂによりベース７２にスライドベアリングを
取り囲むように固定されている（第３図の左側の移動装
置を参照〉、このプレート８３により、フレーム７６の
上方の横延長部７８は下から支えられることになり、ス
ライドベアリングベース８５に対して往復移動可能とな
っている。 ベース７２の他端上方には、シリンダ装置８６が固定さ
れている。シリンダ装置８６はフレーム７６の縦延長部
８０と当接するピストンロッド８７が延びている。この
ピストン８７と縦延長部８０とは連結されておらず、し
たがってピストン８７と縦延長部８０とが接触している
ときのみ、シリンダ装置８６はフレーム７６の移動を制
御できる。 ２つの延長部７８．７９の間のシリンダ８３は、そのシ
リンダ８３の内径よりも僅かに小さな径のピストン８２
が収納されている。ピストン８２の先端は凸状に形成さ
れ、以下で説明するアーム９０の延設部９２との接触を
滑らかにしている。シリンダ８３には空気源（図示せず
〉により一定ｒＩ：の空気が注入される。この空気圧に
よりビス！・ン８２は一定圧で外に向かって押される。 もしピストン８２に内向きの力が作用したとき、ピスト
ンの径とシリンダの内径とがほぼ等しいと、シリンダ内
の圧力は増加し、ビスｌ〜ンの内向き方向の移動は制限
され、逆にピストンは外向きに押し返される。しかしこ
のピストン８２の径はシリンダ８１の内径よりも小さく
、空気がピストンとシリンダとの間から外へ湘れること
かできるため、ピストン８２にシリンダの内圧を越えた
内向きの力が作用したときには、ピストン８２は内向き
にも移動できる。 フレーム７６の延長部７８．７９の間にアーム９０が枢
着されている。アーム９０の斜視図が第３図に示されて
いる。アーム９０は、鉛直方向に延びる鉛直部分９１と
水平に延びる延設部９２とを有する。鉛直部分９１の下
端にはコンタクトローラ７１が円盤状ワークに接する方
向で回転自在に取り付けられている。このコンタクトロ
ーラにテープ処理体５０Ｂが掛ｅすられ、そのテープ処
理体５０Ｉ３がワークを接触可能となる。アーム９０の
延設部９２に中央にはｍ着用のビン９５が貫通するため
の穴９２ａが形成されている。延設部９２の外測には薄
板９２ｂが固着され、その薄板９２　ｂの両端と前記２
つのピストン８２とが接触する。この薄板９２ｂの厚さ
を調節することにより、アーム９０の延設部９２とシリ
ンダ８１との間の距離をｌ！１節できる。ただし、この
薄板９２ｂは必須のものではなく、延設部９２の厚さを
遮に調節するこので同様の効果が得られる。延設部９２
の穴９２ａ内には枢動動作を円滑にするためにベアリン
グ９２ｃが設けられている。 アーム９０の延設部９２は、フレーム７６の２つの延長
部７８．７９の間に位立し、それらを貫通するビン９５
によりアーム９０はフレーム７６に枢着されている（第
２図）、延設部９２とフレーム７６の延長部７８．７９
との間にはアーム９０を円滑に支持するためのスラスト
玉軸受９６がそれぞれ設けられている。そのスラスト玉
軸受９６をｃｉ、護するための円筒９６　ａがその外を
覆っている。このようにアーム９０はフレーム７６にｐ
ｊ滑に支持、枢着されている。

【動作】

挟持回転装ｒｅ　２０　、駆動装置４０および移動装置
７０の動ｆヤを説明する。 円盤状ワークが搬送台１３Ａにより処理位置に搬送され
、同時に駆動装置４０が正逆駆動装置４５により所定の
処理位置に移動される。また、駆動装置４０はアーム９
０のコンタク］・ローラに掛けられたテープ状処理体５
０Ａ、Ｂを長さ方向に進行させる。つぎに、ワークに関
して対称的に設けられたベース７２が、シリンダ装′Ｒ
，７３によりワークの両面に向かってそれぞれ急速に接
近するが、各ベース７２の接近は、マイクロメータ７４
によりコンタクｌ−＋：ｒ−ラに掛Ｉ）られたテープ処
理（ホ）５ＯＡ、Ｂがワークの両面に接する数ミリメー
Ｉ・ル柚で停止される。 そのとき、ベース７２に固定されているシリンダ８（に
は空ス流が注入されているため、２つのピストン８２は
併進的にアーム９０の延設部９２を押し、そのため、対
称的に配置された２つのアーム９０はフレーム７６とど
もにワーク５の両面に向かってｆ、ｌ動する。その移Ｉ
ＪＪは、シリンダ装η８６のピストンロッド８７とフレ
ーム７６の射１（延長部８０と接触するまで進むが、ま
だコンタクトローラ７１とワーク５とは接触しないよう
にしておく。ピストンロッド８７とフレーム７６の縦延
艮部８０と接触するとフレーム７６のワーク５への移動
は制限される。ビスＩ−ンロツド８７は、縦延艮部８０
との接触後コンタクト１コーラ７１がワーク５に接触す
るまで桜やかに後退し、そσ３　ｆ＆　３Ｊ１に１．・
′Ｃつでフレーム７６は、桜やかにワークへ接近し、そ
してコンタクトローラ７１に掛けられたテープ状処理体
５ＯＡ、Ｂがワーク５に接触する。 このように、アーム９０は、コンタクト１コーラ７１と
ワーク５とが接触する前の数ミリメーＩ・ルまで急造に
接近し、その接触までの数ミリメーＩ・ルのみ緩やかに
移動するため、アームの移動時間が非常に短縮される。 さらに、テープ処即体のソー７５への緩やかな接触のた
めワークを傷付けることが防止される。 各コンタクトローラ７１がテープ処理（本５０Ａ、Ｂを
介してワーク５の両面に接触し、微粗［ｍ処理が遂行さ
れる。このとき、コンタクトローラ７１にワーク５の歪
みなどにより平行に押し返す力がｆｔ用すると、２つの
シリンダ８１内の空気は、それぞれシリンダとビスＩ・
ンとの間の隙１＾１から逃げるためピストン８２は内向
きに移動する。そのため、それらの接触圧は一定に保た
れる。また、コンタクトローラ７１に平行にではなく、
ビン９５を中心に回転させるような力が作用したときは
、２つのシリンダ８ｉの一方のシリンダからより空気が
逃げるため、その一方のシリンダ内のビスＩ・ンがより
内向きに移動する。したがって、この場合も接触圧は一
定番ミ゛保りれる０以上のように、コンタクトローラ７
１（まワーク５の表面に追随して移動、回転するため一
定圧でワーク５に両面から接触できることになる。 処ｊ！！！　１８は、シリンダ装置８６および７３によ
りフレーム７６およびベース７２が、急速にワーク５か
ら離れる。処理されたワークは、搬送台１３Ｂに移され
、さらに移載装Ｒ１５により支持台９に移される。 上記した実胤例においては、テープ状処理体５０Ａ、１
３としてｌｉｉ　１１フイルムや布テープなどが１史用
され、テープ状クリーニング体としてほこりのでない繊
維テープなどが使用されるが、これらは円盤状のワーク
の押類、処理などに応じて最適なものを使用できる。テ
ープ体の幅も同様に便宜変更しうる。 また、処理動作中にむいて、例えば水などの液体を供給
することにより湿式にも、液体を使用しないことにより
乾式にもできる。 剋 上記構成の両面処理装置によると、移動装置は、テープ
状処理体と円盤状ワークと接触する直前まで急速に往復
移動ができるため、ワークを処理するまでおよび処理後
にワークを交換するまでの時間を短縮でき、したがって
、処理全体の処理時間を短縮できる。 また、本発明によると、両面処理装置を構成する２つの
弾性手段によりテープ処理体が円盤状ワークと接触する
までは、移動装置は桜やかに接近するので、テープ処理
体の急激な接触により円盤状ワークに傷が付くというこ
とがない。 さらに、移動装置内に設けられた第１の弾性手段により
、′テープ処理体を円盤状ワークに接触させるローラが
そのワークによりいかなる方向の力を受けようとも、ロ
ーラはｆ＆退および鉛直方向に関して回動してその力を
吸収できるためテープ処理体と円盤状ワークとの接触圧
を均一性にでき、したがって、円盤状ワークの両面全体
を同時にかつ均一性に処理することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明を実施した処理装置の正面図である。 第２図は、本発明を実施した処理装置における移動装置
の一部切り欠きされた正面図である。 第３図は、移動装置におけるアームの斜視図である。 第４図は、本発明を実施したの処理装置の縦断面図であ
る。 第５図は、−使用例を示す全体配置図である。 ［主要符号の説明］ ５０Ａ、Ｂ・・・テープ状処理体 ７０・・・移動装置　　　　７１・・・コンタクトロー
ル７２・・・ベース　　　　　７６・・・フレーム７８
．７９・・・横延長部　８０・・・縦延長部８１・・・
シリンダ　　　　８２・・・ピストン８６・・・シリン
ダ装ａ　　　９０・・・アーム９２・・・延設部　　　
　　９５・・・ピン９６・・・ストラス玉軸受

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、円盤状ワークを垂直に支持し、軸線のまわりに回転
   させる挟持回転装置と、該挟持回転装置の近傍に前記円
   盤状ワークの両面に対して接当離間可能な一対のテープ
   状処理体を長さ方向にそって進行させるテープ状処理体
   駆動装置とから成る円盤状ワークの両面を処理する装置
   であつて、 ａ）往復動手段により、前記円盤状ワークへ対称的に往
   復移動できるように前記駆動装置に取り付けられる一対
   のベースと、 ｂ）前記円盤状ワークへ接近および離間させるため、前
   記ベースのそれぞれに摺動可能に取り付けられる一対の
   フレームと、 ｃ）前記テープ処理体が掛けられるローラを一端で回転
   自在に支持し、 他端に延設部を有し、 鉛直方向に関して揺動するように、前記延 設部の中央で前記フレームの一端に枢着されるアームと
   、 ｄ）前記アームの移動速度を制御し、前記ローラに掛か
   ったテープ処理体を前記ワークに一定圧で接触させるた
   めの弾性手段と、 から成る装置 ２、請求項１記載の装置であって、 前記弾性手段が、前記アームの延設部の両端に弾性力を
   与えるための、前記フレームに取り付けられる一対の第
   １の弾性手段、および前記フレームに前記円盤状ワーク
   から遠ざかる方向に弾性力を与えるための、前記ベース
   に取り付けられる第２の手段から成り、 前記第１の弾性手段は、シリンダ部と、該シリンダより
   も僅かに径が小さく、一端が前記アームの延設部に接触
   するピストン部とから成る、ところの装置。 ３、請求項１記載の装置であつて、 前記フレームが、スライドベアリングを介して前記ベー
   スに連結される、ところの装置。 ４、請求項１記載の装置であって、 前記フレームの前記一端が平行な２つの横延長部から成
   り、その横延長部の間に前記アームの前記延設部が枢動
   可能に取り付けられる、ところの装置。 ５、請求項４記載の装置であって、 前記各横延長部の間に前記第１の弾性手段が設置される
   、ところの装置。