JPH0332853B2 - - Google Patents
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- JPH0332853B2 JPH0332853B2 JP57096575A JP9657582A JPH0332853B2 JP H0332853 B2 JPH0332853 B2 JP H0332853B2 JP 57096575 A JP57096575 A JP 57096575A JP 9657582 A JP9657582 A JP 9657582A JP H0332853 B2 JPH0332853 B2 JP H0332853B2
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- JP
- Japan
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- wafer
- mounting
- disk
- chamber
- wafers
- Prior art date
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
- H01J37/3171—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation for ion implantation
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、イオン注入装置に関し、特にイオン
注入完了ウエハーの回収と未注入ウエハーの装着
との改良に係わるものである。
注入完了ウエハーの回収と未注入ウエハーの装着
との改良に係わるものである。
一般に、回転デイスク等の保持体に装着された
複数枚のウエハーにイオン注入するイオン注入装
置においては、ウエハーの処理枚数を増大するた
めに、イオン注入完了ウエハーの回収および未注
入ウエハーの装着の迅速化を図る必要がある。
複数枚のウエハーにイオン注入するイオン注入装
置においては、ウエハーの処理枚数を増大するた
めに、イオン注入完了ウエハーの回収および未注
入ウエハーの装着の迅速化を図る必要がある。
しかし、従来のこの種イオン注入装置では、ウ
エハーの回収、装着をすべて人手により行うた
め、能率が悪く、ウエハーの処理枚数が極めて少
なくなるといつた欠点があり、しかも、人手を使
うことにより、ウエハーのイオン注入面に傷付き
が生じたり、ちり、ほこり等の異物の付着が懸念
され、良質のデバイスを得ることが困難な欠点が
ある。
エハーの回収、装着をすべて人手により行うた
め、能率が悪く、ウエハーの処理枚数が極めて少
なくなるといつた欠点があり、しかも、人手を使
うことにより、ウエハーのイオン注入面に傷付き
が生じたり、ちり、ほこり等の異物の付着が懸念
され、良質のデバイスを得ることが困難な欠点が
ある。
本発明は、このような従来欠点に留意してなさ
れたものであり、その目的とするところは、イオ
ン注入完了ウエハーの回収と未注入ウエハーの装
着とを自動的にかつ同時に実施できるイオン注入
装置を提供することにある。
れたものであり、その目的とするところは、イオ
ン注入完了ウエハーの回収と未注入ウエハーの装
着とを自動的にかつ同時に実施できるイオン注入
装置を提供することにある。
前記目的を達成するために、本発明のイオン注
入装置においては、複数枚のウエハーそれぞれの
設置部を有し段階的に駆動、停止して各設置部を
順次ウエハー回収位置およびこの回収位置より駆
動方向下流側のウエハー装着位置に案内する保持
体と、前記回収位置の近傍に設けられこの回収位
置における設置部のイオン注入完了ウエハーを保
持体の停止時に独自に回収する回収装置と、前記
装着位置の近傍に設けられこの装着位置における
設置部に未注入ウエハーを保持体の停止時に独自
に装着する装着装置とを備える。
入装置においては、複数枚のウエハーそれぞれの
設置部を有し段階的に駆動、停止して各設置部を
順次ウエハー回収位置およびこの回収位置より駆
動方向下流側のウエハー装着位置に案内する保持
体と、前記回収位置の近傍に設けられこの回収位
置における設置部のイオン注入完了ウエハーを保
持体の停止時に独自に回収する回収装置と、前記
装着位置の近傍に設けられこの装着位置における
設置部に未注入ウエハーを保持体の停止時に独自
に装着する装着装置とを備える。
前述のように構成されたイオン注入装置にあつ
ては、保持体の停止時、ウエハー回収位置の近傍
の回収装置により、この回収位置に案内された設
置部のイオン注入完了ウエハーが独自に回収さ
れ、同時に、ウエハー装着位置の近傍の装着装置
により、この装着位置に案内された設置部、すな
わちこれ以前に回収装置によりウエハーが回収さ
れた設置部に未注入ウエハーが独自に装着され、
イオン注入完了ウエハーの回収と未注入ウエハー
の装着とがそれぞれ独立して同時に行われる。
ては、保持体の停止時、ウエハー回収位置の近傍
の回収装置により、この回収位置に案内された設
置部のイオン注入完了ウエハーが独自に回収さ
れ、同時に、ウエハー装着位置の近傍の装着装置
により、この装着位置に案内された設置部、すな
わちこれ以前に回収装置によりウエハーが回収さ
れた設置部に未注入ウエハーが独自に装着され、
イオン注入完了ウエハーの回収と未注入ウエハー
の装着とがそれぞれ独立して同時に行われる。
実施例につき、図面を用いて説明する。
第1図は全体構成を示し、1は大電流イオン注
入装置の筐体状の装置本体であり、内部に高圧
部、真空ポンプ等が備えられている。2は装置本
体1の右側に設けられたエンドステーシヨン、3
は装置本体1の右側に一体に設けられ中央部に高
真空のイオン注入室4を有すると共にその両側部
にそれぞれほぼ円形のチヤンバー本体5が形成さ
れたターゲツトチヤンバー、6はイオン入射口で
あり、装置本体1の高圧部からイオンビームがイ
オン入射口6を通つてイオン注入室4内にスポツ
ト状に入射される。
入装置の筐体状の装置本体であり、内部に高圧
部、真空ポンプ等が備えられている。2は装置本
体1の右側に設けられたエンドステーシヨン、3
は装置本体1の右側に一体に設けられ中央部に高
真空のイオン注入室4を有すると共にその両側部
にそれぞれほぼ円形のチヤンバー本体5が形成さ
れたターゲツトチヤンバー、6はイオン入射口で
あり、装置本体1の高圧部からイオンビームがイ
オン入射口6を通つてイオン注入室4内にスポツ
ト状に入射される。
7は両チヤンバー本体5に形成された真空排気
口、8は両チヤンバー本体5の右側にそれぞれ開
閉自在に設けられた円形のチヤンバー蓋であり、
図示しないシリンダーにより開閉され、チヤンバ
ー蓋8の開時にはエンドステーシヨン2上に突設
された保持具9により水平に保持される。
口、8は両チヤンバー本体5の右側にそれぞれ開
閉自在に設けられた円形のチヤンバー蓋であり、
図示しないシリンダーにより開閉され、チヤンバ
ー蓋8の開時にはエンドステーシヨン2上に突設
された保持具9により水平に保持される。
10はチヤンバー蓋8の閉時にこのチヤンバー
蓋8とチヤンバー本体5との間に形成されるチヤ
ンバー室であり、両チヤンバー室10とイオン注
入室4とはそれぞれ上下に細長い通路を介して連
通し、この両通路にそれぞれ回転移動により両室
4,10間を開閉自在に閉塞する断面ほぼ半円形
の縦長のバルブ11が設けられている。
蓋8とチヤンバー本体5との間に形成されるチヤ
ンバー室であり、両チヤンバー室10とイオン注
入室4とはそれぞれ上下に細長い通路を介して連
通し、この両通路にそれぞれ回転移動により両室
4,10間を開閉自在に閉塞する断面ほぼ半円形
の縦長のバルブ11が設けられている。
12はチヤンバー蓋8の外側面に支持された回
転用モータであり、その下段に並進移動用モータ
(図示せず)が同様に支持されている。13はチ
ヤンバー蓋8の内側にガイド14により前後に移
動自在に支持された移動体であり、前記並進移動
用モータにより並進移動する。
転用モータであり、その下段に並進移動用モータ
(図示せず)が同様に支持されている。13はチ
ヤンバー蓋8の内側にガイド14により前後に移
動自在に支持された移動体であり、前記並進移動
用モータにより並進移動する。
15は移動体13に回転自在に支持されウエハ
ーの保持体となる円板状のデイスクであり、デイ
スク15の軸16が移動体13において前記回転
用モータ12に連結されており、イオン注入時、
デイスク15は回転用モータ12および並進移動
用モータにより回転および直線移動し、メカニカ
ルスキヤンを行い、ウエハー回収、装着時、デイ
スク15は回転用モータ12により段階的に回
転、停止を行う。
ーの保持体となる円板状のデイスクであり、デイ
スク15の軸16が移動体13において前記回転
用モータ12に連結されており、イオン注入時、
デイスク15は回転用モータ12および並進移動
用モータにより回転および直線移動し、メカニカ
ルスキヤンを行い、ウエハー回収、装着時、デイ
スク15は回転用モータ12により段階的に回
転、停止を行う。
17はデイスク15の外周部に等間隔に設けら
れた複数個のウエハー設置部であり、それぞれ第
2図に示すように外方に開口した平行な1対の溝
18が形成されている。19はデイスク15の各
ウエハー設置部17に着脱自在に装着されたシリ
コンウエハー等の円形のウエハー、20はデイス
ク15の各ウエハー設置部17の上面に設けられ
この設置部17上にウエハー19を保持する環状
のホルダであり、第2図ないし第4図に示すよう
に、ホルダ20の下面にデイスク15を貫通する
複数本の着脱棒21が一体に設けられると共に、
各着脱棒21の先端とデイスク15の裏面との間
にそれぞれスプリング22が介在され、スプリン
グ22のばね力によりウエハー19がホルダ20
とデイスク15との間に確実に保持される。
れた複数個のウエハー設置部であり、それぞれ第
2図に示すように外方に開口した平行な1対の溝
18が形成されている。19はデイスク15の各
ウエハー設置部17に着脱自在に装着されたシリ
コンウエハー等の円形のウエハー、20はデイス
ク15の各ウエハー設置部17の上面に設けられ
この設置部17上にウエハー19を保持する環状
のホルダであり、第2図ないし第4図に示すよう
に、ホルダ20の下面にデイスク15を貫通する
複数本の着脱棒21が一体に設けられると共に、
各着脱棒21の先端とデイスク15の裏面との間
にそれぞれスプリング22が介在され、スプリン
グ22のばね力によりウエハー19がホルダ20
とデイスク15との間に確実に保持される。
ここで、ウエハー19の回収、装着時、チヤン
バー蓋8が水平に開かれた状態でデイスク15が
段階的に回転、停止すると、デイスク15の各設
置部17はエンドステーシヨン2におけるウエハ
ー回収位置およびこの位置よりデイスク15の回
転方向下流側のウエハー装着位置に順次案内さ
れ、一時的に位置保持される。
バー蓋8が水平に開かれた状態でデイスク15が
段階的に回転、停止すると、デイスク15の各設
置部17はエンドステーシヨン2におけるウエハ
ー回収位置およびこの位置よりデイスク15の回
転方向下流側のウエハー装着位置に順次案内さ
れ、一時的に位置保持される。
23はエンドステーシヨン2上に左右に移動自
在に設けられそれぞれ両チヤンバー蓋8の右方の
近傍に位置したハンドリング装置であり、前記ウ
エハー回収位置の近傍に配置されイオン注入完了
ウエハー19を回収する回収装置24と、前記ウ
エハー装着位置の近傍に配置され未注入ウエハー
19を装着する装着装置25とからなる。
在に設けられそれぞれ両チヤンバー蓋8の右方の
近傍に位置したハンドリング装置であり、前記ウ
エハー回収位置の近傍に配置されイオン注入完了
ウエハー19を回収する回収装置24と、前記ウ
エハー装着位置の近傍に配置され未注入ウエハー
19を装着する装着装置25とからなる。
この回収装置24、装着装置25はそれぞれ、
第3図および第4図に示すように構成されてい
る。
第3図および第4図に示すように構成されてい
る。
すなわち、同図において、26はエンドステー
シヨン2上にガイドレール27を介して左右に移
動自在に設けられたハンドリング装置23の基
台、28は基台26上に支柱29を介して水平に
支持された操作台であり、回収装置24および装
着装置25の操作台28はそれぞれチヤンバー蓋
8の開時に水平に保持されるデイスク15の中心
に向かうように配置されている。
シヨン2上にガイドレール27を介して左右に移
動自在に設けられたハンドリング装置23の基
台、28は基台26上に支柱29を介して水平に
支持された操作台であり、回収装置24および装
着装置25の操作台28はそれぞれチヤンバー蓋
8の開時に水平に保持されるデイスク15の中心
に向かうように配置されている。
30は操作台28上にガイド棒31により上下
動自在に支持され昇降シリンダ32により上下動
操作される搬送台、33は搬送台30上の2対の
支持体34のローラ間にそれぞれ左右方向に巻回
された平行な1対の搬送ベルトであり、デイスク
15のウエハー設置部17の対の溝18に挿入自
在となり、搬送台30上に固定された搬送モータ
35によりそれぞれ搬送移動される。36は搬送
台30の先端部に立設され前記ホルダ20の各着
脱棒21に対応する複数本の押し棒であり、前記
ホルダ20の各着脱棒21に当接してホルダ20
の押し上げを行う。
動自在に支持され昇降シリンダ32により上下動
操作される搬送台、33は搬送台30上の2対の
支持体34のローラ間にそれぞれ左右方向に巻回
された平行な1対の搬送ベルトであり、デイスク
15のウエハー設置部17の対の溝18に挿入自
在となり、搬送台30上に固定された搬送モータ
35によりそれぞれ搬送移動される。36は搬送
台30の先端部に立設され前記ホルダ20の各着
脱棒21に対応する複数本の押し棒であり、前記
ホルダ20の各着脱棒21に当接してホルダ20
の押し上げを行う。
37はキヤリヤ台であり、操作台28の昇降装
置38に連結されたラツク棒39を介して水平に
支持され、昇降装置38の駆動によるラツク棒3
9の上下動により上下動操作される。40はキヤ
リヤ台37上に設けられ複数枚のウエハー19の
収納部が多段に形成されたウエハーキヤリヤであ
り、キヤリヤ台37およびウエハーキヤリヤ40
の下壁には前記対の搬送ベルト33の挿入孔が透
設されている。
置38に連結されたラツク棒39を介して水平に
支持され、昇降装置38の駆動によるラツク棒3
9の上下動により上下動操作される。40はキヤ
リヤ台37上に設けられ複数枚のウエハー19の
収納部が多段に形成されたウエハーキヤリヤであ
り、キヤリヤ台37およびウエハーキヤリヤ40
の下壁には前記対の搬送ベルト33の挿入孔が透
設されている。
つぎに、前記実施例の動作について説明する。
まず、デイスク15上のウエハー19にイオン
注入する場合、第1図に示すように、一方のチヤ
ンバー蓋8を閉じて複数枚の未注入ウエハー19
が装着されたデイスク15をチヤンバー室10に
収納し、真空排気口7を介してこのチヤンバー室
10をイオン注入室4と同程度の高真空に排気す
る。
注入する場合、第1図に示すように、一方のチヤ
ンバー蓋8を閉じて複数枚の未注入ウエハー19
が装着されたデイスク15をチヤンバー室10に
収納し、真空排気口7を介してこのチヤンバー室
10をイオン注入室4と同程度の高真空に排気す
る。
つぎに、回転用モータ12を駆動してデイスク
15を回転すると共に、バルブ11を動作してチ
ヤンバー室10とイオン注入室4とを連通し、並
進移動用モータを駆動してデイスク15を移動
し、その一部をイオン注入室4に導入する。
15を回転すると共に、バルブ11を動作してチ
ヤンバー室10とイオン注入室4とを連通し、並
進移動用モータを駆動してデイスク15を移動
し、その一部をイオン注入室4に導入する。
この状態で回転用モータ12と並進移動用モー
タとによりデイスク15を回転しながら所定の幅
で並進移動すると、イオン入射口6よりスポツ状
で入射されるイオンビームにより、デイスク15
上のすべてのウエハー19が全面均一にイオン注
入される。
タとによりデイスク15を回転しながら所定の幅
で並進移動すると、イオン入射口6よりスポツ状
で入射されるイオンビームにより、デイスク15
上のすべてのウエハー19が全面均一にイオン注
入される。
また、前記の動作時、水平に開かれた他方のチ
ヤンバー蓋8のデイスク15においては、ハンド
リング装置23によりウエハー19の回収および
装着が同時に行われる。
ヤンバー蓋8のデイスク15においては、ハンド
リング装置23によりウエハー19の回収および
装着が同時に行われる。
すなわち、ハンドリング装置23の基台26が
水平に開かれたチヤンバー蓋8側、すなわち左方
に移動し、回収装置24および装着装置25のそ
れぞれの搬送台30の先端部がデイスク15の下
方の回収位置および装着位置に案内される。
水平に開かれたチヤンバー蓋8側、すなわち左方
に移動し、回収装置24および装着装置25のそ
れぞれの搬送台30の先端部がデイスク15の下
方の回収位置および装着位置に案内される。
そして、デイスク15は段階的な回転、停止の
節動回転を行い、第1図および第3図に示すよう
に、デイスク15の停止時には、回収位置および
装着位置に案内されたデイスク15の2個の隣合
う設置部17がそれぞれ回収装置24および装着
装置25の搬送台30の上方に位置し、かつ、こ
の両設置部17のそれぞれの対の溝18の直下に
それぞれ搬送台30上の対の搬送ベルト33が位
置する。
節動回転を行い、第1図および第3図に示すよう
に、デイスク15の停止時には、回収位置および
装着位置に案内されたデイスク15の2個の隣合
う設置部17がそれぞれ回収装置24および装着
装置25の搬送台30の上方に位置し、かつ、こ
の両設置部17のそれぞれの対の溝18の直下に
それぞれ搬送台30上の対の搬送ベルト33が位
置する。
イオン注入完了ウエハー19の回収装置24に
おいては、まず、第3図の状態から昇降シリンダ
32の作動により搬送台30が上動し、その先端
の押し棒36がホルダ20の装着棒21に当接し
てこれを押し上げ、回収位置の設置部17上のウ
エハー19からホルダ20が浮き上げられると共
に、搬送台30がさらに上動することにより、第
4図に示すように、1対の搬送ベルト33がこの
設置部17の対の溝18を挿通し、設置部17上
のウエハー19が対の搬送ベルト33上に乗る。
おいては、まず、第3図の状態から昇降シリンダ
32の作動により搬送台30が上動し、その先端
の押し棒36がホルダ20の装着棒21に当接し
てこれを押し上げ、回収位置の設置部17上のウ
エハー19からホルダ20が浮き上げられると共
に、搬送台30がさらに上動することにより、第
4図に示すように、1対の搬送ベルト33がこの
設置部17の対の溝18を挿通し、設置部17上
のウエハー19が対の搬送ベルト33上に乗る。
その後、搬送モータ35により搬送ベルト33
が回転し、搬送ベルト33上のウエハー19がウ
エハーキヤリヤ40内に移動し、ウエハーキヤリ
ヤ4内の多段の収納部に収納される。
が回転し、搬送ベルト33上のウエハー19がウ
エハーキヤリヤ40内に移動し、ウエハーキヤリ
ヤ4内の多段の収納部に収納される。
さらに、このウエハー19の回収が終了する
と、搬送台30は下動してデイスク15の節動回
転による次の設置部17の到来を持ち、前述と同
様にしてイオン注入完了ウエハー19の回収を行
う。
と、搬送台30は下動してデイスク15の節動回
転による次の設置部17の到来を持ち、前述と同
様にしてイオン注入完了ウエハー19の回収を行
う。
なお、ウエハーキヤリヤ40内へのウエハー1
9の収納は、その多段の収納部の上段から順に行
われ、ウエハー19の収納毎にウエハーキヤリヤ
40が昇降装置38により1段ずつ上動する。
9の収納は、その多段の収納部の上段から順に行
われ、ウエハー19の収納毎にウエハーキヤリヤ
40が昇降装置38により1段ずつ上動する。
また、未注入ウエハー19の装着装置25にお
いては、デイスク15の節動回転により回収装置
でウエハー19の回収された設置部17が装着位
置に到達した時、前述と同様の要領で搬送台30
が上動し、その押し棒36により設置部17のホ
ルダ20が浮き上がると共に、搬送台30の1対
の搬送ベルト33が設置部17の対の溝18にそ
れぞれ挿通する。
いては、デイスク15の節動回転により回収装置
でウエハー19の回収された設置部17が装着位
置に到達した時、前述と同様の要領で搬送台30
が上動し、その押し棒36により設置部17のホ
ルダ20が浮き上がると共に、搬送台30の1対
の搬送ベルト33が設置部17の対の溝18にそ
れぞれ挿通する。
そして、搬送ベルト33が搬送モータ35によ
り前述とは反対方向に回転し、昇降装置38によ
るウエハーキヤリヤ40の下動により、このウエ
ハーキヤリヤ40内に多段に収納された未注入ウ
エハー19のうち、最下段のウエハー19が搬送
ベルト33上に乗り、このウエハー19が搬送ベ
ルト33により装着位置の設置部17上に搬送さ
れる。
り前述とは反対方向に回転し、昇降装置38によ
るウエハーキヤリヤ40の下動により、このウエ
ハーキヤリヤ40内に多段に収納された未注入ウ
エハー19のうち、最下段のウエハー19が搬送
ベルト33上に乗り、このウエハー19が搬送ベ
ルト33により装着位置の設置部17上に搬送さ
れる。
その後、搬送台30は下動し、対の搬送ベルト
33が対の溝18から抜けてウエハー19が設置
部17の上面に載置され、さらに、押し棒36に
よる押し上げが解除されることによりホルダ20
がスプリング22のばね力により設置部17上に
圧接し、ウエハー19が設置部17上でホルダ2
0により確実に保持される。
33が対の溝18から抜けてウエハー19が設置
部17の上面に載置され、さらに、押し棒36に
よる押し上げが解除されることによりホルダ20
がスプリング22のばね力により設置部17上に
圧接し、ウエハー19が設置部17上でホルダ2
0により確実に保持される。
このように、未注入ウエハー19の装着が完了
すると、デイスク15は再び節動回転し、この装
着動作時に前記回収装置24でウエハー19の回
収された設置部17がつぎに装着位置に到来し、
前述と同様にして未注入ウエハー19の装着が行
われる。
すると、デイスク15は再び節動回転し、この装
着動作時に前記回収装置24でウエハー19の回
収された設置部17がつぎに装着位置に到来し、
前述と同様にして未注入ウエハー19の装着が行
われる。
つぎに、前記したハンドリング装置23におけ
るウエハー19の回収および装着が完了すると、
ハンドリング装置23の基台26が右方へ移動
し、続いてこのチヤンバー蓋8が閉じられると共
に、そのチヤンバー室10内が真空排気され、前
記一方のデイスク15におけるイオン注入の完了
を待機する。
るウエハー19の回収および装着が完了すると、
ハンドリング装置23の基台26が右方へ移動
し、続いてこのチヤンバー蓋8が閉じられると共
に、そのチヤンバー室10内が真空排気され、前
記一方のデイスク15におけるイオン注入の完了
を待機する。
そして、一方のデイスク15におけるイオン注
入が終了すると、このデイスク15はチヤンバー
室10内に戻され、バルブ11によりイオン注入
室4と一方のチヤンバー室10との間が閉塞され
てこのチヤンバー室10内が大気圧に戻された
後、真空排気された他方のチヤンバー室10がそ
のバルブ11の動作によりイオン注入室4に連通
される。
入が終了すると、このデイスク15はチヤンバー
室10内に戻され、バルブ11によりイオン注入
室4と一方のチヤンバー室10との間が閉塞され
てこのチヤンバー室10内が大気圧に戻された
後、真空排気された他方のチヤンバー室10がそ
のバルブ11の動作によりイオン注入室4に連通
される。
さらに、他方のデイスク15はイオン注入室4
側に移動し、その一部がイオン注入室4内に導入
され、前記と同様にして、デイスク15のメカニ
カルスキヤンによりその各ウエハー19にイオン
注入が行われる。
側に移動し、その一部がイオン注入室4内に導入
され、前記と同様にして、デイスク15のメカニ
カルスキヤンによりその各ウエハー19にイオン
注入が行われる。
この動作時、一方のチヤンバー蓋8が開かれ、
そのデイスク15が水平に保持され、この近傍の
ハンドリング装置23により、前述と同様の要領
で、一方のデイスク15上のイオン注入完了ウエ
ハー19の回収および未注入ウエハー19の装着
がそれぞれ独自にしかも同時に行われる。
そのデイスク15が水平に保持され、この近傍の
ハンドリング装置23により、前述と同様の要領
で、一方のデイスク15上のイオン注入完了ウエ
ハー19の回収および未注入ウエハー19の装着
がそれぞれ独自にしかも同時に行われる。
したがつて、前記実施例によると、チヤンバー
蓋8の開時に水平に保持されるデイスク15の近
傍にハンドリング装置23を設け、ハンドリング
装置23の回収装置24において、デイスク15
上のイオン注入完了ウエハー19の回収を行うと
同時に、ハンドリング装置23の装着装置25に
おいて、それ以前に前記回収装置24によりウエ
ハー19の回収された設置部17に未注入ウエハ
ー19を装着するようにしたため、ウエハー19
の回収、装着を短時間に終了させることができ、
このデイスク15をイオン注入待機状態にして速
やかにイオン注入を実行させることができ、イオ
ンビームの利用効率を高めるのみならず、ウエハ
ー19の単位時間当りの処理枚数を大幅に増大で
きる。
蓋8の開時に水平に保持されるデイスク15の近
傍にハンドリング装置23を設け、ハンドリング
装置23の回収装置24において、デイスク15
上のイオン注入完了ウエハー19の回収を行うと
同時に、ハンドリング装置23の装着装置25に
おいて、それ以前に前記回収装置24によりウエ
ハー19の回収された設置部17に未注入ウエハ
ー19を装着するようにしたため、ウエハー19
の回収、装着を短時間に終了させることができ、
このデイスク15をイオン注入待機状態にして速
やかにイオン注入を実行させることができ、イオ
ンビームの利用効率を高めるのみならず、ウエハ
ー19の単位時間当りの処理枚数を大幅に増大で
きる。
しかも、人手によることなくウエハー19の回
収、装着が実現するため、ウエハー19のイオン
注入面への傷付きや異物の付着等を確実に防止で
き、清浄な状態でのイオン注入が行え、良質のデ
バイスを得ることができる。
収、装着が実現するため、ウエハー19のイオン
注入面への傷付きや異物の付着等を確実に防止で
き、清浄な状態でのイオン注入が行え、良質のデ
バイスを得ることができる。
その上、回収装置24と装着装置25とをそれ
ぞれデイスク15の停止時に作動し、回収位置の
設置部17におけるイオン注入完了ウエハー19
の回収と、これより下流側に位置した装着位置の
設置部17への未注入ウエハー19の装着とをそ
れぞれ独立して行うため、回収、装着のウエハー
19の位置調整を、回収装置24と回収位置の設
置部17との間、装着装置25と装着位置の設置
部17との間でそれぞれ独自に行うことができ、
その調整が容易になり、ウエハー19のウエハー
キヤリヤ40への収納や設置部17への装着がウ
エハー19に傷付きを生じることなく実施でき
る。
ぞれデイスク15の停止時に作動し、回収位置の
設置部17におけるイオン注入完了ウエハー19
の回収と、これより下流側に位置した装着位置の
設置部17への未注入ウエハー19の装着とをそ
れぞれ独立して行うため、回収、装着のウエハー
19の位置調整を、回収装置24と回収位置の設
置部17との間、装着装置25と装着位置の設置
部17との間でそれぞれ独自に行うことができ、
その調整が容易になり、ウエハー19のウエハー
キヤリヤ40への収納や設置部17への装着がウ
エハー19に傷付きを生じることなく実施でき
る。
また、前記実施例では、イオン注入室4の両側
にそれぞれチヤンバー室10を設け、両チヤンバ
ー室10のそれぞれのデイスク15のウエハー1
9のイオン注入にイオン注入室4を共用する構成
としているため、イオンビームが無駄にならず、
イオン注入とウエハー19の回収、装着とを同時
に進行させることができ、所要時間の大幅な短縮
が実現できる。
にそれぞれチヤンバー室10を設け、両チヤンバ
ー室10のそれぞれのデイスク15のウエハー1
9のイオン注入にイオン注入室4を共用する構成
としているため、イオンビームが無駄にならず、
イオン注入とウエハー19の回収、装着とを同時
に進行させることができ、所要時間の大幅な短縮
が実現できる。
ここで、前記実施例において、回転用モータ1
2によるデイスク15の節動回転および回収装置
24および装着装置25における昇降シリンダ3
2の動作、昇降装置38の動作等を適切に同期さ
せれば、ウエハー19の回収、装着の完了自動化
が可能となり、これら一連の運転制御を遠隔操作
で行うことも可能である。
2によるデイスク15の節動回転および回収装置
24および装着装置25における昇降シリンダ3
2の動作、昇降装置38の動作等を適切に同期さ
せれば、ウエハー19の回収、装着の完了自動化
が可能となり、これら一連の運転制御を遠隔操作
で行うことも可能である。
なお、前記実施例では、ハンドリング装置23
の回収装置24と装着装置25とを隣接して配置
し、回収装置24でウエハー19が回収されたデ
イスク15の設置部17に続けてウエハー19を
装着するようにしたが、これに限らず、回収装置
24が配置される回収装置と装着装置25が配置
される装着位置とを1〜数個の設置部17を介す
るようにしてもよい。
の回収装置24と装着装置25とを隣接して配置
し、回収装置24でウエハー19が回収されたデ
イスク15の設置部17に続けてウエハー19を
装着するようにしたが、これに限らず、回収装置
24が配置される回収装置と装着装置25が配置
される装着位置とを1〜数個の設置部17を介す
るようにしてもよい。
また、前記実施例では、ウエハー19の保持体
がメカニカルスキヤンする円板状のデイスク15
である場合について説明したが、この発明は、他
の保持体の場合にも同様に適用でき、たとえば、
保持体がキヤタピラ状に形成された場合、保持体
の直線部のウエハーにイオン注入すると共に、保
持体の他の部分にウエハー回収位置とその下流側
のウエハー装着位置とを設定してイオン注入完了
ウエハーの回収装置および未注入ウエハーの装着
装置を設けるようにしてもよく、イオン注入、ウ
エハー回収、装着を同時に進行させることがで
き、さらに、保持体が厚みの小さい大径の截頭円
錐状に形成され、その傾斜周面に複数枚のウエハ
ーの設置部を有する場合においても前記と同様に
行える。
がメカニカルスキヤンする円板状のデイスク15
である場合について説明したが、この発明は、他
の保持体の場合にも同様に適用でき、たとえば、
保持体がキヤタピラ状に形成された場合、保持体
の直線部のウエハーにイオン注入すると共に、保
持体の他の部分にウエハー回収位置とその下流側
のウエハー装着位置とを設定してイオン注入完了
ウエハーの回収装置および未注入ウエハーの装着
装置を設けるようにしてもよく、イオン注入、ウ
エハー回収、装着を同時に進行させることがで
き、さらに、保持体が厚みの小さい大径の截頭円
錐状に形成され、その傾斜周面に複数枚のウエハ
ーの設置部を有する場合においても前記と同様に
行える。
本発明は、以上説明したように構成されている
ため、つぎに記載する効果を奏する。
ため、つぎに記載する効果を奏する。
複数の設置部を有する保持体を段階的に駆動、
停止して各設置部をウエハー回収位置およびこれ
より下流側のウエハー装着位置に順次案内し、保
持体の停止時に、回収位置近傍に設けた回収装置
によりこの回収位置の設置部におけるイオン注入
完了ウエハーを回収すると共に、装着位置近傍に
設けた装着装置によりこの装着位置の設置部に未
注入ウエハーを装着するようにしたので、イオン
注入完了ウエハーの回収と未注入ウエハーの装着
とを同時に並行して行うことができ、ウエハーの
回収、装着を短時間に終了させ、速やかにイオン
注入動作に移行してウエハーの単位時間当りの処
理枚数を増大することができる。
停止して各設置部をウエハー回収位置およびこれ
より下流側のウエハー装着位置に順次案内し、保
持体の停止時に、回収位置近傍に設けた回収装置
によりこの回収位置の設置部におけるイオン注入
完了ウエハーを回収すると共に、装着位置近傍に
設けた装着装置によりこの装着位置の設置部に未
注入ウエハーを装着するようにしたので、イオン
注入完了ウエハーの回収と未注入ウエハーの装着
とを同時に並行して行うことができ、ウエハーの
回収、装着を短時間に終了させ、速やかにイオン
注入動作に移行してウエハーの単位時間当りの処
理枚数を増大することができる。
しかも、ウエハーの回収と装着とを同時に行う
ことができるため、ウエハー回収、装着の自動化
が可能となり、ウエハーのイオン注入面に触れる
ことなく清浄な状態で処理が行え、傷付きや異物
の付着がなく、良質のデバイスの製造が実現でき
る。
ことができるため、ウエハー回収、装着の自動化
が可能となり、ウエハーのイオン注入面に触れる
ことなく清浄な状態で処理が行え、傷付きや異物
の付着がなく、良質のデバイスの製造が実現でき
る。
とくに、回収装置によるイオン注入完了ウエハ
ーの回収と装着装置による未注入ウエハーの装着
とをそれぞれ異なる設置部において独立して行う
ため、回収装置と保持体とのウエハー位置合わせ
および装着装置と保持体とのウエハー位置合わせ
をそれぞれ個別に実施でき、位置調整が容易にな
る効果が得られる。
ーの回収と装着装置による未注入ウエハーの装着
とをそれぞれ異なる設置部において独立して行う
ため、回収装置と保持体とのウエハー位置合わせ
および装着装置と保持体とのウエハー位置合わせ
をそれぞれ個別に実施でき、位置調整が容易にな
る効果が得られる。
図面はこの発明のイオン注入装置の1実施例を
示し、第1図は全体の一部切断平面図、第2図は
デイスクの一部の平面図、第3図および第4図は
それぞれ回収装置および装着装置の動作時の切断
正面図である。 15……デイスク、17……ウエハー設置部、
19……ウエハー、24……回収装置、25……
装着装置。
示し、第1図は全体の一部切断平面図、第2図は
デイスクの一部の平面図、第3図および第4図は
それぞれ回収装置および装着装置の動作時の切断
正面図である。 15……デイスク、17……ウエハー設置部、
19……ウエハー、24……回収装置、25……
装着装置。
Claims (1)
- 1 複数枚のウエハーそれぞれの設置部を有し段
階的に駆動、停止して前記各設置部を順次ウエハ
ー回収位置および該回収位置より駆動方向下流側
のウエハー装着位置に案内する保持体と、前記回
収位置の近傍に設けられ該回収位置における前記
設置部のイオン注入完了ウエハーを前記保持体の
停止時に独自に回収する回収装置と、前記装着位
置の近傍に設けられ該装着位置における前記設置
部に未注入ウエハーを前記保持体の停止時に独自
に装着する装着装置とを備えたことを特徴とする
イオン注入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57096575A JPS58214260A (ja) | 1982-06-04 | 1982-06-04 | イオン注入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57096575A JPS58214260A (ja) | 1982-06-04 | 1982-06-04 | イオン注入装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58214260A JPS58214260A (ja) | 1983-12-13 |
| JPH0332853B2 true JPH0332853B2 (ja) | 1991-05-15 |
Family
ID=14168776
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57096575A Granted JPS58214260A (ja) | 1982-06-04 | 1982-06-04 | イオン注入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58214260A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4759681A (en) * | 1985-01-22 | 1988-07-26 | Nissin Electric Co. Ltd. | End station for an ion implantation apparatus |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5841573U (ja) * | 1981-09-11 | 1983-03-18 | 株式会社日立製作所 | ウエ−ハ自動交換装置 |
-
1982
- 1982-06-04 JP JP57096575A patent/JPS58214260A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58214260A (ja) | 1983-12-13 |
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