JPH033392A - スルーホール形成用ペースト吸引装置 - Google Patents

スルーホール形成用ペースト吸引装置

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JPH033392A
JPH033392A JP13784089A JP13784089A JPH033392A JP H033392 A JPH033392 A JP H033392A JP 13784089 A JP13784089 A JP 13784089A JP 13784089 A JP13784089 A JP 13784089A JP H033392 A JPH033392 A JP H033392A
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JP
Japan
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negative pressure
hole
paste
base
tank
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Pending
Application number
JP13784089A
Other languages
English (en)
Inventor
Eiji Fukui
福井 英司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Juki Corp
Original Assignee
Juki Corp
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Publication date
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Publication of JPH033392A publication Critical patent/JPH033392A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、スルーホール基板の各スルーホール部に直
接描画装置のノズルから吐出したペーストを、裏面から
負圧により吸引して各スルーホ・−ルの内壁にペースト
の厚膜を形成するスルーホール形成用ペースト吸引装置
に関する。
〔従来の技術〕
近年、電子部品の密度を向上させるために、例えば2イ
ンチ角のスルーホール基板で直径0.3〜1.0−のス
ルーホールが100個以上も形成されたものが用いられ
るようになってきた。
このようなスルーホール基板は、耐熱性セラミック材等
からなる基板に多数のスルーホールが穿設されており、
その基板の表裏両面における各スルーホールを含む周辺
のスルーホール部及びスルーホール内壁に直接描画装置
によって導電性ペーストの厚膜を形成している。
それに用いられる直接描画装置は、ノズルとスルーホー
ル基板(以下「基板」という)とを相対移動させながら
、ノズルから基板表面の各スルーホール部に順次ペース
トを吐出させてスルーホールを覆うランド部を形成し、
それをスルーホール吸引系により基板裏面から吸引して
スルーホール内へペーストを引き込み、各スルーホール
の内壁にペーストの厚膜を形成するようになっている。
第5図はこのような直接描画装置を用いたスルーホール
形成用ペースト吸引装置の一例を示すものであり、多数
のスルーホール11を有する基板10を図示しないXY
子テーブル上固設された基台20上の所定の位置に載置
し、その周縁部を基板吸引用孔21を介して負圧源30
の負圧により吸着して固定している。
また、基台20の基板10に覆われる凹部22を、スル
ーホール吸引用孔23により、電磁弁41を介して負圧
源40に接続している。
そして、基板10のスルーホール部に、図示しない周知
の直接描画装置のノズルからペーストを吐出して同図A
部に拡大して示すようにランド部12を形成し、電磁弁
41を開いて負圧1fi40から基板10の裏面へ負圧
を供給し、ランド部12のペーストを矢示S方向に吸引
することにより。
スルーホール内壁11aにペーストの厚膜を形成する。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、このような従来のスルーホール形成用ペ
ースト吸引装置にあっては、ペースト吸引用負圧の供給
、停止を電磁弁の開閉のみによって行っていたので、基
台20の凹部22内の負圧は、第6図に示すように、電
磁弁41の開放により大気圧から一気に負圧源40の負
圧にまで上昇し、閉止により一気に大気圧に復帰してそ
の圧力変化が極めて急激であった。
そのため、基板10のスルーホール部に形成されたペー
ストの厚膜は、電磁弁の開放により急激にスルーホール
内へ引き込まれてその内壁11aにペーストの厚膜13
を形成するが、f!電磁弁閉止してもペーストの流動は
急には停止できないので、第7図に示すように、余分の
ペーストが基板裏面へ飛散して島14を形成し、裏面に
描画した回路パターンをショートさせるおそれがあった
この発明は、このような従来の問題点を解決し、ペース
トが基板裏面へ飛散することを防止するスルーホール形
成用ペースト吸引装置を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記の目的を達成するため、この発明によるスルーホー
ル形成用ペースト吸引装置は、直接描画装置のノズルと
スルーホール基板を載置した基台とを相対移動させ、ノ
ズルからスルーホール基板のスルーホール部へペースト
を吐出させ、吸引用負圧源によって上記基台の凹部に生
じるエアの流れにより、スルーホール内壁にペーストの
厚膜を形成するスルーホール形成用ペースト吸引装置に
おいて、上記基台の凹部を負圧タンクを介して上記負圧
源に接続すると共に、負圧タンクと基台凹部との間及び
負圧源との間に、それぞれ第1.第2の電磁弁を介装し
たものである。
〔作 用〕
このような構成により、まず基台側の第1の電磁弁を閉
じ、負圧源側の第2の電磁弁を開いて負圧タンクを真空
状態に保った状態で、直接描画装置により基板のスルー
ホール部へペーストを吐出してランド部を描画する。
描画が終了して第1の電磁弁を開き、第2の電磁弁を閉
じると、負圧タンク内の負圧によってスルーホールを通
って基台凹部へ向うエアの流れが生じ、スルーホールラ
ンド部のペーストがスルーホール内へ急激に引き込まれ
てその内壁にペーストの厚膜を形成する。
これにより、負圧タンク内にスルーホールを通過した大
気が進入するので、負圧タンク内は徐々に大気圧に近付
き、スルーホールに流入するペーストの流速、流量が停
下し、負圧タンク内が大気圧になるとペーストの動きも
停止する。
したがって、この時点で第1の電磁弁を閉じ。
第2の電磁弁を開いて負圧タンクに再び負圧を供給して
次の吸引に備える。
このような一連の動作を繰返してすべてのスルーホール
にペーストを導入してスルーホール形成を行う。
〔実施例〕
以下、添付図面の第1図乃至第4図を参照してこの発明
の詳細な説明する。
第1図はこの発明の一実施例の構成を示すものであり、
基板10及び基台20は第5図と同様であるのでその説
明は省略する。
この実施例では、基台20の凹部22に連通するスルー
ホール吸引用孔23とスルーホール吸引用負圧源40と
の間に、スルーホール吸引用孔23側から第1の電磁弁
1.負圧タンク2及び第2の電磁弁3を順次介装してス
ルーホール吸引系を構成している。
なお、負圧タンク2の容量は、基板10のスルーホール
11の径及び数に応じて設定される。
上記のような構成からなる実施例において、描画に先立
ち基板10を図示しない複数の位置決めピンで規制して
所定の位置に載置し、基板吸引用負圧源30から基板吸
着用孔21を通って基板裏面に負圧を作用させ、その吸
引力により基台20の上面に基板10を吸着させて固定
する。
次に、その後の処理を、第1図と共に第2図に示すフロ
ー図及び第3図に示すタイムチャートをも参照しながら
説明する。
まず、基台20をXY力方向移動させて描画しようとす
る基台10のスルーホール11を直接描画装置(図示し
ない)のノズル4の下方に位置させ、その位置を中心と
して基台20をXY力方向微動させながら、ノズル4か
ら導電性ペーストを吐出させてスルーホールランド部の
描画を行う。
この時、第3図に示すように第1の電磁弁1を閉じ、第
2の電磁弁3を開いて負圧タンク2を負圧状態に保つ・ スルーホールランド部の描画が終了すると、第1の電磁
弁1を開き第2の電磁弁3を閉じて負圧タンク2内の負
圧を基台20の凹部22へ供給する。これにより、スル
ーホールランド部のペーストがスルーホール11内へ強
力に引き込まれ、スルーホール11を通った大気圧が負
圧タンク2内へ導入されてスルーホール吸引系内の負圧
が徐々に大気圧に近付く。第4図はその状態を示してい
る。
それに伴って、ペーストの流速及び流量も小さくなり、
最後に負圧タンク2内の圧力が大気圧に等しくなるとペ
ーストの動きも停止する。
負圧タンク2内が大気圧になる頃、第1の電磁弁1を閉
じ、第2の電磁弁3を開いて負圧タンク2内に負圧源4
0からの負圧を導入すると共に次のスルーホール部の描
画を行った後、再び上述のペースト吸引処理を行い、す
べてのスルーホールについてこれを繰返してスルーホー
ル形成を終了する。
なお、描画のためのノズル4からのペーストの吐出及び
停止、第1.第2の電磁弁1,3の開閉等の一連の動作
のタイミングはすべて図示しないマイクロコンピュータ
により制御される。また。
ペーストの吸引開始から負圧タンク2内が大気圧になる
時間は、予め実測により求めてメモリ内にパラメータと
してそのデータを入れておくのが望ましい。
このように、スルーホールランド部のペーストは、最初
は極めて強力にスルーホール11内に引き込まれてその
内壁11aにペーストの厚膜を形成した後、徐々に速力
を減じて停止するので、基板10.の裏面へペーストが
飛散するおそれはなく、裏面パターンのショートを未然
に防止することができる。
〔発明の効果〕
以上述べたように、この発明によれば、基板を固定した
基台凹部を負圧タンクを介して負圧源に接続し、この負
圧タンクの基台側と負圧源側にそれぞれ第1.第2の電
磁弁を介装したので、これらの第1.第2の電磁弁開閉
のタイミングをスルーホール部の描画に合わせて制御す
ることにより、描画されたペーストを負圧タンク内の負
圧を用いて基板裏面から吸引することができる。
そして、その負圧力は吸引の初期には負圧源の負圧力と
同等であるので、描画されたペーストを強力にスルーホ
ール内へ引き込んでその内壁に確実にペーストの厚膜を
形成させることができ、その後は負圧力が弱まってペー
ストの流速、流量が徐々に低下する。
その結果、基板裏面へのペーストの飛散が防止され、裏
面に形成された回路パターンが飛散したペーストによっ
てショートするおそれをなくすることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例を示す構成図、第2図はそ
のスルーホール形成方法を示すフロー図、 第3図はその各部の作動タイミングを示すタイムチャー
ト。 第4図はペースト吸引時の負圧の変化を示す線図、第5
図は従来のペースト吸引装置を例示する構成図。 第6図は同じくそのスルーホール吸引系の負圧の変化を
示す線図、 第7図は同じくその好ましくないスルーホール形成状態
を示す説明図である。 1・・・第1の電磁弁     2・・・負圧タンク3
・・・第2の電磁弁     4・・・ノズル10・・
・スルーホール基板  11・・・スルーホール20・
・・基台       、22・・・基台凹部30・・
・基板吸引用負圧源 40・・・スルーホール吸引用負圧源

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 直接描画装置のノズルとスルーホール基板を載置し
    た基台とを相対移動させ、前記ノズルから前記スルーホ
    ール基板のスルーホール部へペーストを吐出させ、吸引
    用負圧源によつて前記基台凹部に生じるエアの流れによ
    り、スルーホール内壁にペーストの厚膜を形成するスル
    ーホール形成用ペースト吸引装置において、 前記基台凹部を負圧タンクを介して前記負圧源に接続す
    ると共に、前記負圧タンクと前記基台凹部との間及び前
    記負圧源との間に、それぞれ第1,第2の電磁弁を介装
    したことを特徴とするスルーホール形成用ペースト吸引
    装置。
JP13784089A 1989-05-31 1989-05-31 スルーホール形成用ペースト吸引装置 Pending JPH033392A (ja)

Priority Applications (1)

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JP13784089A JPH033392A (ja) 1989-05-31 1989-05-31 スルーホール形成用ペースト吸引装置

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JP13784089A JPH033392A (ja) 1989-05-31 1989-05-31 スルーホール形成用ペースト吸引装置

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Publication Number Publication Date
JPH033392A true JPH033392A (ja) 1991-01-09

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ID=15208050

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JP13784089A Pending JPH033392A (ja) 1989-05-31 1989-05-31 スルーホール形成用ペースト吸引装置

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JP (1) JPH033392A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0711106A1 (de) * 1994-11-02 1996-05-08 Lpkf Cad/Cam Systeme Gmbh Verfahren zum Durchkontaktieren von Bohrungen in mehrlagigen Leiterplatten

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0711106A1 (de) * 1994-11-02 1996-05-08 Lpkf Cad/Cam Systeme Gmbh Verfahren zum Durchkontaktieren von Bohrungen in mehrlagigen Leiterplatten

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