JPH0335149A - メッキ鋼板のメッキ付着量およびメッキ被膜組成の測定方法およびその測定装置 - Google Patents
メッキ鋼板のメッキ付着量およびメッキ被膜組成の測定方法およびその測定装置Info
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- JPH0335149A JPH0335149A JP16938489A JP16938489A JPH0335149A JP H0335149 A JPH0335149 A JP H0335149A JP 16938489 A JP16938489 A JP 16938489A JP 16938489 A JP16938489 A JP 16938489A JP H0335149 A JPH0335149 A JP H0335149A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、被測定メッキ鋼板のメッキ付着量及びメッキ
被膜組成をオンラインで測定するメッキ鋼板のメッキ付
着量及びメッキ被膜組成の測定方法およびその測定装置
に係わり、特にメ・ソキ被膜が下地金属と同じ成分を含
む場合の分析に有効なメッキ鋼板のメッキ付着量および
メッキ被膜組成の測定方法およびその測定装置に関する
。
被膜組成をオンラインで測定するメッキ鋼板のメッキ付
着量及びメッキ被膜組成の測定方法およびその測定装置
に係わり、特にメ・ソキ被膜が下地金属と同じ成分を含
む場合の分析に有効なメッキ鋼板のメッキ付着量および
メッキ被膜組成の測定方法およびその測定装置に関する
。
この種の被測定メッキ鋼板のメッキ付着量やメッキ被膜
組成を測定する場合、蛍光Ｘ線分析法が用いられている
。この蛍光Ｘ線分析法は、被測定メッキ鋼板にＸ線を照
射した後、メッキ厚さに比例して放射される蛍光Ｘ線を
測定するとともにこの測定値を検量線と比較しながら求
めるものであって、ｚｎメッキ鋼板やＺｎ −Ｎｉ メ
ッキ鋼板の如くメッキ被膜が下地金属を含まないものに
ついてはオンラインでメッキ付着量やメッキ被膜組成を
測定することが可能である。
組成を測定する場合、蛍光Ｘ線分析法が用いられている
。この蛍光Ｘ線分析法は、被測定メッキ鋼板にＸ線を照
射した後、メッキ厚さに比例して放射される蛍光Ｘ線を
測定するとともにこの測定値を検量線と比較しながら求
めるものであって、ｚｎメッキ鋼板やＺｎ −Ｎｉ メ
ッキ鋼板の如くメッキ被膜が下地金属を含まないものに
ついてはオンラインでメッキ付着量やメッキ被膜組成を
測定することが可能である。
しかし、近年、Ｚｎ−Ｆｅ合金メッキ鋼板が耐蝕性、加
工性等で優れた特性を有することが注目されてきている
が、蛍光Ｘ線分析法ではメ・ノキ被膜中のＦｅによる蛍
光Ｘ線と下地金属であるＦｅによる蛍光Ｘ線との区別が
つけ難く、このため蛍光Ｘ線強度とメッキ付着量、メッ
キ被膜組成との関係を対応づけることが困難であるばか
りでなく、オンラインで分析することができない。
工性等で優れた特性を有することが注目されてきている
が、蛍光Ｘ線分析法ではメ・ノキ被膜中のＦｅによる蛍
光Ｘ線と下地金属であるＦｅによる蛍光Ｘ線との区別が
つけ難く、このため蛍光Ｘ線強度とメッキ付着量、メッ
キ被膜組成との関係を対応づけることが困難であるばか
りでなく、オンラインで分析することができない。
そこで、従来、以上のような不具合を改善するする方法
として、次の２つの分析法が提案されている。
として、次の２つの分析法が提案されている。
その１つは、Ｚｎ−Ｆｅ合金メッキ鋼板上に多数の波長
をもった。いわゆる白色Ｘ線を照射した後、そのメッキ
鋼板の下地金属からの蛍光Ｘ線がＸ線侵入深さの点から
実質的に検出できない第１の測定角と、下地金属からの
蛍光Ｘ線を検出できる第２の１＃１定角とζそそれぞれ
検出器を配置してそれぞれに系列の蛍光Ｘ線強度を測定
しこの両側定値に基づいてメッキ付着量およびメッキ被
膜組成を求めるオンライン分析法である（特開昭５８−
２２３０４７号公報）。
をもった。いわゆる白色Ｘ線を照射した後、そのメッキ
鋼板の下地金属からの蛍光Ｘ線がＸ線侵入深さの点から
実質的に検出できない第１の測定角と、下地金属からの
蛍光Ｘ線を検出できる第２の１＃１定角とζそそれぞれ
検出器を配置してそれぞれに系列の蛍光Ｘ線強度を測定
しこの両側定値に基づいてメッキ付着量およびメッキ被
膜組成を求めるオンライン分析法である（特開昭５８−
２２３０４７号公報）。
他の１つは、Ｚｎ−Ｆｅ合金メッキ鋼板において被膜に
よる吸収を利用して下地金属のα−Ｆｅの回折Ｘ！Ｉか
らメッキ付ｔｆｆｉを求め、さらにメッキ被膜中のＺｎ
−Ｆｅ合金相およη相から選ばれた１つ以上の相の回折
Ｘ線強度からメ被膜組成を求める方法である（特開昭６
０−１６９５５３号公報）。
よる吸収を利用して下地金属のα−Ｆｅの回折Ｘ！Ｉか
らメッキ付ｔｆｆｉを求め、さらにメッキ被膜中のＺｎ
−Ｆｅ合金相およη相から選ばれた１つ以上の相の回折
Ｘ線強度からメ被膜組成を求める方法である（特開昭６
０−１６９５５３号公報）。
しかし、以上のように２つの分析法のうち、前者による
２つの測定角を用いた蛍光Ｘ線分析法では、入射Ｘ線と
して白色ＸｖＡを用いているために次のような問題が指
摘されている。
２つの測定角を用いた蛍光Ｘ線分析法では、入射Ｘ線と
して白色ＸｖＡを用いているために次のような問題が指
摘されている。
■−１白色Ｘ線中の高エネルギーのＸ！！！は、メッキ
鋼板被膜中での減衰が小さいために侵入深さが深くなる
性質があり、このため下地金属からの蛍光Ｘ線を検出し
得ない第１の測定角度としては５°以内と非常に小さい
角度にする必要がある。
鋼板被膜中での減衰が小さいために侵入深さが深くなる
性質があり、このため下地金属からの蛍光Ｘ線を検出し
得ない第１の測定角度としては５°以内と非常に小さい
角度にする必要がある。
その結果、メッキ鋼板面の上下動、つまりバタツキによ
る測定距離の変動および測定角の変動等が発生し易く、
測定精度が低下する問題がある。
る測定距離の変動および測定角の変動等が発生し易く、
測定精度が低下する問題がある。
■−２また、メッキ付着量およびメッキ被膜組成は、実
際にメッキ鋼板にＸ線を入射して得られる実測強度と予
め周知の理論強度計算式に与えて得られる理論強度とを
比較演算して求めることが考えられるが、理論強度の計
算の際にはＸ線管の経時変化などによる入射Ｘ線のスペ
クトル変動の影響を受けるので測定精度が低下する問題
がある。
際にメッキ鋼板にＸ線を入射して得られる実測強度と予
め周知の理論強度計算式に与えて得られる理論強度とを
比較演算して求めることが考えられるが、理論強度の計
算の際にはＸ線管の経時変化などによる入射Ｘ線のスペ
クトル変動の影響を受けるので測定精度が低下する問題
がある。
■−３また、前記実測強度と周知の理論強度計算式から
計算される理論強度との比較演算により分析値を求める
場合、理論強度の計算の際に波長積分が必要になるため
に計算時間が長くなり、測定時間の増加は否めない。
計算される理論強度との比較演算により分析値を求める
場合、理論強度の計算の際に波長積分が必要になるため
に計算時間が長くなり、測定時間の増加は否めない。
■−４さらに、前記■−２で指摘した問題を回避するた
めに校正曲線を用いる方法があるが、この方法ではマト
リクス効果を考慮したモデルの作成に２０〜３０種類の
標準試料が必要になり、非常に煩雑な分析法とならざる
を得ない。
めに校正曲線を用いる方法があるが、この方法ではマト
リクス効果を考慮したモデルの作成に２０〜３０種類の
標準試料が必要になり、非常に煩雑な分析法とならざる
を得ない。
一方、後者の回折Ｘ線による分析法においては、■−ｌ
下地金属のα−Ｆｅの回折Ｘ線強度は、メッキ付着量
だけでなく、鋼板の鋼種や板厚、メッキ鋼板の製造条件
等による異なる集合組織やメッキ被膜組成等に依存する
ことから測定精度の面で問題がある。
下地金属のα−Ｆｅの回折Ｘ線強度は、メッキ付着量
だけでなく、鋼板の鋼種や板厚、メッキ鋼板の製造条件
等による異なる集合組織やメッキ被膜組成等に依存する
ことから測定精度の面で問題がある。
■−２一方、合金相の回折Ｘ線強度は、メツキ条件によ
り異なり、また溶融メッキ材と電気メッキ材では合金の
構造や組成が異なり、この場合にも同様に十分な測定精
度が得られない。
り異なり、また溶融メッキ材と電気メッキ材では合金の
構造や組成が異なり、この場合にも同様に十分な測定精
度が得られない。
本発明は上記実情に鑑みてなされたもので、メッキ鋼板
表面の変動の影響を少なくしてオンラインでメッキ付着
量およびメッキ被膜組成を測定でき、かつ、分析精度の
向上および分析時間の短縮化が図れ、少ない標準試料を
用いて確実にメッキ付着量およびメッキ被膜組成を測定
しうるメッキ鋼板のメッキ付着量およびメッキ被膜組成
の測定方法を提供することを目的とする。
表面の変動の影響を少なくしてオンラインでメッキ付着
量およびメッキ被膜組成を測定でき、かつ、分析精度の
向上および分析時間の短縮化が図れ、少ない標準試料を
用いて確実にメッキ付着量およびメッキ被膜組成を測定
しうるメッキ鋼板のメッキ付着量およびメッキ被膜組成
の測定方法を提供することを目的とする。
また、他の発明である測定装置の目的とするところは、
簡単な構成を用いてオンラインで正確にメッキ付着量お
よびメッキ被膜組成を測定することにある。
簡単な構成を用いてオンラインで正確にメッキ付着量お
よびメッキ被膜組成を測定することにある。
〔課題を解決するための手段および作用〕そこで、請求
項１に対応する発明は上記課題を解決するために、Ｘ線
発生装置から発生するＸ線を２種類の２次ターゲットに
照射し、それぞれの２次ターゲットから発生する特性Ｘ
線をそれぞれ所定の入射角でメッキ鋼板に照射した場合
にメッキ鋼板から発生する分析目的元素のに系列の所定
の受光角における強度または強度比の理論計算式を予め
求めておき、メッキ付着量およびメッキ被膜組成を既知
とする標準試料を用いて前記理論計算式を求めたと同じ
条件で蛍光Ｘ線強度又は強度比を実測しこの実測値と前
記理論計算式とに基づいて実測値を理論計算値に換算す
るための変換係数を予め求めておく。
項１に対応する発明は上記課題を解決するために、Ｘ線
発生装置から発生するＸ線を２種類の２次ターゲットに
照射し、それぞれの２次ターゲットから発生する特性Ｘ
線をそれぞれ所定の入射角でメッキ鋼板に照射した場合
にメッキ鋼板から発生する分析目的元素のに系列の所定
の受光角における強度または強度比の理論計算式を予め
求めておき、メッキ付着量およびメッキ被膜組成を既知
とする標準試料を用いて前記理論計算式を求めたと同じ
条件で蛍光Ｘ線強度又は強度比を実測しこの実測値と前
記理論計算式とに基づいて実測値を理論計算値に換算す
るための変換係数を予め求めておく。
以上のようにして理論計算式および変換係数を求めた後
、メッキ付着量およびメッキ被膜組成を未知とする被測
定メッキ鋼板に対し、前記理論計算式を求めたのと同じ
測定条件を用いて当該被測定メッキ鋼板から得られる蛍
光Ｘ線強度又は強度比を測定し、その後、この蛍光Ｘ線
強度又は強度比を変換係数を用いて理論強度又は強度比
に変換する。そして、前記理論計算式より得られる理論
強度又は強度比を、前記変換された理論強度又は強度比
に最も近づける、理論計算式中のパラメータであるメッ
キ付着量およびメッキ被膜組成をもって前記被測定メッ
キ鋼板のメッキ付着量およびメッキ被膜組成とするもの
である。
、メッキ付着量およびメッキ被膜組成を未知とする被測
定メッキ鋼板に対し、前記理論計算式を求めたのと同じ
測定条件を用いて当該被測定メッキ鋼板から得られる蛍
光Ｘ線強度又は強度比を測定し、その後、この蛍光Ｘ線
強度又は強度比を変換係数を用いて理論強度又は強度比
に変換する。そして、前記理論計算式より得られる理論
強度又は強度比を、前記変換された理論強度又は強度比
に最も近づける、理論計算式中のパラメータであるメッ
キ付着量およびメッキ被膜組成をもって前記被測定メッ
キ鋼板のメッキ付着量およびメッキ被膜組成とするもの
である。
次に、請求項２に対応する発明は、Ｘ線発生装置から発
生するＸ線を２種類の２次ターゲットに照射し、それぞ
れの２次ターゲットから発生する特性Ｘ線をそれぞれ所
定の入射角でメッキ鋼板に照射した場合にメッキ鋼板か
ら発生する分析目的元素のに系列の蛍光Ｘｌ！の所定の
受光角における強度又は強度比の検量線をメッキ付着量
およびメッキ被膜組成をパラメータとし、て求めておき
、しかる後、メッキ付着量およびメッキ被膜組成を未知
とする被測定メッキ鋼板に対し、前記検量線を求めたの
と同じ測定条件で当該被測定メッキ鋼板から得られる蛍
光Ｘ線強度または強度比を測定する。さらに、検量線よ
り得られる蛍光Ｘ線強度又は強度比を、前記測定された
蛍光Ｘ線強度又は強度比に最も近づける、検量線中のパ
ラメータであるメッキ付着量およびメッキ被膜組成をも
って前記被測定メッキ鋼板のメッキ付着量およびメッキ
被膜組成とするものである。
生するＸ線を２種類の２次ターゲットに照射し、それぞ
れの２次ターゲットから発生する特性Ｘ線をそれぞれ所
定の入射角でメッキ鋼板に照射した場合にメッキ鋼板か
ら発生する分析目的元素のに系列の蛍光Ｘｌ！の所定の
受光角における強度又は強度比の検量線をメッキ付着量
およびメッキ被膜組成をパラメータとし、て求めておき
、しかる後、メッキ付着量およびメッキ被膜組成を未知
とする被測定メッキ鋼板に対し、前記検量線を求めたの
と同じ測定条件で当該被測定メッキ鋼板から得られる蛍
光Ｘ線強度または強度比を測定する。さらに、検量線よ
り得られる蛍光Ｘ線強度又は強度比を、前記測定された
蛍光Ｘ線強度又は強度比に最も近づける、検量線中のパ
ラメータであるメッキ付着量およびメッキ被膜組成をも
って前記被測定メッキ鋼板のメッキ付着量およびメッキ
被膜組成とするものである。
次に、請求項３に対応する発明は、Ｘ線を発生するＸ線
発生装置と、このＸ線発生装置から発生するＸ線を照射
して発生する特性Ｘ線を被測定メッキ鋼板への入射Ｘ線
とする反射型の２次ターゲット部と、ＸＩ！のパスライ
ンを決めて被測定メッキ鋼板に所定の入射角で投ＩＩす
るとともに所定の受光角で受光するスリット系と、被測
定メッキ鋼板から発生する分析目的元素のに系列蛍光強
度をそれぞれ所定の角度で測定する２個の検出器と、こ
れらの測定系で得られるべき理論強度又は強度、比の理
論計算式を記憶する手段と、実際に測定された蛍光Ｘ線
強度又は強度比を理論強度又は強度比に変換する手段と
、この変換された理論強度又は強度比と理論計算式より
得られ・る理論強度又は強度比の差を最小にするメッキ
付着量およびメッキ被膜組成を求める手段とを備えたも
のである。
発生装置と、このＸ線発生装置から発生するＸ線を照射
して発生する特性Ｘ線を被測定メッキ鋼板への入射Ｘ線
とする反射型の２次ターゲット部と、ＸＩ！のパスライ
ンを決めて被測定メッキ鋼板に所定の入射角で投ＩＩす
るとともに所定の受光角で受光するスリット系と、被測
定メッキ鋼板から発生する分析目的元素のに系列蛍光強
度をそれぞれ所定の角度で測定する２個の検出器と、こ
れらの測定系で得られるべき理論強度又は強度、比の理
論計算式を記憶する手段と、実際に測定された蛍光Ｘ線
強度又は強度比を理論強度又は強度比に変換する手段と
、この変換された理論強度又は強度比と理論計算式より
得られ・る理論強度又は強度比の差を最小にするメッキ
付着量およびメッキ被膜組成を求める手段とを備えたも
のである。
従って、以上のような手段を講じたことにより、Ｘ線発
生装置から発生されたＸ線を２次ターゲットに照射して
得られる特性Ｘ線を所定の入射角で被測定メッキ鋼板へ
入射し、これによって被測定メッキ鋼板から発生する分
析目的元素のに系列蛍光Ｘ線強度を２個の検出器を用い
て所定の受光角で検出する。
生装置から発生されたＸ線を２次ターゲットに照射して
得られる特性Ｘ線を所定の入射角で被測定メッキ鋼板へ
入射し、これによって被測定メッキ鋼板から発生する分
析目的元素のに系列蛍光Ｘ線強度を２個の検出器を用い
て所定の受光角で検出する。
そして、この２個の検出器で測定した蛍光Ｘ線強度又は
強度比を理論強度又は強度比に変換し、またメッキ付Ｈ
ｍおよびメッキ被膜組成を可変パラメータとして理論計
算式により理論強度又は強度比を計算しこの計算値が前
記変換値にづくパラメータから被測定メッキ鋼板のメッ
キ付着量およびメッキ被膜組成を得るものである。
強度比を理論強度又は強度比に変換し、またメッキ付Ｈ
ｍおよびメッキ被膜組成を可変パラメータとして理論計
算式により理論強度又は強度比を計算しこの計算値が前
記変換値にづくパラメータから被測定メッキ鋼板のメッ
キ付着量およびメッキ被膜組成を得るものである。
また、請求項４に対応する発明は、請求項３に対応する
発明に記載する反射型の２次ターゲット部に代えて透過
型の２次ターゲットを設けた構成である。
発明に記載する反射型の２次ターゲット部に代えて透過
型の２次ターゲットを設けた構成である。
さらに、請求項５に対応する発明は、Ｘ線発生装置、反
射型２次ターゲット部、スリット系および２個の検出器
等からなる測定系のほか、これらの測定系で得られるべ
き理論強度又は強度比の検量線を記憶する記憶手段と、
実際に測定される蛍光Ｘ線強度又は強度比と検量線によ
り得られる蛍光Ｘ線強度又は強度比の差を最小にするメ
ッキ付着量およびメッキ被膜組成を求める手段とを備え
たものである。
射型２次ターゲット部、スリット系および２個の検出器
等からなる測定系のほか、これらの測定系で得られるべ
き理論強度又は強度比の検量線を記憶する記憶手段と、
実際に測定される蛍光Ｘ線強度又は強度比と検量線によ
り得られる蛍光Ｘ線強度又は強度比の差を最小にするメ
ッキ付着量およびメッキ被膜組成を求める手段とを備え
たものである。
この装置においては、理論計算式に代えて検量線を用い
て上記とほぼ同一の信号処理手段により、被測定メッキ
鋼板のメッキ付着量およびメッキ被膜組成を測定する。
て上記とほぼ同一の信号処理手段により、被測定メッキ
鋼板のメッキ付着量およびメッキ被膜組成を測定する。
さらに、請求項６に対応する発明は、前記請求項５に対
応する発明の反射型２次ターゲット部に代えて透過型２
次ターゲット部を設けた構成である。
応する発明の反射型２次ターゲット部に代えて透過型２
次ターゲット部を設けた構成である。
以下、本発明の詳細な説明するに先立ち、オンライン測
定に適したものとするために、次のような条件を満たす
測定系で構成するものとする。
定に適したものとするために、次のような条件を満たす
測定系で構成するものとする。
（イ） 入射Ｘ線は市販のＸ線管を用いて十分な蛍光Ｘ
線強度が得られること。
線強度が得られること。
（ロ） Ｘ線入射角、蛍光Ｘ線の受光角等の測定角はオ
ンラインで実現可能な測定角、っまり５＠以上とするこ
と。
ンラインで実現可能な測定角、っまり５＠以上とするこ
と。
また、メッキ鋼板から発生する蛍光Ｘ線の強度は放射線
検出器で測定するが、望ましくは半導体検出器を用いて
測定する。
検出器で測定するが、望ましくは半導体検出器を用いて
測定する。
次に、Ｚｎ−Ｆｅ合金メッキ鋼板のメッキ付着量および
メッキ被膜組成（Ｆｅ％）を測定する方法の実施例につ
いて説明する。
メッキ被膜組成（Ｆｅ％）を測定する方法の実施例につ
いて説明する。
すなわち、この測定方法は、第１図および第２図に示す
如く被測定メッキ鋼板１１上に２ｗｉ類の異なる２次タ
ーゲットから発生する特性Ｘ＠１．。
如く被測定メッキ鋼板１１上に２ｗｉ類の異なる２次タ
ーゲットから発生する特性Ｘ＠１．。
■２を入射角φ１．φ２で照射しこのとき被測定メッキ
鋼板１１から発生するＦｅｋａ線の強度およびＺｎｋａ
線の強度を受光角ψ１．ψ２で測定する。そこで、この
測定角（φ１．ψ、）の条件下で測定したＦｅｋａ線強
度、Ｚｎｋａ線強度をそれぞれＩ’Ｐ＃Ｊ Ｉ’ｚａ
とし、また測定角（φ２゜ψ２）の条件下で測定したＦ
ｅｋａ線強度。
鋼板１１から発生するＦｅｋａ線の強度およびＺｎｋａ
線の強度を受光角ψ１．ψ２で測定する。そこで、この
測定角（φ１．ψ、）の条件下で測定したＦｅｋａ線強
度、Ｚｎｋａ線強度をそれぞれＩ’Ｐ＃Ｊ Ｉ’ｚａ
とし、また測定角（φ２゜ψ２）の条件下で測定したＦ
ｅｋａ線強度。
Ｚｎｋａ線強度をそれぞれ１２Ｐ ＠ ｌ Ｉ２Ｚ
ｍとし、Ｘ ｔ ” Ｉ’Ｐ−／ Ｉ’Ｚ。
ｍとし、Ｘ ｔ ” Ｉ’Ｐ−／ Ｉ’Ｚ。
Ｘ ２ ” Ｆｐ＊／ ＦＺａ
なる演算を行う（Ｓｌ）。さらに、Ｘｌ、Ｘ２を用いて
理論値Ｙ、、Ｙ２に変換する。ここで、Ｘ、、Ｘ２を理
論値Ｙ、、Ｙ２に変換するに際し、理論値とは測定条件
と同じ入射Ｘ線、幾何学的条件で測定した場合に得られ
る蛍光Ｘ線強度を、メッキ鋼板のメッキ付着量およびメ
ッキ被膜組成をパラメータとして理論計算式により計算
しこの値に基づいて前記Ｘ ｔ 、 Ｘ ２に対応する
値として求めたものである。実際の測定値は検出器の感
度特性、スリット系の影響等によりこれらの理論強度と
は異なった値となる。
理論値Ｙ、、Ｙ２に変換する。ここで、Ｘ、、Ｘ２を理
論値Ｙ、、Ｙ２に変換するに際し、理論値とは測定条件
と同じ入射Ｘ線、幾何学的条件で測定した場合に得られ
る蛍光Ｘ線強度を、メッキ鋼板のメッキ付着量およびメ
ッキ被膜組成をパラメータとして理論計算式により計算
しこの値に基づいて前記Ｘ ｔ 、 Ｘ ２に対応する
値として求めたものである。実際の測定値は検出器の感
度特性、スリット系の影響等によりこれらの理論強度と
は異なった値となる。
そこで、本発明方法では、以下の換算式を用いて実測値
Ｘｌ、Ｘ２を理論値Ｙ、、Ｙ２に変換する（Ｓ２）。
Ｘｌ、Ｘ２を理論値Ｙ、、Ｙ２に変換する（Ｓ２）。
Ｙ、−ａｌ ｘ１＋ｂｌ
Ｙｚ ＝ａ２ Ｘ２ ＋ｂ２
なお、上式においてａ ｌ ＋ ａ ２ ｒ ｂ
ｌ ＋ ｂ２は変換係数であって、これは予めメッキ付
着量およびメッキ被膜組成を既知とする標準試料を用い
、前記理論計算式を求めたのと同じ条件で蛍光Ｘ線強度
又は強度比を実測しこの実測値を前記理論計算式を用い
て理論強度又は強度比に換算することにより求める。す
なわち、標準試料のメッキ付着量およびメッキ被膜組成
を用いて理論計算式で計算した値をＹ、、Ｙ２とし、実
測蛍光Ｘ線強度から計算したＸ、、Ｉ２との間に上記式
が成立するように、回帰分析等によって変換係数ａｌ。
ｌ ＋ ｂ２は変換係数であって、これは予めメッキ付
着量およびメッキ被膜組成を既知とする標準試料を用い
、前記理論計算式を求めたのと同じ条件で蛍光Ｘ線強度
又は強度比を実測しこの実測値を前記理論計算式を用い
て理論強度又は強度比に換算することにより求める。す
なわち、標準試料のメッキ付着量およびメッキ被膜組成
を用いて理論計算式で計算した値をＹ、、Ｙ２とし、実
測蛍光Ｘ線強度から計算したＸ、、Ｉ２との間に上記式
が成立するように、回帰分析等によって変換係数ａｌ。
ａ２．ｂｌ、ｂ２を予め求めておく。
このように理論計算式を使用し・、実際の測定系との差
を標準試料を使用して構成する方法を採用したので、少
ない標準試料を用いてメッキ付着量およびメッキ被膜組
成と蛍光Ｘ線強度又は強度比の関係式を求めることがで
きる。
を標準試料を使用して構成する方法を採用したので、少
ない標準試料を用いてメッキ付着量およびメッキ被膜組
成と蛍光Ｘ線強度又は強度比の関係式を求めることがで
きる。
次に、Ｓ２において理論値Ｙｓ、Ｙｚを求めたならば、
引き続き、メッキ付着量およびＦｅ％を可変したパラメ
ータＰｋ（ｋ−１）を用いて、既存の蛍光Ｘ線強度計算
式から上記Ｙｌ、Ｙ２に対応するＹ、、Ｙ２を求める（
９３．Ｓ４）。しかる後、Ｓ５に移行し、ここでは、 （Ｙ＋ Ｙｌ ） ２＋ （Ｙ２ ＋Ｙ２ ） ２な
る演算をを行い、さらにパラメータＰｋを変えて同様な
演算を行い（Ｓ６．Ｓ４．Ｓ５）、これら演算値のψで
最も小さくなる演算値のときのパラメータの値を決定し
くＳ７）、この決定パラメータ値をもってメッキ付Ｈ１
ｔおよびＦｅ％とすることにより、被測定メッキ鋼板１
１のメッキ付着量およびメッキ被膜組成を得るものであ
る。
引き続き、メッキ付着量およびＦｅ％を可変したパラメ
ータＰｋ（ｋ−１）を用いて、既存の蛍光Ｘ線強度計算
式から上記Ｙｌ、Ｙ２に対応するＹ、、Ｙ２を求める（
９３．Ｓ４）。しかる後、Ｓ５に移行し、ここでは、 （Ｙ＋ Ｙｌ ） ２＋ （Ｙ２ ＋Ｙ２ ） ２な
る演算をを行い、さらにパラメータＰｋを変えて同様な
演算を行い（Ｓ６．Ｓ４．Ｓ５）、これら演算値のψで
最も小さくなる演算値のときのパラメータの値を決定し
くＳ７）、この決定パラメータ値をもってメッキ付Ｈ１
ｔおよびＦｅ％とすることにより、被測定メッキ鋼板１
１のメッキ付着量およびメッキ被膜組成を得るものであ
る。
次に、以上ような測定方法を用いたときの分析結果につ
いて具体的に説明する。今、Ｘｌの測定条件として入射
Ｘ線１１、測定角（φ１．ψ１）、Ｉ２の測定条件とし
て入射Ｘ線Ｉ２、測定角（φ２．ψ２）とする。
いて具体的に説明する。今、Ｘｌの測定条件として入射
Ｘ線１１、測定角（φ１．ψ１）、Ｉ２の測定条件とし
て入射Ｘ線Ｉ２、測定角（φ２．ψ２）とする。
なお、荊述した（イ）の条件を満足させるためにＸ線管
、２次ターゲットとしては、例えば入射Ｘ線１１を得る
ためにタングステン・フィラメントＸ線管およびタング
ステン板を用い、また入射Ｘ線Ｉ２を得るためにタング
ステン・フィラメントＸ線管およびモリブデン板を用い
る。そして、このようなＸ線管、２次ターゲットを用い
れば、低角側の測定角（φ１ （≦φ２）ψ、（≦φ２
））を１５°以上とすることができ、前記（ロ）の条件
を充分に満足させることができる。その結果、メッキ鋼
板１１面のバタツキによる測定距離および測定角の変動
の影響を小さくできる。
、２次ターゲットとしては、例えば入射Ｘ線１１を得る
ためにタングステン・フィラメントＸ線管およびタング
ステン板を用い、また入射Ｘ線Ｉ２を得るためにタング
ステン・フィラメントＸ線管およびモリブデン板を用い
る。そして、このようなＸ線管、２次ターゲットを用い
れば、低角側の測定角（φ１ （≦φ２）ψ、（≦φ２
））を１５°以上とすることができ、前記（ロ）の条件
を充分に満足させることができる。その結果、メッキ鋼
板１１面のバタツキによる測定距離および測定角の変動
の影響を小さくできる。
なお、ＸｌとＩ２によりメッキ付着量およびＦｅ％に対
する特性に差があるほど精度が向上するので、Ｉ２は１
１に比べてメッキ被膜に対する減衰が小さい入射Ｘ線と
し、測定角（φ２．φ２）も（φ１．ψ１〉に比べて大
きい角度とし、蛍光Ｘ線を検出できる最大深さ、つまり
分析深さを大きくした。さらに、測定距離変動を小さく
するためには、入射Ｘ線のビーム径を小さくし、かつ、
検出器の視野を大きくし、測定距離変動に拘らず入射ｘ
ｖＡを検出することが望ましい。そこで、入射側はφ２
〜５■のピンホールコリメータ、受光側は検出器の窓を
開放とすることにより実現できる。
する特性に差があるほど精度が向上するので、Ｉ２は１
１に比べてメッキ被膜に対する減衰が小さい入射Ｘ線と
し、測定角（φ２．φ２）も（φ１．ψ１〉に比べて大
きい角度とし、蛍光Ｘ線を検出できる最大深さ、つまり
分析深さを大きくした。さらに、測定距離変動を小さく
するためには、入射Ｘ線のビーム径を小さくし、かつ、
検出器の視野を大きくし、測定距離変動に拘らず入射ｘ
ｖＡを検出することが望ましい。そこで、入射側はφ２
〜５■のピンホールコリメータ、受光側は検出器の窓を
開放とすることにより実現できる。
次に、他のもう１つの発明方法としては、多数の標準試
料を使用することが可能な場合、前記理論計算式に代え
て標準試料を使用してメッキ付着量およびメッキ被膜組
成と蛍光Ｘ線強度又は強度比の関係式、すなわち検量線
を用いて被測定メッキ鋼板１１のメッキ付着量およびメ
ッキ被膜組成を求めてもよい。
料を使用することが可能な場合、前記理論計算式に代え
て標準試料を使用してメッキ付着量およびメッキ被膜組
成と蛍光Ｘ線強度又は強度比の関係式、すなわち検量線
を用いて被測定メッキ鋼板１１のメッキ付着量およびメ
ッキ被膜組成を求めてもよい。
次に、本発明装置の実施例について第３図を用いて説明
する。同図において１１は被測定メッキ鋼板であって、
このメッキ鋼板１１の上部に測定系１２が設置されてい
る。この測定系１２には所定の方向にＸ線を発生する２
個のＸ線管２１゜３１と、このＸ線管２１．３１からス
リットとして機能するピンホールコリメータ２２．３２
を介して入射される白色Ｘ線によって特性Ｘ線を発生し
、かつ、この発生された特性Ｘ線を所望の入Ｉｔ角度で
被測定メッキ鋼板１１へ入射する反射型２次ターゲット
２３．３３と、被測定メッキ鋼板１１から得られた°蛍
光Ｘ線強度を幅可変の平板スリット２４．３４を介して
測定する検出器２５゜３５とによって構成されている。
する。同図において１１は被測定メッキ鋼板であって、
このメッキ鋼板１１の上部に測定系１２が設置されてい
る。この測定系１２には所定の方向にＸ線を発生する２
個のＸ線管２１゜３１と、このＸ線管２１．３１からス
リットとして機能するピンホールコリメータ２２．３２
を介して入射される白色Ｘ線によって特性Ｘ線を発生し
、かつ、この発生された特性Ｘ線を所望の入Ｉｔ角度で
被測定メッキ鋼板１１へ入射する反射型２次ターゲット
２３．３３と、被測定メッキ鋼板１１から得られた°蛍
光Ｘ線強度を幅可変の平板スリット２４．３４を介して
測定する検出器２５゜３５とによって構成されている。
２６．３６はピンホールコリメータである。また、これ
らＸ線管２１．３１、反射型２次ターゲット２３．３３
、スリット２２．２４．３２，３４、検出器２５゜３５
等は駆動制御部１３からの駆動制御信号で位置調整可能
となっている。
らＸ線管２１．３１、反射型２次ターゲット２３．３３
、スリット２２．２４．３２，３４、検出器２５゜３５
等は駆動制御部１３からの駆動制御信号で位置調整可能
となっている。
１４は信号処理手段であって、これは２個の検出器２５
．３５で測定された蛍光Ｘ線強度又は強度比を理論強度
又は強度比、つまり理論値に変換する理論値変換手段１
５、メッキ付着量およびＦｃ％を可変パラメータとして
既存の蛍光Ｘ線強度計算式により理論値を計算する理論
値計算手段１６、前記理論値変換手段１５で褥た理論値
と理論値計算手段１６で得られた理論値とが等しくなる
パラメータを決定するパラメータ値決定手段１７等によ
って構成され、このパラメータ値をメッキ付着量および
メッキ被膜組成とすることにより、被測定メッキコウハ
ンのメッキ付着量およびメッキ被膜組成を得るものであ
る。
．３５で測定された蛍光Ｘ線強度又は強度比を理論強度
又は強度比、つまり理論値に変換する理論値変換手段１
５、メッキ付着量およびＦｃ％を可変パラメータとして
既存の蛍光Ｘ線強度計算式により理論値を計算する理論
値計算手段１６、前記理論値変換手段１５で褥た理論値
と理論値計算手段１６で得られた理論値とが等しくなる
パラメータを決定するパラメータ値決定手段１７等によ
って構成され、このパラメータ値をメッキ付着量および
メッキ被膜組成とすることにより、被測定メッキコウハ
ンのメッキ付着量およびメッキ被膜組成を得るものであ
る。
次に、以上のように構成された装置の動作を説明する。
２つのＸ線管２１．３１から発生された白色Ｘ線はピン
ホールコリメータ２２．３２を通り、さらに反射型２次
ターゲット２３．３３に当たって特性Ｘ線を発生する。
ホールコリメータ２２．３２を通り、さらに反射型２次
ターゲット２３．３３に当たって特性Ｘ線を発生する。
この２次ターゲット２３．３３から発生された特性Ｘ線
は被測定メ・ソキ鋼板１１に対しそれぞれ入射角φ３．
φ２なる角度で照射される。なお、Ｘ線管２１から発生
される白色Ｘ線を反射型２次ターゲット２３に照射し、
これからメッキ被膜に対して減衰が大きい入射ｘ！ＩＩ
＋を取り出して被測定メッキ鋼板１１への入射Ｘ線とし
、一方、Ｘ線管３１側で発生される白色Ｘ線を反射型２
次ターゲット３３に照射し、これから入射Ｘ線１１に比
べてメッキ被膜に対して減衰がはるかに小さい入射Ｘ線
Ｉ２を取り出して被測定メッキ鋼板１１への入射Ｘ線と
する。
は被測定メ・ソキ鋼板１１に対しそれぞれ入射角φ３．
φ２なる角度で照射される。なお、Ｘ線管２１から発生
される白色Ｘ線を反射型２次ターゲット２３に照射し、
これからメッキ被膜に対して減衰が大きい入射ｘ！ＩＩ
＋を取り出して被測定メッキ鋼板１１への入射Ｘ線とし
、一方、Ｘ線管３１側で発生される白色Ｘ線を反射型２
次ターゲット３３に照射し、これから入射Ｘ線１１に比
べてメッキ被膜に対して減衰がはるかに小さい入射Ｘ線
Ｉ２を取り出して被測定メッキ鋼板１１への入射Ｘ線と
する。
そして、入射Ｘ線Ｉ、、１２を照射後、被測定メッキ鋼
板１１から発生するＺｎ、Ｆｅのにα線強度をそれぞれ
受光角ψ１．ψ２の角度をもって検出器２５．３５で検
出する。しかる後、理論値変換手段１５を用いて雨検出
器２５．３５で得ら。
板１１から発生するＺｎ、Ｆｅのにα線強度をそれぞれ
受光角ψ１．ψ２の角度をもって検出器２５．３５で検
出する。しかる後、理論値変換手段１５を用いて雨検出
器２５．３５で得ら。
れた蛍光Ｘ線強度等に基づいて前記ＸＩ、Ｘ２を求めた
後、これを理論値に変換し、パラメータ値決定手段１７
に送出する。一方、理論値計算手段１６ではメッキ付着
量およびＦｅ％を順次可変パラメータとしながら既存の
蛍光Ｘ線強度計算式により理論値を求めながらパラメー
タ値決定手段１７に送出する。そこで、このパラメータ
値決定手段１７では、理論値変換手段１５から送られて
くる理論値と順次理論値計算手段１６でパラメータを変
えて得られる理論値とを用いて所定の演算を実行し、両
理論値が等しくなるときのパラメータ値を決定しこのパ
ラメータ値から被測定メ・ソキ鋼板１１のメッキ付着量
およびメッキ被膜組成を得るものである。
後、これを理論値に変換し、パラメータ値決定手段１７
に送出する。一方、理論値計算手段１６ではメッキ付着
量およびＦｅ％を順次可変パラメータとしながら既存の
蛍光Ｘ線強度計算式により理論値を求めながらパラメー
タ値決定手段１７に送出する。そこで、このパラメータ
値決定手段１７では、理論値変換手段１５から送られて
くる理論値と順次理論値計算手段１６でパラメータを変
えて得られる理論値とを用いて所定の演算を実行し、両
理論値が等しくなるときのパラメータ値を決定しこのパ
ラメータ値から被測定メ・ソキ鋼板１１のメッキ付着量
およびメッキ被膜組成を得るものである。
ちなみに、第４図および第５図は第３図の装置を用いて
得られた分析結果を示す図である。そのうち、第４図は
メッキ付着量、第５図はメッキ被膜組成を示す。これら
の図から明らかなように、測定距離変動、測定角度変動
および温湿度変動等を加わる実ラインであるにも拘らず
、測定時間１０秒という短い時間で高精度に測定できる
。また、この分析値はＦｅまたはＺｎの蛍光Ｘ線強度で
はなく、ＦｅおよびＺｎの蛍光Ｘ線の強度比から求めた
が、この強度比を取ることにより温湿度変動、経時変化
の影響を低減できる。
得られた分析結果を示す図である。そのうち、第４図は
メッキ付着量、第５図はメッキ被膜組成を示す。これら
の図から明らかなように、測定距離変動、測定角度変動
および温湿度変動等を加わる実ラインであるにも拘らず
、測定時間１０秒という短い時間で高精度に測定できる
。また、この分析値はＦｅまたはＺｎの蛍光Ｘ線強度で
はなく、ＦｅおよびＺｎの蛍光Ｘ線の強度比から求めた
が、この強度比を取ることにより温湿度変動、経時変化
の影響を低減できる。
なお、本発明装置は理論計算式を用いて行ったか、この
理論計算式に代えて検量線を用いて行ってもよい。
理論計算式に代えて検量線を用いて行ってもよい。
また、第３図では、２管球方式を用いたが、通常のＸ線
管は複数のＸ線取り出し窓を持つので、１管球方式とす
ることも可能である。
管は複数のＸ線取り出し窓を持つので、１管球方式とす
ることも可能である。
その他、本発明はその要旨を逸脱しない範囲で種々変形
して実施できる。
して実施できる。
以上説明したように本発明によれば次に述べるように種
々の効果を奏する。
々の効果を奏する。
先ず、請求項１，２の発明においては、２次ターゲット
を用いることによってメッキ被膜による吸収の大きな波
長のＸ線を取り出して被測定メッキ鋼板に照射するので
、従来に比べて大きな測定角で蛍光Ｘ線強度を測定でき
、被測定メッキ鋼板のバタツキによる測定距離変動およ
び測定角変動の影響を低減でき、かつ、入ｔ４．Ｉ Ｘ
線のスペクトル変動の影響を小さくできる。また、入射
Ｘ線として２次ターゲットから発生する特性Ｘ線を用い
ているために波長積分を必要とせず、測定精度の向上お
よび測定時間の短縮化を図ることができる。
を用いることによってメッキ被膜による吸収の大きな波
長のＸ線を取り出して被測定メッキ鋼板に照射するので
、従来に比べて大きな測定角で蛍光Ｘ線強度を測定でき
、被測定メッキ鋼板のバタツキによる測定距離変動およ
び測定角変動の影響を低減でき、かつ、入ｔ４．Ｉ Ｘ
線のスペクトル変動の影響を小さくできる。また、入射
Ｘ線として２次ターゲットから発生する特性Ｘ線を用い
ているために波長積分を必要とせず、測定精度の向上お
よび測定時間の短縮化を図ることができる。
また、測定上必要な標準試料は実測値から理論値への変
換パラメータを求めるために数種類でよく、オンライン
に適するものとすることができる。
換パラメータを求めるために数種類でよく、オンライン
に適するものとすることができる。
次に、請求項３〜６の発明では、非常に簡単な構成で実
現でき、かつ、オンラインで被測定メッキ鋼板のメッキ
付着量およびメッキ被膜組成を高精度で測定でき、メッ
キ製品の品質向上に大きく貢献させることができる。
現でき、かつ、オンラインで被測定メッキ鋼板のメッキ
付着量およびメッキ被膜組成を高精度で測定でき、メッ
キ製品の品質向上に大きく貢献させることができる。
第１図は本発明方法を用いたときのＸ線と被測定メッキ
鋼板との関係を示す図、第２図は同じく本発明方法によ
る分析動作を説明する図、第３図は本発明装置の一実施
例を示す構成図、第４図および第５図は本発明装置を用
いて得られる分析結果の図である。 １１・・・被測定メッキ鋼板、１２・・・測定系、２１
゜３１・・・Ｘ線管（Ｘ線発生装置）、２３．３３・・
・２次ターゲット、２５．３５・・・検出器、１３・・
・駆動制御部、１４・・・信号処理手段、１５・・・理
論値変換手段、１６・・・理論値計算手段、１７・・・
パラメータ値決定手段。
鋼板との関係を示す図、第２図は同じく本発明方法によ
る分析動作を説明する図、第３図は本発明装置の一実施
例を示す構成図、第４図および第５図は本発明装置を用
いて得られる分析結果の図である。 １１・・・被測定メッキ鋼板、１２・・・測定系、２１
゜３１・・・Ｘ線管（Ｘ線発生装置）、２３．３３・・
・２次ターゲット、２５．３５・・・検出器、１３・・
・駆動制御部、１４・・・信号処理手段、１５・・・理
論値変換手段、１６・・・理論値計算手段、１７・・・
パラメータ値決定手段。
Claims (6)
- （１）以下の（ａ）〜（ｄ）の工程から成る被測定メッ
キ鋼板のメッキ付着量およびメッキ被膜組成の測定方法
。 （ａ）Ｘ線発生装置から発生するＸ線を２種類の２次タ
ーゲットに照射し、それぞれの２次ターゲットから発生
する特性Ｘ線をそれぞれ所定の入射角でメッキ鋼板に照
射した場合にメッキ鋼板から得られる分析目的元素のＫ
系列の蛍光Ｘ線の所定の受光角における強度又は強度比
の理論計算式を予め定めておく工程、 （ｂ）メッキ付着量およびメッキ被膜組成が既知の標準
試料を用い、前記理論計算式を求めたのと同じ条件で、
蛍光Ｘ線強度又は強度比を実測しこの実測値を前記理論
計算式により理論計算値に換算する変換係数を予め求め
ておく工程、 （ｃ）前記理論計算式を求めたのと同じ条件で、メッキ
付着量およびメッキ被膜組成が未知の被測定メッキ鋼板
から得られる前記蛍光Ｘ線強度又は強度比を測定し、前
記変換係数を使用して理論強度又は強度比に変換する工
程、 （ｄ）理論計算式より得られる理論強度又は強度比を、
前記変換された理論強度又は強度比に最も近づける、理
論計算式中のパラメータであるメッキ付着量および被膜
組成を、前記被測定メッキ鋼板のメッキ付着量およびメ
ッキ被膜組成とする工程。 - （２）以下の（ａ）〜（ｂ）の工程から成る被測定メッ
キ鋼板のメッキ付着量およびメッキ被膜組成の測定方法
。 （ａ）Ｘ線発生装置から発生するＸ線を２種類の２ター
ゲットに照射し、それぞれの２次ターゲットから発生す
る特性Ｘ線をそれぞれ所定の入射角で、メッキ付着量お
よびルメッキ被膜組成が既知の標準試料に照射した場合
に標準試料から得られる分析目的元素のＫ系列の蛍光Ｘ
線の所定の受光角における強度又は強度比の検量線をメ
ッキ付着量およびメッキ被膜組成をパラメータとして予
め求めておく工程、 （ｂ）前記検量線を求めたのと同じ条件で、メッキ付着
量およびメッキ被膜組成が未知の被測定メッキ鋼板から
得られる前記蛍光Ｘ線強度又は強度比を測定する工程、 （ｃ）検量線より得られる蛍光Ｘ線強度又は強度比を、
前記測定された蛍光Ｘ線強度または強度比に最も近づけ
る、検量線中のパラメータであるメッキ付着量およびメ
ッキ被膜組成を、前記被測定メッキ鋼板のメッキ付着量
およびメッキ被膜組成とする工程。 - （３）Ｘ線を発生するＸ線発生装置と、このＸ線発生装
置から発生するＸ線を照射して発生する特性Ｘ線を被測
定メッキ鋼板への入射Ｘ線とする反射型の２次ターゲッ
ト部と、Ｘ線のパスラインを決めて被測定メッキ鋼板に
所定の入射角で投射するとともに所定の受光角で受光す
るスリット系と、被測定メッキ鋼板から発生する分析目
的元素のＫ系列蛍光Ｘ線強度をそれぞれ所定の角度で測
定する２個の検出器と、これらの測定系で得られるべき
理論強度又は強度比の理論計算式を記憶する手段と、実
際に測定された蛍光Ｘ線強度又は強度比を理論強度又は
強度比に変換する手段と、この変換された理論強度又は
強度比と理論計算式により得られる理論強度又は強度比
の差を最小にするメッキ付着量およびメッキ被膜組成を
求める手段とを備えたメッキ鋼板のメッキ付着量および
メッキ被膜組成の測定装置。 - （４）Ｘ線を発生するＸ線発生装置と、このＸ線発生装
置から発生するＸ線を照射して発生する特性Ｘ線を被測
定メッキ鋼板への入射Ｘ線とする透過型の２次ターゲッ
ト部と、Ｘ線のパスラインを決めて被測定メッキ鋼板に
所定の入射角で投射するとともに所定の受光角で受光す
るスリット系と、メッキ鋼板から発生する分析目的元素
のＫ系列蛍光Ｘ線強度をそれぞれ所定の角度で測定する
２個の検出器と、これらの測定系で得られべき理論強度
又は強度比の理論計算式を記憶する手段と、実際に測定
された蛍光Ｘ線強度または強度比を理論強度又は強度比
に変換する手段と、この変換された理論強度又は強度比
の差を最小にするメッキ付着およびメッキ被膜組成を求
める手段とを備えたメッキ鋼板のメッキ付着量およびメ
ッキ被膜組成の測定装置。 - （５）Ｘ線を発生するＸ線発生装置と、このＸ線発生装
置から発生するＸ線を照射して発生する特性Ｘ線を被測
定メッキ鋼板への入射Ｘ線とする反射型の２次ターゲッ
ト部と、Ｘ線のパラインを決めて被測定メッキ鋼板に所
定の入射角で投射するとともに所定の受光角で受光する
スリット系と、被測定メッキ鋼板から発生する分析目的
元素のＫ系列蛍光Ｘ線強度をそれぞれ所定の角度で測定
する２個の検出器と、これらの測定系で得られるべき理
論強度又は強度比の検量線を記憶する手段と、実際に測
定される蛍光Ｘ線強度又は強度比と検量線より得られる
蛍光Ｘ線強度又は強度比の差を最小にするメッキ付着量
およびメッキ被膜組成を求める手段とを備えたメッキ鋼
板のメッキ付着量およびメッキ被膜組成の測定装置。 - （６）Ｘ線を発生するＸ線発生装置と、このＸ線発生装
置から発生するＸ線を照射して発生する特性Ｘ線を被測
定メッキ鋼板への入射Ｘ線とする透過型の２次ターゲッ
ト部と、Ｘ線のパスラインを決めて被測定メッキ鋼板に
所定の入射角で投射するとともに所定の受光角で受光す
るスリット系と、被測定メッキ鋼板から発生する分析目
的元素のＫ系列蛍光Ｘ線強度をそれぞれ所定の角度で測
定する２個の検出器と、これらの測定系で得られるべき
理論強度又は強度比の検量線を記憶する手段と、実際に
測定される蛍光Ｘ線強度又は強度比と検量線より得られ
る蛍光Ｘ線強度又は強度比の差を最小にするメッキ付着
量及びメッキ被膜組成を求める手段とを備えたメッキ鋼
板のメッキ付着量及びメッキ被膜組成の測定装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16938489A JPH0335149A (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | メッキ鋼板のメッキ付着量およびメッキ被膜組成の測定方法およびその測定装置 |
| US07/476,251 US5081658A (en) | 1989-03-30 | 1990-02-07 | Method of measuring plating amount and plating film composition of plated steel plate and apparatus therefor |
| CA002009698A CA2009698C (en) | 1989-03-30 | 1990-02-09 | Method of measuring plating amount and plating film composition of plated steel plate and apparatus therefor |
| EP90102910A EP0389774B1 (en) | 1989-03-30 | 1990-02-14 | Method of measuring plating amount and plating film composition of plated steel plate and apparatus therefor |
| DE69026748T DE69026748T2 (de) | 1989-03-30 | 1990-02-14 | Verfahren zur Messung der Plattierungsrate und der Zusammensetzung einer Plattierungsschicht eines plattierten Stahlbleches und Vorrichtung für diesen Zweck |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16938489A JPH0335149A (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | メッキ鋼板のメッキ付着量およびメッキ被膜組成の測定方法およびその測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0335149A true JPH0335149A (ja) | 1991-02-15 |
Family
ID=15885598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16938489A Pending JPH0335149A (ja) | 1989-03-30 | 1989-06-30 | メッキ鋼板のメッキ付着量およびメッキ被膜組成の測定方法およびその測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0335149A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ES2114490A1 (es) * | 1996-05-07 | 1998-05-16 | Acerinox Sa | Metodo para el microanalisis cuantitativo de rayos x de aleaciones metalicas basado en un conjunto de muestras patron de la aleacion y un modelo matematico de ajuste. |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58223047A (ja) * | 1982-06-18 | 1983-12-24 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 螢光ｘ線分析方法 |
| JPS6184511A (ja) * | 1984-10-03 | 1986-04-30 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 二成分合金膜の成分比と膜厚の同時測定法 |
-
1989
- 1989-06-30 JP JP16938489A patent/JPH0335149A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58223047A (ja) * | 1982-06-18 | 1983-12-24 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 螢光ｘ線分析方法 |
| JPS6184511A (ja) * | 1984-10-03 | 1986-04-30 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 二成分合金膜の成分比と膜厚の同時測定法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ES2114490A1 (es) * | 1996-05-07 | 1998-05-16 | Acerinox Sa | Metodo para el microanalisis cuantitativo de rayos x de aleaciones metalicas basado en un conjunto de muestras patron de la aleacion y un modelo matematico de ajuste. |
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