JPH0336292A - めっき槽 - Google Patents

めっき槽

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JPH0336292A
JPH0336292A JP16810689A JP16810689A JPH0336292A JP H0336292 A JPH0336292 A JP H0336292A JP 16810689 A JP16810689 A JP 16810689A JP 16810689 A JP16810689 A JP 16810689A JP H0336292 A JPH0336292 A JP H0336292A
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JP
Japan
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strip
plating
electromagnetic
distance
anodes
Prior art date
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Pending
Application number
JP16810689A
Other languages
English (en)
Inventor
Akio Sakurai
桜井 昭雄
Takao Ikenaga
池永 孝雄
Hiroshi Horyoda
法領田 宏
Osamu Shin
修 進
Ryoichi Mukai
亮一 向
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
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Publication date
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Publication of JPH0336292A publication Critical patent/JPH0336292A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、金属帯(以下ストリップという)に高い電流
密度で、かつ高いス)−リ・ンブ走行速度でめつきする
のに適しためつき槽に関する。
〈従来の技術〉 ストリップの電気めっきにおいて、高い電流密度で高速
処理を可能にする多くの技術が開示さかている。
高電流密度処理を可能とするためには、i)高電流密度
によって発生量の増大するガスを、ストリップ表面や電
極表面からいかにして除去するか、 ii〉限界電流密度をいかに高めるか、あるいはめっき
金属イオンの供給不足によって生ずるめっき効率低下を
いかにして防ぐか、という点が最大のポイントである。
ストリップ進行方向中央部にめっき液を供給し、その静
圧によってストリップのパスラインを固定すると共に効
率のより電解処理を行う方法として、例えば特公昭61
−21319号公報、特公昭61−22040号公報に
開示されている。
また、2対の電極の両側に配置した1対の通電ロールの
中間位置にサポートロールを設け、スI・リップの支持
間隔を短縮することによってストリップのパスラインを
安定させたものとして、例えば特開昭60−14979
5号公報に開示されている。
また、上下電極間に、ストリップの通板方向左右対称位
置であって、かっストリップを挟んで上下1対をなすガ
イドローラを配設し、ストリップのパスラインを安定さ
せたものとして、例えば特開昭60−156174号公
報に開示されている。
〈発明が解決しようどする課題〉 どころで、前記静圧による方法はストリップのパスライ
ンの安定には効果があるが、めっき液の流動状態が流体
支持ノズルの上流側はストリップに対し向流方向であり
、下流側は並流方向であるため、めっき組成が不均一に
なるという問題がある。 また、流体支持ノズルから供
給されるめっき液の上流側と下流側への分配比がライン
速度に左右されるため、ライン速度を任意に変更できな
いという問題がある。
また、前記サポートロールを設ける方法はストリップの
支持間隔の短縮によりカテナリー量を低減できるという
効果があり、またパスラインの安定度も向上するが、め
っき品質向上の根本的な解決とはなっていない。
また、前記ガイトローラを設ける方法は、ストリップの
パスラインの安定は得られるかストリップを機械的に支
持するものであるため、めっき面がガイドローラの接触
により不均一になり、かつめっき面を傷つけるという問
題がある。 また、対向する電極間の間隔の変更が困難
である。 ストリップ幅の変更やストリップの蛇行に対
する追従性が低い等の問題がある。
本発明は、これら従来技術の問題点を解決して、ストリ
ップのパスラインを安定させ、かつ電流密度を均一化し
て優れためつき組成が得られるめっき槽を提供すること
を目的としている。
< i’!題を解決するための手段〉 上記目的を遠戚するために、本発明によれば通過するス
トリップの両面に対向して配置した不溶性陽極で構成さ
れた空陣内に、めっき液を供給してめっきを行うめつき
槽において、前記各不溶性陽極の長手方向中央部分に少
なくとも1対の?!磁力調整可能な電磁パッドを設け、
前記電磁パッドのいずれか一方にストリップと各陽極と
の間の距離を測定するための距離計を設け、前記距離計
の検出信号に基づいてスI・リップと各陽極との間の距
離を制御するよう構成したことを特徴とするめっき槽が
提供される。
前記電磁パッドが、各不溶性陽極の長手方向中央部分に
1対とその左右対称位置に少なくとも各1対有するのが
好ましい。
また、前記電磁パッドの前後部にダく一陽極部を有する
のが好ましい。
以下に本発明をさらに詳細に説明する。
第1図および第2図は本発明の一実施例を示すめっき槽
の一部断面側面図および第1図のIT −II線断面図
である。
ストリップ1は第1図において左から右の方向へ走行し
ながら電気めっきされる。
不溶性陽極2および3は走行するストリップ1の上下両
面に対向するよう断面筒状のめっき槽4内に設けられて
いる。
前記上下の各不溶性陽極2.3の長手方向中央部分に少
なくとも1苅の′F!l磁バッド5がある。
第3図は、前記上下の各不溶性陽極2.3の長手方向中
央部分に1対とその左右対称位置に少なくとも各1対の
電磁バッド5を設りる一例を示している。 a、bは前
記左右対称位置各2箇所に電磁バッlj 5を有する場
合の中央からの距離を示す。
前記電磁パラF 5の上下いずれか一方にストリップ1
と上下各陽極との間の距離を測定するための距離計6が
設けられている。 第 3 図は、その−例を示したも
ので上側の1!磁バツド5に近接した」1流側中央に1
個(C)と左2個(Ll、L2)および右2個(R1、
R2)配設している。
前記距離計6の測定値に基づく図示しない制御装置の作
動により電磁バッド5の吸引力、反発力またはそれらの
組合せを利用してストリップ1ど各陽極との間の距離を
一定に保つことができる。
さらに、幅方向に1個または複数個の1!磁パツト5を
設ければストリップ1のC反り、耳伸びなとの形状不良
を矯正することができるので好ましい。
また、ストリップ1の幅の変動に対応するため、前記幅
方向に複数個の電磁バッド5を設けることが望ましい。
前記距離計6は、特別のものは必要なく位置検出器など
でよい。 たとえば、超音波距離計は電磁力の影響を受
は難いので好都合である。
?!磁パッド5の上流側および下流側で不溶性陽極2お
よび3まての間に、こ利ら陽極と同じ幅のダミー陽極部
7を挿設すれは、1i磁バツド5の磁力によりめっき電
流がゆがめられめっき目付量が不揃いになったりめっき
外観が悪化するのを防止できるのて好ましい。
前記ダミー陽極部7は、電磁バッド5の磁力の叱響する
部分にめっき電流か流れるのを防止するためのもので通
電しないものである。 従って、その長さは電磁バッド
 5の磁場の影響を受ける範囲をカバーずれはよい。
ナイドシール8は、スI・リップ1の幅方向の上下各軍
溶性陽極2.3端部間に設(つられ、前記不溶性陽極2
.3とでめっき空間を構成し、ストリップ1の幅方向両
サイドからめつき液が流出1)ないように設けら和てい
る。
給液ノズル9は、ストリップ1の通板方向と対向するよ
うにストリップ1の下流側より上流側に向(プて、めっ
き液を供給するためのものて、前記下流側の不溶性陽極
3の通板方向下流側端部に接触して設りられ、それぞれ
ストリップ1の上面および下面に向けて開口している。
  10は給液ヘッダーである。
1対のリップ状シール11は、前記給液ノズル10の下
流側背面にて前記給液ノズル5およびその下流側の通電
ロール12またはバックアップロール13とシール状態
で摺動接触するように配設されるのか好まl、い。
リップ状シール11を設ければ、ノズル背面へのめっき
液の漏出が減少するため陽極間のめっき液流速分相が灼
−化される。
サイドシール8およびリップ状シール11の材質どして
は、塩化ビニル、FRPなと、めっき液に対する耐薬品
性、電気絶縁性および十分な機械強度を兼ね備えた材料
であわば、何を用いてもかまわない。
ストリップ1進行方向人側には、通電ロール14および
バックアップロール15が設けられている。
16はめっき槽4のストリップ1人側開口部に設けら和
たシール板、17は受槽、18はめっき液排出管である
第4図および第5図は、本発明のめっき槽として、めっ
き槽4の人、出側の各1対のロール14.15および1
2.13の間にめっき槽4内と連通ずる液槽19を設は
浸漬型としたものである。 この場合にはシール板16
は特に必要ない。
浸漬型とすることにより電極間のめっき液流速分布は一
層均一化される。
〈実施例〉 以下に本発明を実施例に基づき具体的に説明する。
(実施例1) 第1図に示すめっき槽を用い、Zn−Niめっき液を用
いて、厚さ0.7mm、幅1000mmの銅帯に下記条
件でめっきを行なった。
陽極長・全長1.600 m m、有効長1200 m 陽極幅:+200mm 陽極−ストリップ間距1!ll115mm通板速度:1
20m/分 ストリップ入側通電ロール軸心−めっき槽人口間300
mm めっき検出ローストリップ出側通電ロール軸心間400
mm 電磁パッドおよび距離計は第3図のとおり配設し、第3
図におけるa、、bの長さはそれぞれ400mm、60
0mm、上側および下側電磁バッドの吸引力の強さは1
5mmの空隙を隔てた鉄片に対して45〜50 k g
、ダミー陽極部の長さは上流側、下流側各80mmとし
た。
その結果を第1表と第6図<A)および第7図(A)に
示す。 なお、第6図(A)におけるC、L、 、R,
は第3図に示す各距離計の測定による板面の設定位置に
対する経時変動を示し、第7図(A)における実線およ
び破線はそれぞれ第1図に矢印AおよびBで示す部分の
めつき液の板幅方向流速分布を示す。
(比較例) 第1図に示すめっき槽において電磁パッドとダく一電極
を静圧パットに代え、給液ノズルどリップ状シールを上
流側と同形式のシール板に代えて第8図に示す静圧バッ
ド式双方向流めっき槽とし、実施例と同一の条件でめっ
きを行った。 その結果を第1表と第6図(B)および
1 第7図(B)に示す。
第6図CB)においてM点以降ストリップは顕著なC反
りを有しているが、実施例では第6図(A)に示すよう
にこれを有効に矯正している。
これの効果として、実施例では第7図(A)に示すよう
に板幅内でのめっき液流速分布が平坦化し、かつ、スト
リップが陽極と接触することがないため、操業が安定す
ることが確認さ和た。
なお、第8図において20.21.22はそれぞれめっ
き液供給用マニホールド、液体クツションパッド、液体
シーリング用ノズルを示す。
第 表 〈発明の効果〉 本発明は以上説明したように構成されているので、スト
リップのパスラインが安定し、極間距離が一定となり、
ストリップの幅方向および進行方向のめっき液流速が均
一化し、かつ電流密度が均一化されるため、均一なめっ
き、特に、合金めっきにおいては合金組成が均一化され
ためっきが得られる。
また、ストリップと陽極の接触が防止できるので、操業
安定性が向上する。
また、陽極長さを長くできるので、建設コストが低減て
きる。
また、電磁バッドを不溶・)」4陽極の幅方向複数箇所
に設りることにより、C反り等のスI・リップの形状不
良が電磁パッドて矯正可能となり、めっき品質の均一化
およびアノードタッチの防止による操業の安定化が図れ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例を示すめっき槽の一部断面
側面図である。 第2図は、第1図のII −II線断面図である。 第3図は、電磁パッドおよび距離計の配置の一例を示す
説明図である。 第4図は、本発明の他の例を示すめっき槽の一部断面側
面図である。 第5図は、第4図のV−V線断面図である。 第6図は、第3図各点での板面の経時変動を示すグラフ
で、(A)は実施例、(B)は比較例を示す。 第7図は、めっき槽上下流端にお(・つるめっき液の板
幅方向流速分布を示すグラフで(A)は実施例、(B)
は比較例を示す。 第8図は、静圧バッド式双方向流めっき槽の一部断面側
面図である。 符号の説明 1・・・ストリップ、 2.3・・・不溶性陽極、 4・・・めっき槽、 5・・・電磁パッド、 6・・・距離計、 7・・・ダよ一陽極部、 8・・・サイドシール、 9・・・給♀夜ノズル、 10・・・給ン夜へツタ− 11・・・リップ状シール、 12.14・・・通電ロール、 13.15・・・バックアップロール、16・・・シー
ル板、 17・・・受槽、 18・・・めっき?夜抽出管、 19・・・液槽、 20・・・めっき液供給用マニホールド、21・・・ン
夜イ本り・ンションバ・ンド、22・・・液体シーリン
グ用ノズル ) ) ml/’ I FIG、3 「 1 リ 勺

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)通過するストリップの両面に対向して配置した不
    溶性陽極で構成された空隙内に、めっき液を供給してめ
    っきを行うめっき槽において、前記各不溶性陽極の長手
    方向中央部分に少なくとも1対の電磁力調整可能な電磁
    パッドを設け、 前記電磁パッドのいずれか一方にストリップと各陽極と
    の間の距離を測定するための距離計を設け、 前記距離計の検出信号に基づいてストリップと各陽極と
    の間の距離を制御するよう構成したことを特徴とするめ
    っき槽。
  2. (2)前記電磁パッドが、各不溶性陽極の長手方向中央
    部分に1対とその左右対称位置に少なくとも各1対有す
    る請求項1記載のめっき槽。
  3. (3)前記電磁パッドの前後部にダミー陽極部を有する
    請求項1または2記載のめっき槽。
JP16810689A 1989-06-29 1989-06-29 めっき槽 Pending JPH0336292A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014069023A1 (ja) * 2012-11-01 2014-05-08 ユケン工業株式会社 めっき装置、ノズル-アノードユニット、めっき部材の製造方法、および被めっき部材固定装置
EP3375911A1 (en) * 2017-03-16 2018-09-19 ATOTECH Deutschland GmbH Galvanic plating module of a horizontal galvanic plating line for galvanic metal deposition on a substrate

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014069023A1 (ja) * 2012-11-01 2014-05-08 ユケン工業株式会社 めっき装置、ノズル-アノードユニット、めっき部材の製造方法、および被めっき部材固定装置
JP5515056B1 (ja) * 2012-11-01 2014-06-11 ユケン工業株式会社 めっき装置、ノズル−アノードユニット、めっき部材の製造方法、および被めっき部材固定装置
US9187837B2 (en) 2012-11-01 2015-11-17 Yuken Industry Co., Ltd. Plating apparatus, nozzle-anode unit, method of manufacturing plated member, and fixing apparatus for member to be plated
EP3375911A1 (en) * 2017-03-16 2018-09-19 ATOTECH Deutschland GmbH Galvanic plating module of a horizontal galvanic plating line for galvanic metal deposition on a substrate

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