JPH0337230Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0337230Y2 JPH0337230Y2 JP5642687U JP5642687U JPH0337230Y2 JP H0337230 Y2 JPH0337230 Y2 JP H0337230Y2 JP 5642687 U JP5642687 U JP 5642687U JP 5642687 U JP5642687 U JP 5642687U JP H0337230 Y2 JPH0337230 Y2 JP H0337230Y2
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- Japan
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- lid
- hot plate
- dried
- semiconductor wafer
- conveyor belt
- Prior art date
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- Expired
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Landscapes
- Drying Of Solid Materials (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
産業上の利用分野
本考案は、例えば半導体装置の製造時のフオト
レジスト工程等において、レジスト等を塗布した
後、乾燥させるための装置の改良に関する。
レジスト工程等において、レジスト等を塗布した
後、乾燥させるための装置の改良に関する。
従来の技術
現在、この種の半導体装置の製造に用いられる
乾燥装置は、第3図に示したように、例えば半導
体ウエハAが上部に載置可能に構成されるととも
に、それ自体が上下動及び前進・後退自在な搬送
ベルト21と、上面に半導体ウエハAを載せると
ともに、下方にヒーター22を具備したホツトプ
レート23と、このホツトプレート23を覆つて
均熱及び保温のため、ステンレス材料よりなり内
部に断熱材を有する断面コ字状の蓋24と、より
構成されている。
乾燥装置は、第3図に示したように、例えば半導
体ウエハAが上部に載置可能に構成されるととも
に、それ自体が上下動及び前進・後退自在な搬送
ベルト21と、上面に半導体ウエハAを載せると
ともに、下方にヒーター22を具備したホツトプ
レート23と、このホツトプレート23を覆つて
均熱及び保温のため、ステンレス材料よりなり内
部に断熱材を有する断面コ字状の蓋24と、より
構成されている。
考案が解決しようとする問題点
ところで、前記乾燥装置は、搬送ベルト21が
下がつて後退し、上昇して前進する動作を繰り返
して半導体ウエハAをホツトプレート23上に運
び、一定の時間の加熱を行なつて乾燥させる。こ
の乾燥は、半導体ウエハAに、フオトレジストが
塗布されたり、電気的な絶縁を行なうためのポリ
イミドが塗布されたりしているため、次工程へ移
る前にそれらを乾燥させる必要があるので行われ
る。
下がつて後退し、上昇して前進する動作を繰り返
して半導体ウエハAをホツトプレート23上に運
び、一定の時間の加熱を行なつて乾燥させる。こ
の乾燥は、半導体ウエハAに、フオトレジストが
塗布されたり、電気的な絶縁を行なうためのポリ
イミドが塗布されたりしているため、次工程へ移
る前にそれらを乾燥させる必要があるので行われ
る。
しかしながら、前記半導体ウエハAの塗布材料
中、特ににポリイミド液等の高沸点溶剤は、乾燥
させられて一旦蒸発した後、蓋24の内面に接触
すると、蓋24との温度差が大きいため容量に水
滴状の結露χが生ずる。このため、結露χが増大
すると蓋24の内面から乾燥中または乾燥装置に
搬入・搬出中の半導体ウエハA上に落下し、半導
体ウエハAの品質が低下してしまうという問題点
を有する。
中、特ににポリイミド液等の高沸点溶剤は、乾燥
させられて一旦蒸発した後、蓋24の内面に接触
すると、蓋24との温度差が大きいため容量に水
滴状の結露χが生ずる。このため、結露χが増大
すると蓋24の内面から乾燥中または乾燥装置に
搬入・搬出中の半導体ウエハA上に落下し、半導
体ウエハAの品質が低下してしまうという問題点
を有する。
そこで、本考案は、上記の問題点に鑑み、結露
した溶剤等が被乾燥物上へ落下することを防止し
た乾燥装置を提供することを目的とする。
した溶剤等が被乾燥物上へ落下することを防止し
た乾燥装置を提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段
上記目的を達成するため、本考案の乾燥装置
は、被乾燥物を載置して加熱するためのホツトプ
レートと、前記ホツトプレート部分を覆う蓋本体
と、該蓋本体の下方側に設けられるとともに、被
乾燥物の上とならない方向へ延設された蓋側部と
よりなる蓋と、前記蓋本体及び蓋側部の内面に取
付けられた毛細管作用を備えた布状物と、より構
成されていることを特徴とする。
は、被乾燥物を載置して加熱するためのホツトプ
レートと、前記ホツトプレート部分を覆う蓋本体
と、該蓋本体の下方側に設けられるとともに、被
乾燥物の上とならない方向へ延設された蓋側部と
よりなる蓋と、前記蓋本体及び蓋側部の内面に取
付けられた毛細管作用を備えた布状物と、より構
成されていることを特徴とする。
作 用
上記構成によれば、被乾燥物から蒸発する溶剤
等が蓋に結露した場合でも、蓋内面に設けられた
布状物の毛細管作用によつて、蓋側部に導くこと
ができるため、前記溶剤等を被乾燥物の上でなく
その外側へ落とすことができる。
等が蓋に結露した場合でも、蓋内面に設けられた
布状物の毛細管作用によつて、蓋側部に導くこと
ができるため、前記溶剤等を被乾燥物の上でなく
その外側へ落とすことができる。
実施例
以下、本考案の一実施例を説明する。第1図は
本考案に係る乾燥装置の分解斜視図、第2図は前
記乾燥装置の側面図である。図中、1は、被乾燥
物としての半導体ウエハAを約30秒毎に1枚を前
進させる搬送ベルトで、搬送方向に2本が平行に
設けられ、かつ、この2本のベルトは上下動及び
前進・後進自在に構成されており、下がつて後退
し、上昇して前進する動作を繰り返して、半導体
ウエハAを搬送する。2は、前記搬送ベルト1の
搬送路に配置されるとともに、下方にヒーター3
を具備したホツトプレートで、搬送ベルト1に沿
つて溝が形成されており、搬送ベルト1が上昇し
たときに該ホツトプレート1の上面に露出するよ
う構成されている。4は、前記ホツトプレート2
の全面を覆う状態として形成された保温及び均熱
のための蓋である。
本考案に係る乾燥装置の分解斜視図、第2図は前
記乾燥装置の側面図である。図中、1は、被乾燥
物としての半導体ウエハAを約30秒毎に1枚を前
進させる搬送ベルトで、搬送方向に2本が平行に
設けられ、かつ、この2本のベルトは上下動及び
前進・後進自在に構成されており、下がつて後退
し、上昇して前進する動作を繰り返して、半導体
ウエハAを搬送する。2は、前記搬送ベルト1の
搬送路に配置されるとともに、下方にヒーター3
を具備したホツトプレートで、搬送ベルト1に沿
つて溝が形成されており、搬送ベルト1が上昇し
たときに該ホツトプレート1の上面に露出するよ
う構成されている。4は、前記ホツトプレート2
の全面を覆う状態として形成された保温及び均熱
のための蓋である。
この蓋4は、断熱材5が内有されるとともに、
全体がステンレス材料より製造され、その形状は
搬送ベルト1の直交方向の断面がコ字状で、対向
する両側部6が前記ホツトプレート2の上方から
外れた側方に位置されている。そして、両側部6
を含む蓋4の内面全体に、ゴミ等が発生せず、ま
た、溶剤にも溶けない材料で形成された毛細管作
用を有する布状物の一例としての不織布7が貼り
付けられており、その端部は前記両側部6の下端
まで延設されている。
全体がステンレス材料より製造され、その形状は
搬送ベルト1の直交方向の断面がコ字状で、対向
する両側部6が前記ホツトプレート2の上方から
外れた側方に位置されている。そして、両側部6
を含む蓋4の内面全体に、ゴミ等が発生せず、ま
た、溶剤にも溶けない材料で形成された毛細管作
用を有する布状物の一例としての不織布7が貼り
付けられており、その端部は前記両側部6の下端
まで延設されている。
この実施例の乾燥装置の使用は、第2図に示す
ように、ホツトプレート2と蓋4とを一体とした
状態でヒーター3に通電して加熱しておく。そし
て、搬送ベルト1を駆動させて被乾燥物であるフ
オトレジスト等が塗布された半導体ウエハAを、
蓋4の開放側から搬入してホツトプレート2上に
運ぶ。その状態で所定の時間を維持し、次の半導
体ウエハAと入れ換える。乾燥枚数が多くなつて
くると、半導体ウエハAから蒸発した溶剤等が液
化して、蓋4の内面に次第に付着してくるが、蓋
4の内面には不織布7が貼り付けられているの
で、この不織布7の毛細管作用によつて付着する
溶剤等を吸い取るとともに、下流側である両側部
6側へ導き、不織布7の端部から速やかに排除す
る。このとき、両側部6は、半導体ウエハAの上
方を外れた側方位置に設けられているので、不織
布7の先端かた溶剤等が落下する場合に、半導体
ウエハA上に落ちる恐れが解消できる。
ように、ホツトプレート2と蓋4とを一体とした
状態でヒーター3に通電して加熱しておく。そし
て、搬送ベルト1を駆動させて被乾燥物であるフ
オトレジスト等が塗布された半導体ウエハAを、
蓋4の開放側から搬入してホツトプレート2上に
運ぶ。その状態で所定の時間を維持し、次の半導
体ウエハAと入れ換える。乾燥枚数が多くなつて
くると、半導体ウエハAから蒸発した溶剤等が液
化して、蓋4の内面に次第に付着してくるが、蓋
4の内面には不織布7が貼り付けられているの
で、この不織布7の毛細管作用によつて付着する
溶剤等を吸い取るとともに、下流側である両側部
6側へ導き、不織布7の端部から速やかに排除す
る。このとき、両側部6は、半導体ウエハAの上
方を外れた側方位置に設けられているので、不織
布7の先端かた溶剤等が落下する場合に、半導体
ウエハA上に落ちる恐れが解消できる。
なお、両側部6の下方には、第2図に破線で示
すように、樋8を設けて落下する溶剤等を集めて
排出することもできる。この樋8に代えて、両側
部6の下端に樋を形成してもよい。
すように、樋8を設けて落下する溶剤等を集めて
排出することもできる。この樋8に代えて、両側
部6の下端に樋を形成してもよい。
考案の効果
以上のように、本考案の乾燥装置は、ホツトプ
レート上を覆う蓋の側部を、被乾燥物の上方から
外れた位置に設け、かつ蓋の内面に毛細管作用を
備えた布状物を取付けたので、被乾燥物の乾燥に
よつて蒸発する溶剤等が液化して蓋に付着して
も、前記布状物が吸い取るとともに、該布状物を
伝つて被乾燥物の外側に落下するので、被乾燥物
の品質を低下させることなく製造できる。
レート上を覆う蓋の側部を、被乾燥物の上方から
外れた位置に設け、かつ蓋の内面に毛細管作用を
備えた布状物を取付けたので、被乾燥物の乾燥に
よつて蒸発する溶剤等が液化して蓋に付着して
も、前記布状物が吸い取るとともに、該布状物を
伝つて被乾燥物の外側に落下するので、被乾燥物
の品質を低下させることなく製造できる。
第1図は本考案の一実施例としての乾燥装置の
分解斜視図、第2図は前記乾燥装置の側面図であ
る。第3図は従来例の乾燥装置の分解斜視図であ
る。 1……搬送ベルト、2……ホツトプレート、4
……蓋、6……側部、7……不織布(布状物)。
分解斜視図、第2図は前記乾燥装置の側面図であ
る。第3図は従来例の乾燥装置の分解斜視図であ
る。 1……搬送ベルト、2……ホツトプレート、4
……蓋、6……側部、7……不織布(布状物)。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 被乾燥物を載置して加熱するためのホツトプレ
ートと、 前記ホツトプレート部分を覆う蓋本体と、該蓋
本体の下方側に設けられるとともに、被乾燥物の
上とならない方向へ延設された蓋側部とよりなる
蓋と、 前記蓋本体及び蓋側部の内面に取付けられた毛
細管作用を備えた布状物と、 より構成されていることを特徴とする乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5642687U JPH0337230Y2 (ja) | 1987-04-13 | 1987-04-13 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5642687U JPH0337230Y2 (ja) | 1987-04-13 | 1987-04-13 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63174438U JPS63174438U (ja) | 1988-11-11 |
| JPH0337230Y2 true JPH0337230Y2 (ja) | 1991-08-07 |
Family
ID=30885216
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5642687U Expired JPH0337230Y2 (ja) | 1987-04-13 | 1987-04-13 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0337230Y2 (ja) |
-
1987
- 1987-04-13 JP JP5642687U patent/JPH0337230Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63174438U (ja) | 1988-11-11 |
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