JPH0337643Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0337643Y2 JPH0337643Y2 JP1986121379U JP12137986U JPH0337643Y2 JP H0337643 Y2 JPH0337643 Y2 JP H0337643Y2 JP 1986121379 U JP1986121379 U JP 1986121379U JP 12137986 U JP12137986 U JP 12137986U JP H0337643 Y2 JPH0337643 Y2 JP H0337643Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ceramic
- far
- infrared rays
- covering band
- heater
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Radiation-Therapy Devices (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この考案は、肌の活性化を促進させるに好適な
遠赤外線浴用美顔マスクに関する。
遠赤外線浴用美顔マスクに関する。
(従来の技術)
従来、遠赤外線ヒータを組み込んだ美顔器とし
て、実開昭60−168838号公報に記載された美顔サ
ウナ器が知られている。この美顔サウナ器は、体
重で固定したポールの上部に、頭部全体を覆う天
蓋部を設け、この天蓋部における顔面前面の位置
に遠赤外線を放射するヒータを組み込んだもので
ある。
て、実開昭60−168838号公報に記載された美顔サ
ウナ器が知られている。この美顔サウナ器は、体
重で固定したポールの上部に、頭部全体を覆う天
蓋部を設け、この天蓋部における顔面前面の位置
に遠赤外線を放射するヒータを組み込んだもので
ある。
また、この他、遠赤外線を放射するセラミツク
装置を設けた美顔器として、特開昭58−152572号
公報に記載された赤外線ヒータがある。この赤外
線ヒータは、支持台上に上下揺動自在な箱体を設
け、この箱体に、遠赤外線を放射するセラミツク
板を内臓した輻射パネルを設けたものである。
装置を設けた美顔器として、特開昭58−152572号
公報に記載された赤外線ヒータがある。この赤外
線ヒータは、支持台上に上下揺動自在な箱体を設
け、この箱体に、遠赤外線を放射するセラミツク
板を内臓した輻射パネルを設けたものである。
(考案が解決しようとする問題点)
ところが、前者の美顔サウナ器は、頭部全体を
覆う天蓋部を有し、顔面前面の位置に遠赤外線を
放射するヒータを組み込む大掛りなものなので、
この天蓋部等を支持するために、体重で固定する
支持台やポール等が必須の構成にならざるを得な
い。従つて、前者の美顔サウナ器は、据え置きタ
イプとなり、携帯や運搬に不都合なものであつ
た。
覆う天蓋部を有し、顔面前面の位置に遠赤外線を
放射するヒータを組み込む大掛りなものなので、
この天蓋部等を支持するために、体重で固定する
支持台やポール等が必須の構成にならざるを得な
い。従つて、前者の美顔サウナ器は、据え置きタ
イプとなり、携帯や運搬に不都合なものであつ
た。
一方、後者の赤外線ヒータは、床面に支持台を
介して設置固定された輻射パネルの前面に顔面を
近付けることで使用するタイプになつている。こ
のため、顔の全面に遠赤外線を均一に照射するに
は、利用者が常に顔を動かして被照射量を一定に
する必要があり、長時間の使用には不都合なもの
であつた。
介して設置固定された輻射パネルの前面に顔面を
近付けることで使用するタイプになつている。こ
のため、顔の全面に遠赤外線を均一に照射するに
は、利用者が常に顔を動かして被照射量を一定に
する必要があり、長時間の使用には不都合なもの
であつた。
そこでこの考案は、上述の問題点を解消すべく
案出されたもので、極めてコンパクトな構成で携
帯に便利であり、しかも、一度セツトしただけで
顔の全面に遠赤外線を均一に照射することがで
き、長時間使用しても疲れない遠赤外線浴用美顔
マスクの提供を目的とする。
案出されたもので、極めてコンパクトな構成で携
帯に便利であり、しかも、一度セツトしただけで
顔の全面に遠赤外線を均一に照射することがで
き、長時間使用しても疲れない遠赤外線浴用美顔
マスクの提供を目的とする。
(問題点を解決するための手段)
上述の目的を達成すべくこの考案は、
ヒーター3Bの表面に遠赤外線を放射するセラ
ミツク3Aを配したセラミツク装置3を設け、 一方、鼻、口、頬、顎等の範囲を覆う下部被覆
帯1Aと、目、額等の範囲を覆う上部被覆帯1B
との両端部を帯状の固定具1Cによつて揺動自在
に連結し、これら下部被覆帯1Aと上部被覆帯1
Bとの内面にセラミツク装置3を装着したことを
問題解決のための手段とする。
ミツク3Aを配したセラミツク装置3を設け、 一方、鼻、口、頬、顎等の範囲を覆う下部被覆
帯1Aと、目、額等の範囲を覆う上部被覆帯1B
との両端部を帯状の固定具1Cによつて揺動自在
に連結し、これら下部被覆帯1Aと上部被覆帯1
Bとの内面にセラミツク装置3を装着したことを
問題解決のための手段とする。
(作用)
この考案によれば、下部被覆帯1Aと下部被覆
帯1Bとが顔の主要部分を覆い、これらの内面に
装着したセラミツク装置から顔面に遠赤外線が放
射される。
帯1Bとが顔の主要部分を覆い、これらの内面に
装着したセラミツク装置から顔面に遠赤外線が放
射される。
下部被覆帯1Aと上部被覆帯1Bとは、帯状の
固定具1Cによつて揺動自在に連結され、この固
定具1Cは、顔面とセラミツク装置との距離を調
整する。
固定具1Cによつて揺動自在に連結され、この固
定具1Cは、顔面とセラミツク装置との距離を調
整する。
そして、マスク内面に設けたセラミツク装置か
ら放射される遠赤外線の作用により、皮脂腺が開
いて老廃物が除去され、更に遠赤外線の作用によ
つて皮膚深層の細胞分子を活性化させる。また、
新陳代謝の促進によつて、汗腺と皮脂腺とを活性
化せしめ、水分と油分とのバランスの取れた潤い
を皮膚表面にもたらすと共に、皮膚の再生(ピー
リング)を促し、ニキビや吹き出物の治癒促進に
作用する。
ら放射される遠赤外線の作用により、皮脂腺が開
いて老廃物が除去され、更に遠赤外線の作用によ
つて皮膚深層の細胞分子を活性化させる。また、
新陳代謝の促進によつて、汗腺と皮脂腺とを活性
化せしめ、水分と油分とのバランスの取れた潤い
を皮膚表面にもたらすと共に、皮膚の再生(ピー
リング)を促し、ニキビや吹き出物の治癒促進に
作用する。
(実施例)
以下、図面を参照してこの考案の実施例を詳細
に説明する。
に説明する。
図に示される符号1はマスク体であり、顔面全
体を覆うように構成してある。このマスク体1
は、鼻、口、頬、顎等の範囲を覆う下部被覆帯1
Aと、目、額等の範囲を覆う上部被覆帯1Bとの
二つの帯状物から成り、この下部被覆帯1Aと上
部被覆帯1Bとは帯状の固定具1Cによつて互い
に揺動自在に設けられている。このとき、下部被
覆帯1Aには通気口2を設けてあり、呼吸でマス
ク体1内がムレないようにしている。
体を覆うように構成してある。このマスク体1
は、鼻、口、頬、顎等の範囲を覆う下部被覆帯1
Aと、目、額等の範囲を覆う上部被覆帯1Bとの
二つの帯状物から成り、この下部被覆帯1Aと上
部被覆帯1Bとは帯状の固定具1Cによつて互い
に揺動自在に設けられている。このとき、下部被
覆帯1Aには通気口2を設けてあり、呼吸でマス
ク体1内がムレないようにしている。
固定具1Cは、ゴム材やスプリング材等の弾性
帯状物の使用を予定している。このような弾性材
の使用により、固定具1Cのサイズがフリーとな
り、しかも装着感も良好となる。マスク体1や固
定具1Cはこの他、材質、形状、共に適宜な変更
が可能である。
帯状物の使用を予定している。このような弾性材
の使用により、固定具1Cのサイズがフリーとな
り、しかも装着感も良好となる。マスク体1や固
定具1Cはこの他、材質、形状、共に適宜な変更
が可能である。
符号3は遠赤外線を放射するセラミツク装置を
示す。このセラミツク装置3は、ヒーター3Bの
表面に遠赤外線を放射するセラミツク3Aを配し
たもので、ヒーター3Bに通電して加熱させるこ
とでセラミツク3Aから遠赤外線を放射するもの
である。この際、セラミツク装置3は、粉状セラ
ミツク3Aがヒーター3B面にバインダー溶剤で
塗布されたものでも、板状セラミツク3Aがヒー
ター3B面に固着されたものでも良く、その形態
や形状等の設計変更は任意とする。
示す。このセラミツク装置3は、ヒーター3Bの
表面に遠赤外線を放射するセラミツク3Aを配し
たもので、ヒーター3Bに通電して加熱させるこ
とでセラミツク3Aから遠赤外線を放射するもの
である。この際、セラミツク装置3は、粉状セラ
ミツク3Aがヒーター3B面にバインダー溶剤で
塗布されたものでも、板状セラミツク3Aがヒー
ター3B面に固着されたものでも良く、その形態
や形状等の設計変更は任意とする。
また、遠赤外線は、光の波長が通常4〜1000μ
のものを指すが、実施例においては4〜30μの波
長の遠赤外線を放射するセラミツク3Aを使用す
る。この波長は、生物の細胞組織に共鳴し、細胞
を活性化させるに最も適している波長であり、皮
膚の新陳代謝を盛んにし、老廃物を除去した後の
細胞組織の活性化を効果的に維持促進し得るもの
である。
のものを指すが、実施例においては4〜30μの波
長の遠赤外線を放射するセラミツク3Aを使用す
る。この波長は、生物の細胞組織に共鳴し、細胞
を活性化させるに最も適している波長であり、皮
膚の新陳代謝を盛んにし、老廃物を除去した後の
細胞組織の活性化を効果的に維持促進し得るもの
である。
更に、図示していないが、遠赤外線の透過率が
高いゴム、プラスチツクに粉状セラミツク3Aを
混入したり、ゴム、プラスチツクの層にセラミツ
ク3Aの層を挟着したりすることで、セラミツク
3Aの保護を図ることができる。また、セラミツ
ク装置3は、カーボンを有するヒーター3B内に
粉状セラミツク3Aを混入して、セラミツク3A
とヒーター3Bとを一体に設けることも可能であ
り、こうすることで、コンパクトなセラミツク装
置3の提供ができる。
高いゴム、プラスチツクに粉状セラミツク3Aを
混入したり、ゴム、プラスチツクの層にセラミツ
ク3Aの層を挟着したりすることで、セラミツク
3Aの保護を図ることができる。また、セラミツ
ク装置3は、カーボンを有するヒーター3B内に
粉状セラミツク3Aを混入して、セラミツク3A
とヒーター3Bとを一体に設けることも可能であ
り、こうすることで、コンパクトなセラミツク装
置3の提供ができる。
また、ヒーターの温度を変えて、顔面に照射さ
せる遠赤外線の量を変更させたり、遠赤外線の照
射時間をリズミカルに区切ると共に、このリズム
に合わせて心地良いパルス音等を発したりするこ
とで、遠赤外線の被照射を感覚的にも認識し易い
ものとなる。
せる遠赤外線の量を変更させたり、遠赤外線の照
射時間をリズミカルに区切ると共に、このリズム
に合わせて心地良いパルス音等を発したりするこ
とで、遠赤外線の被照射を感覚的にも認識し易い
ものとなる。
(考案の効果)
この考案は上述の如く構成したことにより、当
初の目的を達成する。
初の目的を達成する。
すなわち、ヒーター3Bの表面に遠赤外線を放
射するセラミツク3Aを配したセラミツク装置3
を設け、一方、鼻、口、頬、顎等の範囲を覆う下
部被覆帯1Aと、目、額等の範囲を覆う上部被覆
帯1Bとの両端部を帯状の固定具1Cによつて揺
動自在に連結し、これら下部被覆帯1Aと上部被
覆帯1Bとの内面にセラミツク装置3を装着した
ことで、この考案美顔マスクの構成が極めてコン
パクトな構成になつた。この結果、携帯に便利
で、しかも軽量なことから、長時間使用しても疲
れないといつた利点もある。
射するセラミツク3Aを配したセラミツク装置3
を設け、一方、鼻、口、頬、顎等の範囲を覆う下
部被覆帯1Aと、目、額等の範囲を覆う上部被覆
帯1Bとの両端部を帯状の固定具1Cによつて揺
動自在に連結し、これら下部被覆帯1Aと上部被
覆帯1Bとの内面にセラミツク装置3を装着した
ことで、この考案美顔マスクの構成が極めてコン
パクトな構成になつた。この結果、携帯に便利
で、しかも軽量なことから、長時間使用しても疲
れないといつた利点もある。
また、セラミツク装置3は、鼻、口、頬、顎等
の範囲を覆う下部被覆帯1Aと、目、額等の範囲
を覆う上部被覆帯1Bとの内面に装着してあり、
これら下部被覆帯1Aと上部被覆帯1Bとは、揺
動自在に連結されているから、顔面の所定位置に
一度セツトするだけで遠赤外線を均一に照射する
ことができる。しかも、使用者の顔の大きさに適
応させることが可能になり、更には顔の一部分の
みに遠赤外線を照射させることも可能である。
の範囲を覆う下部被覆帯1Aと、目、額等の範囲
を覆う上部被覆帯1Bとの内面に装着してあり、
これら下部被覆帯1Aと上部被覆帯1Bとは、揺
動自在に連結されているから、顔面の所定位置に
一度セツトするだけで遠赤外線を均一に照射する
ことができる。しかも、使用者の顔の大きさに適
応させることが可能になり、更には顔の一部分の
みに遠赤外線を照射させることも可能である。
そして、下部被覆帯1Aと上部被覆帯1Bと
は、帯状の固定具1Cによつて揺動自在に連結さ
れているから、この固定具1Cの調整により、顔
面とセラミツク装置との距離を適当な距離に調整
できるものである。
は、帯状の固定具1Cによつて揺動自在に連結さ
れているから、この固定具1Cの調整により、顔
面とセラミツク装置との距離を適当な距離に調整
できるものである。
マスク体1内の顔面の皮膚は、セラミツク3A
から放射される遠赤外線を充分に浴びることにな
る。すると、遠赤外線の作用によつて、皮脂腺が
開き、老廃物を除去できる。
から放射される遠赤外線を充分に浴びることにな
る。すると、遠赤外線の作用によつて、皮脂腺が
開き、老廃物を除去できる。
また、遠赤外線は光の波長の特質から皮膚の深
部まで活性化させることができるから、皮膚の細
胞組織の代謝を盛んにして長期的な美顔効果を持
続し得るものとなる。
部まで活性化させることができるから、皮膚の細
胞組織の代謝を盛んにして長期的な美顔効果を持
続し得るものとなる。
更に、細胞深部を活性化することで、他の治療
にも効果を奏する。例えば、毛穴を開いて代謝を
盛んにするから、育毛効果が期待でき、また、深
部を温める温灸療法によつて、眼球やのどの疲労
回復、或いは蓄膿症等の治療にも役立つ。また、
この考案マスクを背部や腹部に当てて、肩こりや
腰痛を和らげることも可能である。
にも効果を奏する。例えば、毛穴を開いて代謝を
盛んにするから、育毛効果が期待でき、また、深
部を温める温灸療法によつて、眼球やのどの疲労
回復、或いは蓄膿症等の治療にも役立つ。また、
この考案マスクを背部や腹部に当てて、肩こりや
腰痛を和らげることも可能である。
しかも、セラミツク装置3はマスク体1の内面
に設けてあるから、遠赤外線を浴するにはマスク
体1を顔に当てるだけで良く、従来の蒸気浴用の
美顔器のような意気苦しさもなく、快適、且つ容
易な扱いができる。また、マスク体1を被つたま
まの行動も容易となり、他の行為や作業をしなが
ら利用することも可能である。
に設けてあるから、遠赤外線を浴するにはマスク
体1を顔に当てるだけで良く、従来の蒸気浴用の
美顔器のような意気苦しさもなく、快適、且つ容
易な扱いができる。また、マスク体1を被つたま
まの行動も容易となり、他の行為や作業をしなが
ら利用することも可能である。
このようにこの考案によると、極めてコンパク
トな構成で携帯に便利であり、しかも、一度セツ
トしただけで顔の全面に遠赤外線を均一に照射す
ることができ、長時間使用しても疲れは少なく、
また、皮脂腺を開いて皮膚の老廃物を除去させる
と共に、皮膚深層の細胞までを活性化させて新陳
代謝を盛んにし、健康な肌艶を長期的に維持し
得、しかもリラツクスした状態で容易に使用でき
るなど、実用上有益な種々の効果を奏する。
トな構成で携帯に便利であり、しかも、一度セツ
トしただけで顔の全面に遠赤外線を均一に照射す
ることができ、長時間使用しても疲れは少なく、
また、皮脂腺を開いて皮膚の老廃物を除去させる
と共に、皮膚深層の細胞までを活性化させて新陳
代謝を盛んにし、健康な肌艶を長期的に維持し
得、しかもリラツクスした状態で容易に使用でき
るなど、実用上有益な種々の効果を奏する。
図面はこの考案の実施例を示すもので、第1図
は斜視図、第2図は断面図、第3図は展開図であ
る。 1……マスク体、1A……下部被覆帯、1B…
…上部被覆帯、1C……固定具、1D……止着
具、2……通気口、3……セラミツク装置、3A
……セラミツク、3B……ヒーター。
は斜視図、第2図は断面図、第3図は展開図であ
る。 1……マスク体、1A……下部被覆帯、1B…
…上部被覆帯、1C……固定具、1D……止着
具、2……通気口、3……セラミツク装置、3A
……セラミツク、3B……ヒーター。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 1 ヒーターの表面に遠赤外線を放射するセラミ
ツクを配したセラミツク装置を設け、一方、
鼻、口、頬、顎等の範囲を覆う下部被覆帯と、
目、額等の範囲を覆う上部被覆帯との両端部を
帯状の固定具によつて揺動自在に連結し、これ
ら下部被覆帯と上部被覆帯との内面にセラミツ
ク装置を装着したことを特徴とする遠赤外線浴
用美顔マスク。 2 セラミツク装置のセラミツクは、遠赤外線の
透過率が高い、ゴム、プラスチツクに粉状セラ
ミツクが混入された実用新案登録請求の範囲第
1項記載の遠赤外線浴用美顔マスク。 3 セラミツク装置のセラミツクは、遠赤外線の
透過率が高い、ゴム、プラスチツクの層にセラ
ミツクの層が挟着された実用新案登録請求の範
囲第1項または第2項記載の遠赤外線浴用美顔
マスク。 4 セラミツク装置は、粉状セラミツクがヒータ
ー面にバインダー溶剤で固着された実用新案登
録請求の範囲第1項または第2項記載の遠赤外
線浴用美顔マスク。 5 セラミツク装置は、板状セラミツクがヒータ
ー面に固着された実用新案登録請求の範囲第1
項または第2項記載の遠赤外線浴用美顔マス
ク。 6 セラミツク装置は、カーボンを有するヒータ
ー内に粉状セラミツクを混入した実用新案登録
請求の範囲第1項または第2項記載の遠赤外線
浴用美顔マスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986121379U JPH0337643Y2 (ja) | 1986-08-07 | 1986-08-07 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986121379U JPH0337643Y2 (ja) | 1986-08-07 | 1986-08-07 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6326354U JPS6326354U (ja) | 1988-02-20 |
| JPH0337643Y2 true JPH0337643Y2 (ja) | 1991-08-08 |
Family
ID=31010598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986121379U Expired JPH0337643Y2 (ja) | 1986-08-07 | 1986-08-07 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0337643Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0529719Y2 (ja) * | 1988-06-09 | 1993-07-29 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58152572A (ja) * | 1982-03-05 | 1983-09-10 | 大成電機工業株式会社 | 赤外線ヒ−タ |
| JPS60168838U (ja) * | 1984-04-16 | 1985-11-09 | 佐々木 仲一 | 美顔サウナ器 |
-
1986
- 1986-08-07 JP JP1986121379U patent/JPH0337643Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6326354U (ja) | 1988-02-20 |
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