JPH0337840A - 相変化型光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本光明は、レーザ光の照射により情報の記録・再生を行
う相変化型光ディスクに関するものである。

［従来技術］ 従来、ディスク基板上に保護膜が形成されるとともに、
その保護膜上にレーザ光の照射により結晶質と非晶質と
の間で可逆的或いは非可逆的に相変化する記録媒体層が
設けられている相変化型光ディスクが知られている。か
かるディスクは、レーザ光の照射による温度変化により
可逆的或いは非可逆的に結晶質と非晶質との間で相変化
し、この２つの層の間の光反射率、光透過率の違いを利
用して情報の記録・再生を行うものである。そして、前
記ディスク基板には、一般に渦巻状若しくは同心円状に
凹凸が形成され情報を記録するトラックが規定されるよ
うになっており、前記保護膜や相変化記録媒体層もその
凹凸に倣った凹凸状を威しているのが普通である。

［発明か解決しようとする課題］ しかしながら、相変化型記録媒体層が凹凸形状を為して
いると、その段差部分で膜厚が不均一になるとともに、
段差部分と平坦部分とで結晶状態が歪むため、均一な光
反射率乃至光透過率が得られなくなって雑音成分が増大
し、記録特性が損なわれるという問題があった。また、
段差部分の膜形状が急激に変化する部分から記録媒体層
の酸化等の劣化が生じやすいため、長期にわたる信頼性
が低下するという問題があった。

本発明は、上述した問題点を解決するためになされたも
のであり、その目的とするところは、ｌ記録媒体層を略
均一の厚さで略平坦に形成することにより記録特性の優
れた高品位な相変化型光ディスクを提供することにある
。

［課題を解決するための手段］ この目的を達成するために本発明の相変化型光ディスク
ではディスク基板上に保護膜が形成されているとともに
、その保護膜上にレーザ光の照射により結晶質から非晶
質に可逆的或いは非可逆的に相変化記録媒体層が形成さ
れており、前記保護膜の前記相変化記録媒体層側の表面
が平坦に形成され、その保護膜の平坦な表面の上に相変
化記録媒体層が略均一の厚さで平坦に設けられている。

尚、上記保護膜の相変化記録媒体層側の表面は必ずしも
厳密に平坦である必要はなく、急峻な凹凸がなくなる程
度であっても差支えない。また、かかる保護膜は、例え
ば回転塗布法により液体ガラスをトラッキング用反射材
の形成されたディスク基板上に塗布して固化したものに
よって容易に構成される。

［作用］ 上記の構成を有する本発明の相変化型光ディスクによれ
ば、相変化記録媒体層が略均一の厚さで平坦であるため
レーザ光が記録媒体に安定に照射され、均一な記録特性
が得られると共に光反射率。

光透過率の安定性が向上する。更に膜の段差による雑音
の発生や膜の劣化が生じず、再生特性が向上すると共に
長期信頼性も向−ヒする。

更にディスク基板上にトラッキング用反射材が設けられ
ており、この反射材と記録媒体層とにおける回折を利用
し、よく知られているプッシュプル法により安定したト
ラッキングサーボを実現することかできる。

［実施例］ 以下、本発明の一実施例を図面に基づいて詳細に説明す
る。

第１図は、本発明の一実施例である相変化型光デイスク
１０の要部断面図であり、この相変化型光デイスク１０
は、ディスク基板１２上（図では下側）に干渉膜１４Ｊ
Ｉ］変化型記録媒体層１６゜及び保護膜１８を順次積層
したものである。

ディスク基板１２は、ガラス基板２０にＡＡ。

Ｔａ等の金属製反射材２２を渦巻状若しくは同心円状に
固着したもので、例えば第２図に示されているようにし
て作成される。即ち、先ず第２図の（ａ）に示されてい
るように平坦なガラス基板２０を用意し、その−面に、
（ｂ）に示されているように上記反射材２２を構成する
金属膜２４をスパソタリングや蒸着等の手段で形成し、
更にレジスト２６をその金属膜２４上に塗布する。次に
、レーザ露光法等により、（Ｃ）に示されているように
上記レジスト２６を渦巻状若しくは同心円状に取り除い
た後、エツチングによって（ｄ）に示されているように
金属膜２４を除去することにより、その金属膜２４の一
部が前記反射材２２としてガラス基板２０上に残される
。そして、その反射材２２上に残されたレジスト２６を
除去することにより、（ｅ）に示されているディスク基
板１２が作成される。上記反射材２２は、ガラス基板２
０側から照射されるレーザ光を反射して情報を記録すべ
きトラックを規定するものである。

また、上記ディスク基板１２上に設けられる干渉膜１４
は、特許請求の範囲における保護膜に相当するもので、
化学変化から相変化型記録媒体層１６を保護するととも
に、光の干渉により干渉膜１４の両面で反射する反射光
を打ち消し、記録感度を上げる作用を為すものであり、
５ｉ０２（二酸化硅素）等の化学的に安定な透明の酸化
物にて構成される。かかる干渉膜１４は、本実施例では
その作製手段により第１膜１４ａ及び第２″ａ１４ｂか
ら構成されており、第１膜１４ａは、回転塗布性により
ディスク基１ｆ１２の反射材２２側を七向きにして回転
させつつＳｔ等のアルコキシドを供給して塗布し、これ
を４００℃程度の高温べ−りを用いて固化させたもので
ある。これにより、反射材２２間の線間が埋められ、第
１膜１４ａのディスク基板１２と反対側の面は、ディス
ク基板１２の凹凸に拘らず略平坦となる。また、第２膜
１４ｂは、スパッタリング、真空蒸着等の物理的薄膜作
製法、或いはＣＶ　Ｄ　（ＣｈｅＩｌｉｃａｌ　Ｖａｐ
ｏｒ　Ｄｅｐ。

５ｌｔｉｏｎ）法等の化学的薄膜作製法により、上記第
１膜１４ａと同じ物質をその第１膜１４ａ上に形成した
もので、干渉膜１４が予め定められた所定の厚さとなる
ように調整される。相変化型記録媒体層１６は、Ｉｎ−
５ｅを主成分とする材料や、ＴｅＯｘを主成分とする材
料をスパッタリングや真空蒸着等により０．１μｍ以下
の厚さで上記干渉膜１４のディスク基板１２と反対側の
表面が略平坦に形成されているところから、この相変化
型記録媒体層１６は、略均一な厚さで平坦に設けられる
。

保護膜１８は、上記相変化型記録媒体層１６を化学変化
から保護するためのもので前記干渉膜１４と同様に５ｉ
０２等の化学的に安定な透明の酸化物にて構成される。

かかる保護膜１８も、その作製手段により第１膜１８ａ
及び第２膜１８ｂから構成されており、第１膜１８ａは
、スパッタリング、真空蒸着等の物理的薄膜作製法、或
いはＣＶＤ法等の化学的作製法によって作製されている
。

また、第２膜１８ｂは、回転塗布法によって上記第１膜
１８ａと同じ物質をその第１膜１８ａ上に上乗せし、高
温ベークを用いて固化させたもので、保護膜１８が予め
定められた所定の厚さとなるように調整される。この膜
厚は、例えば１μｍ以下に定められる。

尚、前記干渉膜１４の第２膜１４ｂ、相変化型記録媒体
層１６．及び保護膜１８の第１膜１８ａは、真空中から
取り出すことなく連続して作製される。そして、かかる
相変化型光デイスク１０は、そのディスク基板１２を通
してレーザ光が相変化型記録媒体層１６に照射されると
、熱の効果により可逆的に或いは非可逆的に非晶質から
結晶質に変化する。情報の記録は、この結晶状態の差に
起因する光反射率、光透過率の違いを利用して行う。

この相変化型記録媒体の特徴は、（１）オーバーライド
が可能（２）Ｃ／Ｎが高い（３）ヘッド構造が簡単等で
ある。

ここで、本実施例の相変化型光デイスク１０は、相変化
型記録媒体層１６が略均一の厚さで平坦であるため、安
定な反射特性、透過特性が得られ、その記録特性が大幅
に向上する。因に、従来の相変化型光ディスクは、第３
図に示す様にディスク基板１２゛には一体に凹凸が設け
られている一方、干渉膜１４−１保：！ｊｌ膜１８゛は
、それぞれスパッタリング、真空蒸着等の単一の薄膜作
製法により作製されている。即ち、相変化型記録媒体層
１６がディスク基板１２゛の凹凸に対応した凹凸形状を
為していたため、均一な反射特性、透過特性が得られな
くて記録・特性が損なわれるという問題があった。

また、本実施例の製造方法においては、相変化型記録媒
体層１６．及びその両面に位置する干渉膜１４の第２膜
１４ｂ、保護膜１８の第１膜１８ａが、真空中から取り
出すことなく連続して作製されるため、相変化型記録媒
体層１６の化学変化が良好に防止されるとともに、相変
化光デイスク１０を能率的に製造できる利点がある。

また、相変化型記録媒体層１６は平坦であるが、トラッ
キング用反射材２２がディスク基板１２に形成されてい
るため、従来の光ディスクと同様によく知られているプ
ッシュプル法或いは３ビーム法等により容易にトラッキ
ングを行うことができる。

以上、本発明の一実施例を図面に基づいて詳細に説明し
たが、本発明は他の態様で実施することもできる。

例えば、前記実施例ではディスク基板１２がガラス基板
２０と反射材２２とから構成されているが、反射材２２
を設ける替わりにガラス長、１ｆ２０に膚を形成したり
、ガラス基［２０の替わりにアクリル樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂、ポリオレフィン樹脂等の合成樹脂等を用い
たりすることも可能である また、上記反射材２２は金属製であるが、窒化物等の金
属以外の物質を用いることもできる。

また、前記干渉膜１４．保護膜１８は、その作製手段に
よりそれぞれ第１膜１４ａ、１８ａ及び第２Ｈ１４ｂ、
１８ｂから構成されているが、それぞれ単一の薄膜作製
法により１回で干渉膜１４゜保護膜１８を作製するよう
にしても、或いは複数の薄膜作製法により３層以上に分
けて作製するようにしても差支えない。

また、上記干渉膜１４．保護膜１８の材質は必要に応じ
て適宜変更され得る。

また、干渉膜１４は、金属アルコキシド、金属アセチル
アセテート、金属カルボキシレート等の金属有機化合物
及び硝酸塩、オキシ塩化物、塩化物等の金属無機化合物
を出発金属化合物としてゾルゲル法にて作成しても良い
。

また、相変化型記録媒体層の材質についても特に限定し
ない。

また、前述した相変化型光デイスク１０の製造方法はあ
くまでも一例であり、他の種々の製造方法を採用するこ
とができる。要するに、干渉膜１４の相変化型記録媒体
層１６側の表面に急峻な凹凸がなく、相変化型記録媒体
層１６が略均一の厚さで平坦に設けられれば良いのであ
る。

また、前記実施例の相変化型光デイスク１０はディスク
基板１２側からレーザ光が照射されるようになっている
が、ディスク基板１２と反対側からレーザ光が入射され
る形式の相変化型光ディスクにも本発明は同様に適用さ
れ得る。

〔発明の効果〕

以上詳述したことから明らかなように、本発明によれば
、相変化型記録媒体が略均一の厚みで平坦であるため、
レーザ光が記録媒体に安定に照射され、その結果、光反
射率、光透過率の安定性が向上し、その記録特性が大幅
に向上する。更に、膜の段差が原因となる雑音の発生や
膜の劣化が生じずＣ／Ｎ等の再生特性が向上すると共に
長期信頼性も向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図から第舎図までは本発明を具体化した実施例を示
すもので、第１図は、本発明の一実施例である相変化型
光ディスクの要部断面図、第２図は、第１図の相変化型
光ディスクにおけるディスク基板の作製方法の一例を説
明する図、第３図は従来の相変化型光ディスクの一例を
説明する要部断面図である。 図中、１０は相変化型光ディスク、１２はディスク基板
、１４は干渉膜、１６は相変化型記録媒体層、１８は保
３膜、２２はトラッキング用反射材である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ディスク基板上に保護膜が形成されているとともに
   、該保護膜上にレーザ光の照射により結晶質から非晶質
   へ或いはその逆へ、非可逆的或いは可逆的に相変化する
   記録媒体層が設けられている相変化型光ディスクであっ
   て、 前記保護膜の前記記録媒体層側の表面が平坦に形成され
   、該相変化記録媒体層が略均一の厚さで平坦に設けられ
   ていることを特徴とする相変化型光ディスク。 ２、前記第１項記載の相変化型光ディスクにおいて、前
   記ディスク基板が透明基板上とその上に形成されたトラ
   ッキング用反射材とから成ることを特徴とする相変化型
   光ディスク。