JPH0221060B2 - - Google Patents

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JPH0221060B2
JPH0221060B2 JP55059713A JP5971380A JPH0221060B2 JP H0221060 B2 JPH0221060 B2 JP H0221060B2 JP 55059713 A JP55059713 A JP 55059713A JP 5971380 A JP5971380 A JP 5971380A JP H0221060 B2 JPH0221060 B2 JP H0221060B2
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JP
Japan
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recording
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recording layer
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Shuzo Fukunishi
Susumu Yonezawa
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
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  • Inorganic Chemistry (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は例えばビデオデイスク等の光記録媒体
において媒体構成の改良に関するものである。
従来発表されていたこの種の反射防止構造は第
１図に示すように基板１上に順次反射層４、透明
層３、記録層２、を積層し記録層２側からのレー
ザ光７の照射により記録層２を溶融蒸発させて信
号記録を行うものであつた。このような媒体構成
の場合、ゴミなどの付着を防ぐ保護膜は第２図に
示す構成で保護膜５、スペーサ６を設置する必要
があるが、このような保護膜構成の場合、回転に
よるたわみによつて、保護膜５と記録再生ヘツド
との衝突が生ずる危険性があること、第３図に示
すような基板１を保護膜としてかねるサンンドイ
ツチ構成に適用できないこと、及び、記録層２の
溶融蒸発により信号を記録するため、記録後、蒸
発物が媒体表面上に付着し、再生時のノズルが増
大するなどの欠点があつた。
本発明は例えばビデオデイスク等のデイスク媒
体構成において、基板を保護膜とし、基板側から
の入射レーザ光に対し反射防止構造を形成し、記
録層の屈折率変化あるいは透過率変化により信号
記録録を行うことを特徴とし、その目的は、デイ
スク媒体構成において反射防止構造の適用を可能
とするとともに、媒体ノズルの低減を図ることに
ある。
以下図面を参照して本発明の実施例を詳細に説
明する。
第４図は本発明の一実施例であつて、第１の基
板１１１上に記録層１２１、透明層１３１、反射
層１４１を順次積層して反射防止構造を形成し、
第２の基板１１２上に記録層１２２、透明層１３
２、反射層１４２を順次積層して反射防止構造を
形成し、両基板１１１，１１２上に形成した記録
層１２１，１２２、透明層１３１，１３２、反射
層１４１，１４２が内側になるようにして各反射
層１４１，１４２を接着剤１８で接着して前記両
基板１１１，１１２をサンドイツチ構造とする。
しかして、前記各基板１１１，１１２側からレ
ーザ光１７１，１７２を照射して前記記録層１２
１，１２２の屈折率変化もしくは透過率変化によ
り信号を記録する。この構成において、基板１１
１，１１２側から入射したレーザ光１７１，１７
２の反射率は各層（プラスチツク基板１１１，１
１２も含む）の複素屈折率及び膜厚により導出す
ることができる。
今、各層の境界における振幅反射率、振幅透過
率をrj，tj（ｊ＝１〜４、例えば空気層と基板１１
１，１１２の境界における反射率と透過率はr1，
t1となる）各層の膜厚をdj、複素屈折率nc j＝nj−
iKjとする。基板１１１，１１２側から入射する
レーザビームの振幅をE+ 1、反射光の振幅をE- 1、
媒体透過光をE+ 5とすると次の式が成立する。
ここで δj＝2π／λnc jdj λ：記録レーザ波長 rj＝nc／j−nc／j+1／nc／j＋nc／j+1 tj＝2nc／j／nc／j＋nc／j+1 媒体からの反射率Ｒ＝｜E-／1／E+／1｜2は次の式で
示 される。
Ｒ＝｜E-／1／E+／1｜2＝｜A21／A11｜2 ｜A21／A11｜2は各層の複素屈折率、膜厚および記 録レーザ波長の関数である。従つて、反射防止構
造を形成し得る複素屈折率をもつ材料を基板１１
１，１１２、記録層１２１，１２２、透明層１３
１，１３２、反射層１４１，１４２として用い、
それらの膜厚を制御することにより反射防止構造
が可能となる。実施例としては、λ＝830nm、基
板１１１，１１２をPMMA、記録層１２１，１
２２として、レーザの熱効果により透過率変化を
生ずるAsTe，AsSeTeなどの非晶質薄膜あるい
はシアニン色素、C43H35ClO6，
C39H34Cl3N3S2O4など、透明層１３１，１３２と
してSiO2、あるいはAs2S3、反射層１４１，１４
２としてTe，Bi、あるいはAlを用いることによ
り反射防止構造が可能であり、数mW半導体レー
ザにより信号記録再生が可能であつた。
このような反射防止構造では、反射率が零の時
記録感度が最大となるが、反射率が零でない場
合、例えば反射率が０〜10％の場合においても記
録可能であり、光記録媒体として用いることがで
きる。又、ビデオデイスクのように反射光を用い
た焦点制御を行う場合には、反射防止の条件を多
少くずして、媒体を構成する方が有効である。
さらに、透明プラスチツクからなる基板と
SiO2あるいはAs2S3からなる透明層とで記録層を
直接挟み込むことによつて記録層の蒸発が抑圧さ
れることを第５図を用いて説明する。この第５図
は記録パワーと再生した信号出力の関係を示すも
のである。
基板上に記録層（AsTe）のみを形成して回転
数1800rpm、パルス幅100nSで記録・再生した実
験結果を第５図ａに示す。第５図ａより、記録パ
ワーに対する相変化を起こす範囲が狭く、記録パ
ワーを増加するとすぐ溶融蒸発が発生しているこ
とがわかる。
これに対し、基板上に記録層（AsTe）、透明
層（SiO2）、反射層（Al）を形成したこの発明を
前記の例と同時に記録・再生した実験結果を第５
図ｂに示す。第５図ｂより、記録パワーに対する
相変化を起こす範囲が大きくなることがわかる。
これは、熱に強いSiO2を透明層に用いて、記録
層を基板上の間にはさみ込んでいるので、記録層
の蒸発が抑圧されているために記録パワーのマー
ジンが大きくなつていることによる。
以上説明したように、基板上に記録層、透明
層、反射層を順次積層して、基板側から入射する
光に対し反射防止構造を形成し、記録層の屈折率
変化あるいは透過率変化により信号を記録する媒
体構成をとることにより、ビデオデイスク等にお
けるサンドイツチ型デイスク媒体における反射防
止構造の適用を可能とし、また、記録層の溶融蒸
発を防止する構造となつているので、媒体の信頼
性が向上し、記録後の媒体ノイズの増大を防ぐ利
点がある。
【図面の簡単な説明】
第１図は従来の反射防止構造の光記録媒体構成
図、第２図は従来の反射防止構造光記録媒体構成
における保護膜形成法を示す図、第３図は従来の
サンドイツチ型光記録媒体構成図、第４図は本発
明の一実施例を示す断面図、第５図は記録パワー
と信号出力を示す図である。 １１１，１１２…基板、１２１，１２２…記録
層、１３１，１３２…透明層、１４１，１４２…
反射層、１８…接着剤。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １ 透明プラスチツクからなる基板と、前記基板
    上に形成された記録層と、SiO2あるいはAs2S3か
    らなる前記記録層上に形成された透明層と、前記
    透明層上に形成された反射層とからなり、前記基
    板側からレーザ光を照射して前記記録層の屈折率
    変化もしくは透過率変化により信号を記録するこ
    とを特徴とする光学的記録媒体。
JP5971380A 1980-05-06 1980-05-06 Optical recording medium Granted JPS56156941A (en)

Priority Applications (1)

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JP5971380A JPS56156941A (en) 1980-05-06 1980-05-06 Optical recording medium

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JP5971380A JPS56156941A (en) 1980-05-06 1980-05-06 Optical recording medium

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JPS56156941A JPS56156941A (en) 1981-12-03
JPH0221060B2 true JPH0221060B2 (ja) 1990-05-11

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