JPH0337890Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 本考案は、たとえば磁気デイスクの両面を研磨
したり、あるいは研磨後の両面に僅かなすじを形
成（微粗面処理）したりするのに採用される板体
の両面処理装置に関するものである。

従来の技術 従来のたとえば磁気デイスクの研磨は、特開昭
56年130834号公報や特開昭58年120460号公報に見
られるように、磁気デイスクを縦軸心の周りで回
転させながら、その上面に対してラツピングテー
プを接触させることによつて行なつていた。この
ような従来形式によると、一面の研磨を押えたの
ち磁気デイスクの表裏をかえて（裏返して）多面
の研磨を行なうのであり、この裏返し作業を人手
により行なうことから非能率的であり、かつ高価
格の原因ともなつていた。そこで別の手段とし
て、たとえば特開昭57年111830号公報に見られる
ように、磁気デイスクを一対のアダプタで挟持し
て横軸心の周りを回転自在とし、この磁気デイス
クの両面にそれぞれパツドを作用させて、同時に
両面の研磨を行なう形式が提供されている。

考案が解決しようとする問題点 上記した両面同時研磨の従来形式によると、磁
気デイスクの着脱のたびにアダプタを締緩操作し
なければならないことから能率が悪く、また処理
後において、円板体から処理体が離間させる時に
は、滑らかに研磨された円板体の表面と研磨体の
表面との間に研磨液が含まれ強固に密着された状
態にあり、処理体といつしよに円板体が引き出さ
れることがあつた。

本考案の目的とするところは、嵌め込みによ
り、締緩操作を行なうことなく板体の装脱を行な
え、しかも板体と両処理体との面離れを確実に行
なえる板体の両面処理装置を提供する点にある。

問題点を解決するための手段 上記問題点を解決すべく本考案における板体の
両面処理装置は、板体を嵌脱自在ならびに回転自
在に支持する支持装置を設け、この支持体の一方
に下部処理体を設けるとともに他方に前記下部処
理体に対して接近離間可能な上部処理体を設け、
前記下部処理体および上部処理体を前記板体の面
に対して直交する軸心廻りに回転可能に構成し、
これら処理体のうち少なくとも上部処理体に前記
板体の離脱装置を設け、この板体離脱装置を、上
記処理体の前面複数箇所に開口する貫通孔と、そ
れぞれの貫通孔に設けられて処理体前面より突出
可能な押ピンと、これら押ピンを同時に突出可能
な作動装置とで構成としたものである。

作 用 かかる本考案構成によれば、板体は支持装置側
に嵌脱させることにより、締緩操作を行なうこと
なく装脱できる。そして板体に下部処理体と上部
処理体とを両面から接当させた状態でこれら処理
体を板体の面に直交する軸心廻りに回転させるこ
とによつて、板体を自転させながら両面に対して
研磨等の処理を行うことができる。また処理後、
上部処理体を板体から離間させるに際して、離脱
装置の作動装置により処理体の前面貫通孔から同
時に押ピンを突出させることにより、密着状態に
ある板体を処理体前面から迅速かつ確実に離間す
ることができる。

実施例 以下に本考案の一実施例を図面に基づいて説明
する。

第２図および第３図において１は内部に処理室
２を形成するケース状の本体で、所定の箇所には
透視式の開閉扉３が設けられる。処理室２内の一
端には、未処理の円板体、すなわち板体の一例で
ある磁気デイスク４を、その面を前後方向で相対
向させて並列支持し、かつ横方向に３列（複数
列）配列支持する未処理物支持部５が設けられ
る。この未処理物支持部５の支持体６は、前後移
動装置７によつて並列ピツチ分づつ前後方向に移
動自在となる。この未処理物支持部５から他端側
に順次、第１両面処理装置８と、第１洗浄装置９
と、第２両面処理装置１０と、第２洗浄装置１１
とが配設される。そして他端に、前記未処理物支
持部５と同様の処理物支持部１２が設けられる。
この処理物支持部１２の処理済み磁気デイスク４
Ａを支持する支持台１３は、前後移動装置１４に
よつて並列ピツチ分づつ前後方向に移動自在とな
り、そのピツチ移動は未処理物支持部５の移動方
向とは逆方向となる。前記処理室２内の上部に
は、両端方向に往復移動自在な第１移載装置１５
と第２移載装置１６とが配設され、ここで第１移
載装置１５は未処理物支持部５から第１洗浄装置
９までを受け持ち、また第２移載装置１６は第１
洗浄装置９から処理物支持部１２までを受け持
つ。そして両移載装置１５，１６は、それぞれ３
個（複数個）の保持装置１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃ
を有する。

上記実施例において、未処理物支持部５の支持
台上の磁気デイスク４は、第１移載装置１５の各
保持装置１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃによつて各列か
ら１個づつ取出され、保持される。そして第１移
載装置１５は他端側に移動し、第１両面処理装置
８に対向して停止したのち、保持装置１７Ａ，１
７Ｂ，１７Ｃで保持してなる３枚の磁気デイスク
４を第１両面処理装置８に渡す。この第１両面処
理装置８で所期の両面処理が同時に行なわれた３
枚の磁気デイスク４は、待機していた第１移載装
置１５の保持装置１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃによつ
て再び取出され、そして他端側への移動により第
１洗浄装置９に対向して停止される。次いで第１
移載装置１５の磁気デイスク４は第１洗浄装置９
に渡され、ここで処理後の洗浄を受ける。第１洗
浄装置９に磁気デイスク４を渡した第１移載装置
１５は未処理物支持部５側へ復帰移動し、また第
１洗浄装置９には第２移載装置１６が対向して停
止する。第１洗浄装置９にて洗浄された磁気デイ
スク４は第２移載装置１６に受取られ、そして第
２両面処理装置１０に渡される。ここで両面処理
された磁気デイスク４は、第２移載装置１６によ
り第２洗浄装置１１に渡されて洗浄を受け、これ
により処理済みとなつた磁気デイスク４Ａは処理
物支持部１２の支持台１３上に渡される。

上記実施例では処理と洗浄とを２回繰り返して
いるが、これは両面処理装置と洗浄装置とをさら
に組み込むことによつて、８回以上の繰り返しも
行なえる。

次に両面処理装置８，１０の詳細を第１図〜第
３図において説明する。

処理室２内の底板上にベース枠２０が固定さ
れ、このベース枠２０上に固定側処理部２１と可
動側処理部２２とが相対向して配設される。前記
固定側処理部２１では、ベース枠２０から立設し
た機枠２３に、軸受２４を介して回転軸２５が回
転自在に支持されており、その際に回転軸心は、
両移載装置１５，１６の移動方向とは直交状の前
後方向で、かつ可動側処理部２２側が上位となる
ように、たとえば10度傾斜させた傾斜軸心２６に
設定される。前記回転軸２５の内端にはフランジ
材２７固着され、さらにフランジ材２７の内面に
は、処理体の一例である環状の研磨体（砥石な
ど）２９が取付けられる。前記回転軸２５内には
傾斜軸心２６に沿つた流体路３０が形成され、こ
の流体路３０の外端は回転継手３１を介して供給
ホース３２に接続される。そして流体路３０の終
端（内端）を研磨体２９の前面複数箇所に開口し
ている。すなわちフランジ材２７の内側において
回転軸２５にリング材３３が取付けられ、このリ
ング材３３には前記流体路３０に連通する複数の
分配路３４が形成されている。前記研磨体２９内
には放射方向路３５が周方向に複数形成され、各
放射方向路３５は、前面に開口する複数の開口部
３６に連通している。また研磨体２９からフラン
ジ材２７に亘つては放射方向路３５に連通する中
継路３７が形成され、これら中継路３７の外端は
配管３８を介して前記分配路３４に連通してい
る。

他方の可変側処理部２２では、ベース枠２０か
な立接した機枠４０に、軸受４１を介して長さ方
向に摺動自在な筒体４２が配設され、そして筒体
４２内には軸受４３を介して回転軸４４が回転の
み自在に設けてある。前記筒体４２の摺動と回転
軸４４の回転とは、共通となる前記傾斜軸心２６
上で行なわれる。前記筒体４２に連動する摺動操
作装置４５は、機枠４０からのブラケツト４６に
横方向にピン４７を介して取付けたレバー４８
と、このレバー４８の下端に連動し、かつベース
枠２０側に取付けたシリンダ装置４９と、前記レ
バー４８の上端に連動し、かつ筒体４２の外端に
取付けた受けリング５０とから構成される。前記
回転軸４４の内端近くにはキー５１を介してボス
部材５２が固着され、そして内端には球軸受５３
を介してフランジ材５４が遊動自在に取付けてあ
る。このフランジ材５４からのピン５５はボス部
材５２に形成したばか孔５６を挿通し、またフラ
ンジ材５４とボス部材５２との間には中立維持用
のばね５７が介在される。そしてフランジ材５４
の内面には円板状の研磨体５８が取付けられる。
前記回転軸４４内には傾斜軸心２６に沿つた流体
路５９が形成され、この流体路５９の外端は回転
継手６０を介して供給ホース６７に接続される。
そして流体路５９の終端（内側）を研磨体５８の
前面複数箇所に開口している。すなわちフランジ
材５４の内端において回転軸４４にリング材６１
が取付けられ、このリング材６１には前記流体路
５９に連通する複数の分配路６２が形成されてい
る。前記研磨体５８内には放射方向路６３が周方
向に複数形成され、各放射方向路６３は、前面に
開口する複数の開口部６４に連通している。また
研磨体５８からフランジ材５４に亘つては放射方
向路６３に連通する中継路６５が形成され、これ
ら中継路６５の外端は配管６６を介して前記分配
路６２に連通している。

この可動側処理部２２には磁気デイスク４Ａの
離脱装置１５１が設けられており、このデイスク
離脱装置１５１は、第７図〜第１０図に示すよう
に、フランジ材５４部分に設けられた離脱部１５
１ａと、機枠４０に設けられて離脱部１５１ａを
作動する作動部１５１ｂからなる。前記離脱部１
５１ａは、フランジ材５４および研磨体５８に形
成された研磨体５８前面に傾斜軸心２６を中心に
周方向等間隔置きに複数個開口する貫通孔１５２
と、この貫通孔１５２に移動自在に内嵌して前端
部が研磨体５８前面より所定ストロークｌ突出可
能で、かつ後端部に係止板１５３ａが固着された
押ピン１５３と、フランジ材５４の背面周囲に形
成された受座１５４と係止板１５３ａとの間に介
装され、かつ押ピン１５３を背面側に退出付勢す
る第１ばね１５５と、各押ピン１５３の係止板１
５３ａ背面が当接するリング状の押え板１５６
と、フランジ材５４背面の押え板１５６周囲に固
定されて押え板１５６の後方への移動限を規制す
る鍔部１５７ａ有する離脱部ケース１５７とで構
成される。１５８は前記受座１５４に設けられて
押ピン１５３の突出ストロークｌを設定する筒体
である。前記作動部１５１ｂは、機枠４０の両側
部に取付板１５９を介して取付られた左右一対の
シリンダ装置１６０と、このシリンダ装置１６０
のピストンロツド１６０ａに固定されて前後移動
可能な作動プレート１６１と、この作動プレート
１６１に設けられた上下一対の押圧ボツクス１６
２とを有する。前記作動プレート１６１はその背
面に突設された上下一対のスライド軸１６３を有
し、このスライド軸１６３が取付板１５９のガイ
ド部材１６４に摺動自在に支持されて作動プレー
ト１６１の前後往復移動が案内される。前記押圧
ボツクス１６２は前記押え板１５６の対向位置
に、作動プレート１６１に固定された支持材１６
５に調整ボルト１６６を介して取付けられる。こ
の調整ボルト１６６は後部が支持部材１６５に螺
嵌するとともに、前部が押圧ボツクス１６２内に
貫通して螺嵌し、ロツクナツト１６７により押圧
ボツクス１６２を前後位置調整可能に固定する。
前記押圧ボツクス１６２はその前面の蓋部１６２
ａを貫通して突出する押圧軸１６８を有する。こ
の押圧軸１６８はその先端部が押え板１５６背面
に当接可能で、かつ後端部には押圧ボツクス１６
２内に位置する係止板１６８ａが固着されてお
り、またこの係止板１６８ａと前記調整ボルト１
６６との間には第２ばね１６９が介装されて、こ
の押圧軸１６８を前方に突出付勢している。した
がつて、この押圧軸１６８はシリンダ装置１６０
の往復ストロークを幾分長く設定して前方に突出
させることにより、第２ばね１６９に緩衝された
力で押え板１５６を前方に押し出し、押ピン１５
３を突出させることができる。またこの押圧ボツ
クス１６２によりシリンダ装置１６０の往復スト
ロークの誤差を許容することができる。

前記ベース枠２０内には前後方向の駆動軸７０
ぱ配設され、この駆動軸７０の固定側端は無端伝
動装置７１を介して固定側の回転軸２５に連動連
結している。また駆動軸７０の可動側端は歯車伝
動装置７２を介して中間軸７３に連動連結する。
この中間軸７３には伝動輪体７４が軸心方向摺動
のみ自在に外嵌され、この伝動輪体７４にベルト
７５を介して連動する受動輪体７６が可動側の回
転軸４４に固定されている。そして筒体４２と伝
動輪体７４とを、板材７７や軸受７８などを介し
て連動している。また駆動軸７０は無端伝動装置
７９を介してモーター８０に連動連結している。

前記固定側処理部２１には磁気デイスク４を嵌
脱自在ならびに回転自在に支持する支持装置９０
が設けられる。この支持装置９０は、傾斜軸心２
６上に位置するとともに回転軸２５の先端に軸受
９１を介して遊転自在に支持される支軸９８とこ
の支軸９８の遊端に固定した共用溝付きローラ９
２と、この共用溝付きローラ９２に対向し、周方
向２個を１組として、120度おきに３組配設され
た押付け用溝付きローラ９３と、これらの押付け
用溝付きローラ９３を取付けた前後軸９４を回転
自在に支持する軸受け装置９５と、この軸受け装
置９５を介して押付け用溝付きローラ９３を共用
溝付きローラ９２に対して接近、離間させるシリ
ンダ装置９６と、対となる溝付きローラ９２，９
３間で回転自在に支持されるリング状のキヤリツ
ジ９７とから構成される。

第２図〜第６図において、前記第１移載装置１
５と第２移載装置１６は、共通のレール１００に
それぞれ移動台１０１を介して横方向に移動自在
であり、その移動は、レール１００に沿つた螺子
軸１０２を配設し、この螺子軸１０２に連動する
正逆駆動自在なモータ１０３を設けるとともに、
移動台１０２と一体のナツト体１０４を螺子軸１
０２に螺合させることにより行なえる。なお移動
手段は、、上述した螺軸形式のほかにベルト形式
などであつてもよい。移動台１０１には、ガイド
１０５を介して案内され、かつシリンダ装置１０
６にて操作される昇降部材１０７が設けられ、こ
の昇降部材１０７に前記保持装置１７Ａ，１７
Ｂ，１７Ｃが横方向に配設されている。中央の保
持装置１７Ｂのベースプレート１０８Ｂは、昇降
部材１０７に対してガイド１０９の案内を受けて
昇降自在であり、その昇降はシリンダ装置１１０
により行なわれる。両側の保持装置１７Ａ，１７
Ｃのベースプレート１０８Ａ，１０８Ｃは共通ロ
ツド１１１に案内されて横方向で互いに接近離間
自在であり、その接近離間動は両ベースプレート
１０８Ａ，１０８Ｃ間に設けたシリンダ装置１１
２により行なわれ、また昇降部材１０７側に離間
限ストツパ１１３と接近限ストツパ１１４とを設
けている。各ベースプレート１０８Ａ，１０８
Ｂ，１０８Ｃの下部には横方向ピン１１５Ａ，１
１５Ｂ，１１５Ｃを介して横軸心の周りに前後揺
動自在な揺動片１１６Ａ，１１６Ｂ，１１６Ｃが
取付けてあり、その揺動はベースプレート１０８
Ａ，１０８Ｂ，１０８Ｃとの間に設けたシリンダ
装置（揺動装作装置の一例）１１７Ａ，１１７
Ｂ，１１７Ｃにより行なわれる。各揺動片１１６
Ａ，１１６Ｂ，１１６Ｃに、出退操作装置の一例
であるシリンダ装置１１８Ａ，１１８Ｂ，１１８
Ｃを介して可動片１１９Ａ，１１９Ｂ，１１９Ｃ
が取付けられ、これら可動片１１９Ａ，１１９
Ｂ，１１９Ｃにチヤツク装置１２０Ａ，１２０
Ｂ，１２０Ｃが固定される。１２１Ａ，１２１
Ｂ，１２１Ｃはガイド、１２２Ａ，１２２Ｂ，１
２２Ｃはチヤツク爪を示す。

前記可動側処理部２２のデイスク離脱装置１５
１において、離脱時に貫通孔１５２から突出する
押ピン１５３はたとえば第７図に示すように、支
持装置９０に保持された３枚のデイスク４Ａにそ
れぞれ複数本（図面では３本）が作用するように
構成される。

両洗浄装置９，１１は、３枚の磁気デイスク４
を並べて各別に支持するローラ１３０と、これら
ローラ１３０に連動する回転駆動装置１３１など
を有する。

次に上記実施例において要部の作用を説明す
る。

未処理物支持部５上の磁気デイスク４を第１移
載装置１５で取り出す際、中央のベースプレート
１０８Ｂは上昇位置にあり、また両側のベースプ
レート１０８Ａ，１０８Ｃは離間位置にある。そ
して揺動片１１６Ａ，１１６Ｂ，１１６Ｃは垂直
姿勢にあり、チヤツク装置１２０Ａ，１２０Ｂ，
１２０Ｃは退入させるとともにチヤツク爪１２２
Ａ，１１２Ｂ，１２２Ｃを接近動させている。こ
れにより各チヤツク装置１２０Ａ，１２０Ｂ，１
２０Ｃは同一レベルで、かつ所定ピツチ置きとな
る。この状態の第１移載装置１５を未処理物支持
部５の上方に停止させ、そして昇降部材１０７を
下降して磁気デイスク４の貫通孔１９にチヤツク
爪１２２Ａ，１２２Ｂ，１２２Ｃを対向させる。
次いでシリンダ装置１１８Ａ，１１８Ｂ，１１８
Ｃを作動させてチヤツク装置１２０Ａ，１２０
Ｂ，１２０Ｃを前進させ、第６図に示すように貫
通孔１９内にチヤツク爪１２２Ａ，１２２Ｂ，１
２２Ｃを突入させる。そしてチヤツク装置１２０
Ａ，１２０Ｂ，１２０Ｃを作動させ、チヤツク爪
１２２Ａ，１２２Ｂ，１２２Ｃを移動させて貫通
孔１９の内面に圧接させ、以つて磁気デイスク４
の保持を行なう。次いで昇降部材１０７を上昇さ
せて磁気デイスク４を持ち上げたのち、チヤツク
装置１２０Ａ，１２０Ｂ，１２０Ｃを後退動させ
る。その後、第１移載装置１５を他端側に移動さ
せて、第２図、第４図実線に示すように第１両面
処理装置８の上方に停止させる。次いでシリンダ
装置１１７Ａ，１１７Ｂ，１１７Ｃの作動により
揺動片１１９Ａ，１１９Ｂ，１１９Ｃを横方向ピ
ン１１５Ａ，１１５Ｂ，１１５Ｃの周りに揺動さ
せ、磁気デイスク４を傾斜軸心２６に沿つて傾斜
させる。そしてシリンダ装置１１０により中央の
ベースプレート１０８Ｂを下降させるとともに、
シリンダ装置１１２により両側のベースプレート
１０８Ａ，１０８Ｃを接近動させて、３枚の磁気
デイスク４を第１両面処理装置８に渡すための三
角状の配列とする。次いで昇降部材１０７を下降
させ、第４図仮想線に示すように各キヤリツジ９
７にそれぞれ磁気デイスク４を対向させる。この
状態でシリンダ装置１１８Ａ，１１８Ｂ，１１８
Ｃを作動させ、チヤツク装置１２０Ａ，１２０
Ｂ，１２０Ｃを介して磁気デイスク４を前進さ
せ、第５図仮想線に示すようにキヤリツジ９７内
に磁気デイスク４を挿入させる。そしてチツク爪
１２２Ａ，１２２Ｂ，１２２Ｃによる保持を解除
したのち、各部を上述とは逆作用させて保持装置
１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃを上方で待機させる。

以上により磁気デイスク４を渡した状態で研磨
（処理）に移る。すなわちキヤリツジ９７内に渡
された磁気デイスク４は、その一面が研磨体２９
の支持面（前面）によりかかるように支持されて
おり、これに対して研磨体５８が接近動される。
この接近動は、シリンダ装置４９の作動でレバー
４８を揺動させ、筒体４２を介して回転軸４４を
前進させることにより行なえる。これにより両研
磨体２９，５８で磁気デイスク４の両面を挟持し
た状態になるのであるが、その際に多少の変位
は、ばね５７に抗して球軸受５３の周りでフラン
ジ材５４が変位することから、前述した挟持は前
面に亘つてきつちりと行なわれる。この前後にモ
ータ８０が作動され、両研磨体２９，５８は傾斜
軸心２６の周りに同方向に等速回転されている。
したがつて３枚の磁気デイスク４の両面に、回転
している研磨体２９，５８を接触させて、これら
両面に対する研磨を行なう。この研磨作業中に研
磨液が、供給ホース３２，６７、回転継手３１，
６０、流体路３０，５９、分配路３４，６２、配
管３８，６６、中継路３７，６５、放射方向路３
５，６３と流れ、開口部３６，６４から研磨面に
供給される。所期の研磨を行なつたのち、先ず可
動側の研磨体５８を離間動させる。その際に、離
脱装置１５１のシリンダ装置１６０を作動させ
て、第１０図仮想線で示すように、押圧ボツクス
１６２の押圧軸１６８により押え板１５６をフラ
ンジ材５４側に押し出し、各押ピン１５３を第１
ばね１５５に抗して研磨材５８表面により所定ス
トロークｌ同時に突出させ、可動側の研磨体５８
表面より３枚の磁気デイスク４Ａを離間させて研
磨体５８といつしよに磁気デイスク４Ａが引き出
されるのを防止する。次いで第１移載装置１５の
各保持装置１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃを、クランプ
爪１２２Ａ，１２２Ｂ，１２２Ｃの動きだけを逆
として、前述した渡し時と同時に作動させ、以つ
てキヤリツジ９７内の磁気デイスク４を保持装置
１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃに保持させる。この保持
作用で、研磨体２９から磁気デイスク４を離間さ
せる際に、流体路３０などを介して開口部３６か
ら流体が噴射され、以つて両者２９，４の面離れ
を促進させる。その後、第１移載装置１５は移動
して第１洗浄装置９上で停止し、そして前述と同
じような作動によつて磁気デイスク４をローラ１
３０上に並んで降ろし、所期の洗浄を受けさせ
る。

その後、第２移載装置１６を同様の作用を行な
い、以つて処理済みの磁気デイスク４Ａを処理物
支持部１２上に渡す。

なお、上記実施例では可動側処理部２２にのみ
磁気デイスク４Ａの離間装置１５１を設け、固定
側処理部２１からの磁気デイスク４Ａの離脱は研
磨体２９の開口部３６より流体を噴射して行つた
が、この固定側処理部２１にも可動側処理部２２
と同様の離脱装置を設けてもよい。

また、上記実施例の処理対象物を円板体（磁気
デイスク）としたが、これに限るものではなく、
他の形状の板体であつてもよい。

考案の効果 上記構成の本考案によると、板体は支持装置側
に嵌脱させることにより、締緩操作を行なうこと
なく装脱することができ、装脱を含めて全体の作
業を能率的に行なうことができる。そして板体の
両面に処理体を接当させた状態で両処理体を板体
の面に直交する軸心廻りに回転させることによ
り、板体の両面の処理作業（研磨など）を行うこ
とができる。また、処理体に設けた板体の離脱装
置により、処理後の板体からの離間時に、作動装
置を作動して処理体前面の開口から押ピンを同時
に突出させることにより上部処理体と板体とを迅
速かつ確実に離間させることができる。

【図面の簡単な説明】

図面は本考扱の一実施例を示し、第１図は両面
処理装置の縦断側面図、第２図は全体の一部切欠
き側面図、第３図は同一部切欠き正面図、第４図
は移載装置部の側面図、第５図は同正面図、第６
図は保持装置部の縦断面図、第７図は可動側処理
部の部分正面図、第８図は離脱装置部を示す一部
切欠き全体側面図、第９図は同一部平面図、第１
図は同一部拡大縦断面図である。 ４……磁気デイスク（未処理円板体）、４Ａ…
…磁気デイスク（処理済円板体）、５……未処理
物支持部、８……第１両面処理装置、９……第１
洗浄装置、１０……第２両面処理装置、１１……
第２洗浄装置、１２……処理物支持部、１５……
第１移載装置、１６……第２移載装置、１７Ａ，
１７Ｂ，１７Ｃ……保持装置、１９……磁気デイ
スク貫通孔、２１……固定側処理部、２２……可
動側処理部、２５……回転軸、２６……傾斜軸心
（回転軸心）、２９……研磨体（処理体）、４０…
…機枠、４４……回転軸、４５……摺動操作装
置、５４……フランジ材、５８……研磨体（処理
体）、５９……流体路、６４……開口部、６７…
…供給ホース、９０……支持装置、９７……キヤ
リツジ、１０７……昇降部材、１０８Ａ，１０８
Ｂ，１０８Ｃ……ベースプレート、１１６Ａ，１
１６Ｂ，１１６Ｃ……揺動片、１２０Ａ，１２０
Ｂ，１２０Ｃ……チヤツク装置、１２２Ａ，１２
２Ｂ，１２２Ｃ……チヤツク爪、１５１……デイ
スク離脱装置、１５２……貫通孔、１５３…押ピ
ン、１５５……第１ばね、１５６……押え板、１
６０……シリンダ装置、１６１……作動プレー
ト、１６２……押圧ボツクス、１６８……押圧
軸、１６９……第２ばね。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 板体を嵌脱自在ならびに回転自在に支持する支
   持装置を設け、この支持体の一方に下部処理体を
   設けるとともに他方に前記下部処理体に対して接
   近離間可能な上部処理体を設け、前記下部処理体
   および上部処理体を前記板体の面に対して直交す
   る軸心廻りに回転可能に構成し、これら処理体の
   うち少なくとも上部処理体に前記板体の離脱装置
   を設け、この板体離脱装置を、上記処理体の前面
   複数箇所に開口する貫通孔と、それぞれの貫通孔
   に設けられて処理体前面より突出可能な押ピン
   と、これら押ピンを同時に突出可能な作動装置と
   で構成したことを特徴とする板体の両面処理装
   置。