JPH0338360B2 - - Google Patents
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- JPH0338360B2 JPH0338360B2 JP56077793A JP7779381A JPH0338360B2 JP H0338360 B2 JPH0338360 B2 JP H0338360B2 JP 56077793 A JP56077793 A JP 56077793A JP 7779381 A JP7779381 A JP 7779381A JP H0338360 B2 JPH0338360 B2 JP H0338360B2
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- etching
- aluminum
- solution
- etching solution
- nitric acid
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は印刷版用アルミニウム板の電解エツチ
ング法に関するものである。特に本発明は硝酸水
溶液中での電解エツチングにおいて、印刷版用ア
ルミニウム板に均一な砂目立を行なう方法に関す
るものである。また、本発明は、上記に加えて電
解エツチングにおける硝酸の消費量を節減し、か
つ廃水処理の負担を軽減する方法に関するもので
ある。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an electrolytic etching method for aluminum plates for printing plates. In particular, the present invention relates to a method for uniformly graining an aluminum plate for printing plates by electrolytic etching in an aqueous nitric acid solution. In addition to the above, the present invention also relates to a method of reducing the amount of nitric acid consumed in electrolytic etching and reducing the burden of wastewater treatment.
印刷版用アルミニウム板を硝酸水溶液中で電解
エツチングすることにより、アルミニウム板に砂
目立を行なうことは公知である。電解エツチング
に際しては、アルミニウムが水溶液中に溶解し、
同時にこれと当量の硝酸が消費される。従つて、
エツチング槽に次々とアルミニウム板を送り込ん
で電解エツチングを行なうと、エツチング液中の
アルミニウムイオン濃度が高まり、かつ遊離硝酸
濃度が低下する。このようなエツチング液組成の
変化は、電気伝導度を低下させ、かつ得られる砂
目立の性状を変化させる。特にエツチング液中の
アルミニウムイオン濃度の上昇は、砂目立の性状
を悪化させる危険性がある。従つてエツチング液
は、アルミニウムイオン濃度および遊離硝酸濃度
のいずれをも一定の範囲内に維持することが必要
である。 It is known to grain aluminum plates for printing plates by electrolytically etching them in an aqueous solution of nitric acid. During electrolytic etching, aluminum is dissolved in an aqueous solution,
At the same time, an equivalent amount of nitric acid is consumed. Therefore,
When aluminum plates are fed one after another into an etching tank and subjected to electrolytic etching, the concentration of aluminum ions in the etching solution increases and the concentration of free nitric acid decreases. Such a change in the composition of the etching solution lowers the electrical conductivity and changes the properties of the resulting grains. In particular, an increase in the concentration of aluminum ions in the etching solution poses a risk of deteriorating the properties of the grains. Therefore, it is necessary for the etching solution to maintain both the aluminum ion concentration and the free nitric acid concentration within a certain range.
エツチング液の管理法としては、アルミニウム
の溶解によつて消費されるのと当量の硝酸を補給
しながらエツチングを行ない、液中のアルミニウ
ムイオン濃度が許容限度に達したならば、エツチ
ング液を全量廃棄する方法がある。 To manage the etching solution, etching is performed while replenishing the amount of nitric acid equivalent to that consumed by dissolving the aluminum, and when the concentration of aluminum ions in the solution reaches the permissible limit, the entire amount of the etching solution is discarded. There is a way to do it.
しかし、この方法によるときは、エツチング液
中のアルミニウムイオン濃度が漸次上昇するの
で、得られる砂目立の性状が漸次変化する。従つ
て得られる砂目立の性状の均一性を維持するため
には、アルミニウムイオン濃度の許容限度を低く
する必要があるが、これには必然的に多量の遊離
硝酸の廃棄を伴う。 However, when using this method, the aluminum ion concentration in the etching solution gradually increases, so the properties of the grains obtained gradually change. Therefore, in order to maintain the uniformity of the grain properties obtained, it is necessary to lower the permissible limit for the aluminum ion concentration, which necessarily involves the disposal of large amounts of free nitric acid.
また、別法として、エツチング液中のアルミニ
ウムイオン濃度がほぼ一定となるように、連続的
ないし間欠的にエツチング液の一部を抜出して廃
棄し、同時に抜出したエツチング液中の硝酸根と
当量の硝酸を含む水溶液を補給することにより、
エツチング液の組成をほぼ一定に維持することも
できる。 Alternatively, a portion of the etching solution may be continuously or intermittently withdrawn and discarded so that the aluminum ion concentration in the etching solution remains approximately constant, and at the same time, a portion of the etching solution equivalent to the nitrate radicals in the withdrawn etching solution may be removed. By replenishing an aqueous solution containing nitric acid,
It is also possible to maintain the composition of the etching solution approximately constant.
これらいずれの方法においても、廃棄されるエ
ツチング液中には多量の遊離硝酸が含まれている
ので、遊離硝酸の損失となることは免れない。ま
た、廃棄されたエツチング液を公共水域へ放出す
るには、アリカリによる硝酸の中和および微生物
処理による硝酸根の除去といつた前処理が必要で
ある。 In any of these methods, since the etching solution to be discarded contains a large amount of free nitric acid, loss of free nitric acid is inevitable. In addition, before discharging waste etching solution into public waters, pretreatment is necessary, including neutralization of nitric acid with alkali and removal of nitrate roots by microbial treatment.
本発明は硝酸水溶液中で印刷版用アルミニウム
板の電解エツチングを行なうに際し、上述の如き
従来のエツチング液の管理方法に伴う困難を回避
する方法を提供するものである。 The present invention provides a method for electrolytically etching aluminum plates for printing plates in an aqueous nitric acid solution, which avoids the difficulties associated with the conventional etching solution management methods described above.
本発明によれば、エツチング液を収容したエツ
チング槽と強酸性陽イオン交換樹脂を収容したイ
オン交換樹脂槽との間をエツチング液を循環させ
ることによりエツチング槽中の液組成を遊離硝酸
10〜30ｇ／、アルミニウムイオン５ｇ／以下
に維持しながら、エツチング槽中にアルミニウム
板を浸漬して電解エツチングすることにより、印
刷版用アルミニウム板の電解エツチングが行なわ
れる。 According to the present invention, by circulating the etching solution between an etching bath containing an etching solution and an ion exchange resin bath containing a strongly acidic cation exchange resin, the liquid composition in the etching bath is reduced to free nitric acid.
Electrolytic etching of an aluminum plate for a printing plate is carried out by immersing the aluminum plate in an etching bath and performing electrolytic etching while maintaining the aluminum ion concentration at 10 to 30 g/5 g/or less.
本発明について更に詳細に説明すれば、本発明
は硝酸水溶液を用いる公知の印刷版用アルミニウ
ム板の電解エツチングにおいて、エツチング液を
強酸性陽イオン交換樹脂で処理して、液中のアル
ミニウムイオンを吸着除去し、同時にアルミニウ
ムイオンに固定されていた硝酸根から硝酸を再生
させることにより、エツチング液の組成を一定に
維持しつつエツチングを行なう方法であり、これ
により印刷板用アルミニウム板に均一な砂目立を
施すことができる。本発明方法によれば、電解エ
ツチングにより生成したアルミニウムイオンはイ
オン交換樹脂に吸着されてエツチング液から除去
されるので、従来法のようなアルミニウムイオン
の除去に伴う硝酸の損失を防止できる。従つて本
発明方法によれば廃水処理の負担が著るしく軽減
される。 To explain the present invention in more detail, the present invention involves treating the etching solution with a strongly acidic cation exchange resin to adsorb aluminum ions in the solution in the known electrolytic etching of aluminum plates for printing plates using an aqueous nitric acid solution. This is a method to perform etching while maintaining the composition of the etching solution constant by removing nitric acid and simultaneously regenerating nitric acid from the nitric acid radicals that were fixed to aluminum ions. A stand can be applied. According to the method of the present invention, aluminum ions generated by electrolytic etching are adsorbed by the ion exchange resin and removed from the etching solution, thereby preventing the loss of nitric acid associated with the removal of aluminum ions as in the conventional method. Therefore, according to the method of the present invention, the burden of wastewater treatment is significantly reduced.
本発明方法による印刷版用アルミニウム板の電
解エツチングについて具体的に説明されば、アル
ミニウム板は常法により脱脂、洗浄等の前処理を
経て表面を清浄にしたのち、本発明方法による電
解エツチングに供される。アルミニウム板として
は、通常、1050材の如き純アルミニウム板が用い
られるが、アルミニウム合金板を用いることもで
きる。エツチングに際しては、アルミニウム中に
含有されている金属もイオンとしてエツチング液
中に溶解するが、本発明方法によればこれらの共
存金属イオンもアルミニウムイオンと同じく強酸
性陽イオ交換樹脂により吸着除去できる。アルミ
ニウム板は、通常、長尺で用いられ、前処理−電
解エツチング−後処理の各工程をアルミニウム板
が連続的に走行する。前処理としては、例えば、
トリクレン、シンナーなどによる溶剤脱脂、また
はケロシンとトリエタノールアミンなどによるエ
マルシヨン脱脂を行ない、次いで１〜10％苛性ソ
ーダ水溶液に20〜70℃で５秒〜10分間浸漬したの
ち、10〜20％硝酸（または硫酸）水溶液に10〜50
℃で５秒〜５分間浸漬する方法などが用いられ
る。 To specifically explain the electrolytic etching of an aluminum plate for printing plates according to the method of the present invention, the aluminum plate is subjected to pretreatment such as degreasing and washing by a conventional method to clean the surface, and then subjected to electrolytic etching according to the method of the present invention. be done. As the aluminum plate, a pure aluminum plate such as 1050 material is usually used, but an aluminum alloy plate can also be used. During etching, metals contained in aluminum are also dissolved in the etching solution as ions, but according to the method of the present invention, these coexisting metal ions can be adsorbed and removed by the strongly acidic cation exchange resin in the same way as aluminum ions. The aluminum plate is usually used in a long length, and the aluminum plate is continuously run through the steps of pre-treatment, electrolytic etching and post-treatment. As pre-processing, for example,
Solvent degreasing with Triclean, thinner, etc. or emulsion degreasing with kerosene and triethanolamine, etc., followed by immersion in a 1-10% caustic soda aqueous solution at 20-70°C for 5 seconds to 10 minutes, followed by 10-20% nitric acid (or sulfuric acid) 10 to 50 in aqueous solution
A method such as immersion at ℃ for 5 seconds to 5 minutes is used.
電解エツチングは、上述の前処理を経たアルミ
ニウム板をエツチング槽に収容したエツチング液
中に浸漬し、槽内に設けた電極とアルミニウム板
との間に通電することにより行なわれる。エツチ
ングの条件ほ通常、電流密度20〜200A／ｄm2、
エツチング時間10〜300秒、液温10〜40℃である。 Electrolytic etching is carried out by immersing the aluminum plate, which has undergone the above-mentioned pretreatment, in an etching solution contained in an etching bath, and by applying electricity between the electrode provided in the bath and the aluminum plate. The etching conditions are usually a current density of 20 to 200 A/dm 2 ,
Etching time is 10 to 300 seconds, and liquid temperature is 10 to 40°C.
エツチングは、液組成を、遊離硝酸濃度10〜30
ｇ／、アルミニウムイオン濃度５ｇ／以下に
維持して行なわれる。遊離硝酸濃度が10ｇ／よ
り低下すると、電解電圧が高くなつて電力消費が
増大する。また、電流密度を大きくしてエツチン
グ時間を短縮しようとすると、エツチングが不均
一となり易く、場合によつては砂目立されない部
分が残り、印刷版用支持体として使用できない。
また、遊離硝酸濃度が30ｇ／を超える場合もエ
ツチングが不均一となり易い。さらに遊離硝酸濃
度を高くすることは、エツチング液をイオン交換
樹脂で処理してアルミニウムイオンを吸着させる
際に、アルミニウムイオンの平衡吸着量を減少さ
せる。エツチング液中の好適な遊離硝酸濃度は15
〜25ｇ／である。 Etching changes the liquid composition to a free nitric acid concentration of 10 to 30.
g/, and the aluminum ion concentration is maintained at 5 g/or less. When the free nitric acid concentration decreases below 10 g/L, the electrolysis voltage increases and power consumption increases. Furthermore, if an attempt is made to shorten the etching time by increasing the current density, the etching tends to become non-uniform, and in some cases, ungrained areas remain, making it impossible to use the substrate as a printing plate support.
Furthermore, if the concentration of free nitric acid exceeds 30 g/l, etching tends to be non-uniform. Furthermore, increasing the concentration of free nitric acid reduces the equilibrium adsorption amount of aluminum ions when the etching solution is treated with an ion exchange resin to adsorb aluminum ions. The preferred free nitric acid concentration in the etching solution is 15
~25g/.
エツチング液中のアルミニウムイオン濃度は、
エツチングされたアルミニウム板のエツチングの
均一性およびエツチングの深さ（表面粗さ）に影
響する。アルミニウムイオン濃度が高いと均一な
エツチングが不可能となるので、アルミニウムイ
オン濃度は５／ｌ以下、好ましくは４ｇ／以
下に維持する。また、この範囲内においても、ア
ルミニウムイオン濃度が変化するとエツチングの
深さが変化する。例えば第１図は、アルミニウム
板（1050材）に遊離硝酸20±２ｇ／、温度30℃
で20秒間エツチングを行なつた場合の、液中のア
ルミニウムイオン濃度とエツチング深さとの関係
の１例を示したものである。同図から明らかなよ
うに、エツチング深さを一定にするには、他の条
件に加えて、アルミニウムイオン濃度をも一定に
する必要があり、アルミニウムイオン濃度は好ま
しくは基準値に対して±1.5ｇ／以下、特に±
1.0ｇ／ｌ以下に維持される。 The aluminum ion concentration in the etching solution is
Affects the etching uniformity and etching depth (surface roughness) of the etched aluminum plate. If the aluminum ion concentration is high, uniform etching becomes impossible, so the aluminum ion concentration is maintained at 5/l or less, preferably 4 g/l or less. Furthermore, even within this range, the etching depth changes as the aluminum ion concentration changes. For example, Figure 1 shows 20±2g of free nitric acid on an aluminum plate (1050 material) at a temperature of 30℃.
This figure shows an example of the relationship between the aluminum ion concentration in the solution and the etching depth when etching is performed for 20 seconds. As is clear from the figure, in order to keep the etching depth constant, it is necessary to keep the aluminum ion concentration constant in addition to other conditions, and the aluminum ion concentration is preferably ±1.5 with respect to the reference value. g/ or less, especially ±
Maintained below 1.0g/l.
本発明方法では、エツチング液の組成を所定の
範囲に維持するために、強酸性陽イオン交換樹脂
を収容したイオン交換樹脂槽を設置し、これとエ
ツチング槽との間をエツチング液を循環させるこ
とにより、アルミニウムイオンを吸着除去すると
共にアルミニウムイオンに結合していた硝酸を遊
離させる。イオン交換樹脂槽は２槽設け、交互に
切替え使用するのが好ましい。また、この際、イ
オン交換樹脂槽から流出するエツチング液中にア
ルミニウムイオンが漏洩しはじめたならば、この
流出液を更に次のイオン交換樹脂槽に導入するい
わゆるメルーゴーラウンド方式をとることもでき
る。 In the method of the present invention, in order to maintain the composition of the etching solution within a predetermined range, an ion exchange resin tank containing a strongly acidic cation exchange resin is installed, and the etching solution is circulated between this and the etching tank. As a result, aluminum ions are adsorbed and removed, and nitric acid bound to aluminum ions is liberated. It is preferable to provide two ion exchange resin tanks and use them alternately. Additionally, at this time, if aluminum ions begin to leak into the etching solution flowing out from the ion exchange resin tank, a so-called Meru-Go-Round method can be used in which this effluent is further introduced into the next ion exchange resin tank. .
遊離硝酸と共存するアルミニウムイオンがイオ
ン交換樹脂にどの程度吸着されるかは、吸着平衡
に依存する。そして遊離硝酸濃度とアルミニウム
イオン濃度との組合せの如何によつては、アルミ
ニウムイオンの平衡吸着量が小さくなり、イオン
交換樹脂によるアルミニウムイオンの吸着除去が
工業的に成立しなくなる。 The extent to which aluminum ions coexisting with free nitric acid are adsorbed by the ion exchange resin depends on the adsorption equilibrium. Depending on the combination of the free nitric acid concentration and the aluminum ion concentration, the equilibrium adsorption amount of aluminum ions becomes small, and adsorption and removal of aluminum ions by the ion exchange resin becomes industrially unfeasible.
本発明者らは遊離硝酸とアルミニウムイオンと
の共存するエツチング液を市販の強酸性陽イオン
交換樹脂と接触させた場合の吸着平衡について検
討した結果、遊離硝酸濃度が10〜30ｇ／の範囲
であれば、アルミニウムイオン濃度１〜２ｇ／
のときにイオン交換樹脂の交換容量の約75％のア
ルミニウム吸着容量を有することが判明した。こ
のアルミニウム吸着容量は十分に実用的な値であ
る。ただ、アルミニウム濃度が低下すると吸着容
量も減少するので、エツチング液中のアルミニウ
ムイオン濃度は0.5ｇ／以上であることが好ま
しい。 The present inventors investigated the adsorption equilibrium when an etching solution in which free nitric acid and aluminum ions coexist were brought into contact with a commercially available strongly acidic cation exchange resin. For example, aluminum ion concentration 1 to 2 g/
It was found that the aluminum adsorption capacity was approximately 75% of the exchange capacity of the ion exchange resin. This aluminum adsorption capacity is a sufficiently practical value. However, as the aluminum concentration decreases, the adsorption capacity also decreases, so the aluminum ion concentration in the etching solution is preferably 0.5 g/or more.
本発明方法におけるイオン交換樹脂によるエツ
チング液の処理は、イオン交換処理の常法に従つ
て行なわれる。通常はイオン交換樹脂を充填した
樹脂塔にエツチング液を下向流で通液する方法が
用いられる。樹脂塔から流出するエツチング液は
エツチング槽に循環する。従つて流出液中へのア
ルミニウムイオンの漏洩は問題とならず、樹脂塔
がエツチング液とほぼ平衡に達するまで通液を行
なうことができる。吸着能力を失つた樹脂塔は、
塩酸または硫酸で処理して、アルミニウムイオン
を脱離させたのち、再びエツチング液の処理に用
いる。通常は、先ず樹脂塔内のエツチング液を水
で押出して、流出するエツチング液をできるだけ
エツチング槽に戻したのち、酸を導入してアルミ
ニウムイオンを脱離させる。これにより廃水中へ
の硝酸根の流出を最小限に抑えることができる。
酸の導入量は吸着されているアルミニウムイオン
の１〜２倍当量で十分である。本発明者らの検討
によれば、再生条件にもよるが、当量の塩酸でア
ルミニウムの約70％が脱離し、1.5倍量の塩酸で
約80％が脱離する。さらに多量の酸を用いれば脱
着率は更に向上するが、処理液中へのアルミニウ
ムイオンの漏洩が許容される本発明方法において
は、再生効率を低下させてまでこれ以上脱着率を
向上させることは有利ではない。酸の好適な導入
量は吸着されているアルミニウムの１〜1.5倍当
量である。再生の終了した樹脂塔は水洗したのち
再びエツチング液の処理に供する。 The treatment of the etching solution with the ion exchange resin in the method of the present invention is carried out in accordance with the conventional method of ion exchange treatment. Usually, a method is used in which an etching solution is passed in a downward flow through a resin tower filled with an ion exchange resin. The etching solution flowing out of the resin column is circulated to the etching tank. Therefore, the leakage of aluminum ions into the effluent does not pose a problem, and the resin column can be passed until it reaches almost equilibrium with the etching solution. The resin tower that has lost its adsorption capacity is
After being treated with hydrochloric acid or sulfuric acid to remove aluminum ions, it is used again as an etching solution. Usually, the etching solution in the resin tower is first extruded with water, and after returning as much of the etching solution as possible as possible to the etching tank, acid is introduced to remove aluminum ions. This allows the leakage of nitrate radicals into wastewater to be minimized.
The amount of acid introduced is sufficient to be 1 to 2 equivalents of the adsorbed aluminum ions. According to studies by the present inventors, approximately 70% of aluminum is desorbed with an equivalent amount of hydrochloric acid, and approximately 80% is desorbed with 1.5 times the amount of hydrochloric acid, although it depends on the regeneration conditions. If a larger amount of acid is used, the desorption rate can be further improved, but in the method of the present invention, where leakage of aluminum ions into the processing solution is allowed, it is impossible to further improve the desorption rate by reducing the regeneration efficiency. Not advantageous. The preferred amount of acid introduced is 1 to 1.5 equivalents of the amount of aluminum being adsorbed. After the resin tower has been regenerated, it is washed with water and then subjected to etching solution treatment again.
本発明によれば硝酸を殆んど消費することなく
硝酸水溶液中で印刷版用アルミニウムのエツチン
グを行なうことができる。また、イオン交換樹脂
の再生に際しても少過剰の塩酸または硫酸で十分
である。例えば、エツチング液の組成を遊離硝酸
20ｇ／、アルミニウムイオン２ｇ／に維持す
る場合、従来法のようにエツチング液を抜出して
廃棄し、代りに硝酸水溶液を補給する方法では、
１ｇのアルミニウムイオンを除去する毎に178ｇ
の硝酸を補給する必要があり、また、廃棄エツチ
ング液の中和に約11ｇの苛性ソーダを必要とす
る。しかし本発明方法によれば、硝酸の補給量
は、樹脂塔を再生する際に廃水中に流出する硝酸
根に相当する量で十分であり、通常は多くともア
ルミニウム１ｇにつき約0.2ｇにすぎない。また、
樹脂塔の再生に必要な塩酸は通常アルミニウム１
ｇにつき約６〜８ｇであり、従つて再生廃液の中
和に要する苛性ソーダも約６〜８ｇにすぎない。
このように本発明方法によれば酸およびアルカリ
の消費量を著るしく節減することができる。ま
た、廃水中への硝酸根の流出が極めて少ないの
で、廃水処理の負担が大幅に軽減される。 According to the present invention, aluminum for printing plates can be etched in an aqueous nitric acid solution without consuming much nitric acid. Also, a slight excess of hydrochloric acid or sulfuric acid is sufficient for regenerating the ion exchange resin. For example, change the composition of the etching solution to free nitric acid.
20g/, aluminum ion 2g/, the conventional method of extracting and discarding the etching solution and replenishing the nitric acid aqueous solution instead.
178g for every 1g of aluminum ion removed
of nitric acid must be replenished, and approximately 11 g of caustic soda is required to neutralize the waste etching solution. However, according to the method of the present invention, the amount of nitric acid replenishment is sufficient to correspond to the amount of nitric acid that flows out into the wastewater when regenerating the resin column, and is usually only about 0.2 g per 1 g of aluminum at most. . Also,
The hydrochloric acid required to regenerate the resin tower is usually aluminum 1
Therefore, the amount of caustic soda required to neutralize the regenerated waste liquid is only about 6 to 8 g.
Thus, according to the method of the present invention, the consumption of acids and alkalis can be significantly reduced. In addition, since the amount of nitrate radicals released into wastewater is extremely small, the burden of wastewater treatment is greatly reduced.
次に実施例により本発明をさらに具体的に説明
するが、本発明はその要旨をこえない限り、以下
の実施例に限定されるものではない。 Next, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples unless it exceeds the gist thereof.
実施例
遊離硝酸20.5ｇ／、アルミニウムイオン２
ｇ／のエツチング液280を30℃に保持し、こ
の中に1000×1000×0.3mmのアルミニウム板
（1050材）を浸漬し、黒鉛を対極として、アルミ
ニウム板の片面に60A／ｄm2で20秒間電解エツチ
ングを施した。アルミニウム板を取換えて次々と
電解エツチングを行ない、合計で10枚のアルミニ
ウム板に電解エツチングを行なつたところ、エツ
チング液の組成は遊離硝酸18.7ｇ／、アルミニ
ウムイオン濃度2.25ｇ／に変化した。Example Free nitric acid 20.5g/, aluminum ion 2
A 1000 x 1000 x 0.3 mm aluminum plate (1050 material) was immersed in an etching solution of 280 g/g/dm at 30°C, and 60 A/dm 2 was applied to one side of the aluminum plate for 20 seconds using graphite as a counter electrode. Electrolytically etched. When the aluminum plates were replaced and electrolytically etched one after another, a total of 10 aluminum plates were electrolytically etched, the composition of the etching solution changed to 18.7 g of free nitric acid/2.25 g of aluminum ion concentration.
100mmψ×2000mmＨのカラムに市販の強酸性陽
イオン交換樹脂12.6（Ｈ型）を充填し、これに
上記のエツチング液50を約260ml／分で通液し
た。通液終了後、カラム内に残つたエツチング液
を脱塩水で押出して回収し、遊離硝酸34ｇ／、
アルミニウムイオン0.03ｇ／の処理液50を得
た。この処理液50を上記のエツチング液の残り
230と混合して、遊離硝酸21.4ｇ／、アルミ
ニウムイオン濃度1.85ｇ／のエツチング液280
を再調製した。 A commercially available strongly acidic cation exchange resin 12.6 (H type) was packed in a 100 mm ψ x 2000 mmH column, and the above etching solution 50 was passed through it at a rate of about 260 ml/min. After passing through the column, the etching solution remaining in the column was recovered by extruding it with demineralized water, and 34 g of free nitric acid was recovered.
A treatment solution 50 containing 0.03 g of aluminum ions was obtained. Add 50% of this processing solution to the remainder of the above etching solution.
Etching solution 280 with free nitric acid 21.4g/, aluminum ion concentration 1.85g/
was re-prepared.
一方、イオン交換樹脂カラムには、20％塩酸４
を約130ml／分で通液して吸着されているアル
ミニウムイオンを脱着させ、更に脱塩水で十分に
水洗して再生した。 On the other hand, for the ion exchange resin column, 20% hydrochloric acid 4
was passed at a rate of about 130 ml/min to desorb the adsorbed aluminum ions, and was then thoroughly washed with demineralized water for regeneration.
上記で再調製したエツチング液を用いて、上記
と全く同様にしてアルミニウム板の電解エツチン
グを20枚実施した。次いでエツチング液50を上
記と全く同様にしてイオン交換樹脂で処理して処
理液50を回収し、これを末処理のエツチング液
230と混合してエツチング液を再調製した。一
方、イオン交換樹脂カラムは上記と全く同様にし
て再生した。この電解エツチング（20枚）−エツ
チング液再調製を更に８回反復し、合計で190枚
のアルミニウム板に電解エツチングを施した。こ
れらのアルミニウム板の砂目の性状は均一で、砂
目深さ（平均粗さ）は0.45〜0.55μの範囲にあり、
安定した品質のものであつた。また、この間にお
けるエツチング液の組成の変化は、遊離硝酸濃度
は17.6〜21.7ｇ／、アルミニウムイオン濃度は
1.80〜2.30ｇ／であつた。なお、この実施例で
は処理液中にアルミニウムイオンが漏洩しないよ
うに大容量の樹脂塔と十分な量の塩酸を使用した
が、樹脂塔の容量を小さくし、塩酸の使用量を削
減しても同様な品質の砂目板を得ることができ
る。 Using the etching solution re-prepared above, 20 aluminum plates were electrolytically etched in exactly the same manner as above. Next, the etching solution 50 is treated with an ion exchange resin in exactly the same manner as above to recover the processing solution 50, which is used as the etching solution for final treatment.
230 and re-prepared the etching solution. On the other hand, the ion exchange resin column was regenerated in exactly the same manner as above. This electrolytic etching (20 sheets)--etching solution re-preparation process was repeated eight more times, and a total of 190 aluminum plates were electrolytically etched. The grain properties of these aluminum plates are uniform, and the grain depth (average roughness) ranges from 0.45 to 0.55μ.
It was of stable quality. Also, during this period, the composition of the etching solution changed; the concentration of free nitric acid was 17.6 to 21.7g/, and the concentration of aluminum ion was 17.6 to 21.7g/.
It was 1.80-2.30g/. In this example, a large-capacity resin tower and a sufficient amount of hydrochloric acid were used to prevent aluminum ions from leaking into the processing solution. However, even if the resin tower capacity is made smaller and the amount of hydrochloric acid used is reduced, Grained boards of similar quality can be obtained.
参考例
上記の実施例で得た１枚目と180枚目の砂目板
を、５％苛性ソーダ水溶液中で60℃、10秒間のデ
スマツト処理を行ない、さらに20％硫酸水溶液中
で25℃、6A／ｄm2、30秒間の陽極酸化を行なつ
たのち、０−キノンジアジド系感光液を塗布して
印刷版を作成した。これにポジ型フイルムを重ね
て露光したのち現像した。このようにして作成し
た版をオフセツト印刷に用いたところ、いずれも
15万部印刷した後もまだ印刷可能の状態にあり、
両者間に印刷性の差は全くなかつた。Reference example The 1st and 180th grained boards obtained in the above example were desmatted in a 5% aqueous solution of caustic soda at 60°C for 10 seconds, and then in a 20% aqueous sulfuric acid solution at 25°C at 6A. /dm 2 for 30 seconds, and then an 0-quinonediazide photosensitive solution was applied to prepare a printing plate. A positive film was layered on top of this, exposed, and then developed. When the plates created in this way were used for offset printing, both
After printing 150,000 copies, it is still in printable condition.
There was no difference in printability between the two.
第１図は遊離硝酸濃度20±２ｇ／、温度30℃
のエツチング液中で20秒間エツチングを行なつた
場合の、エツチング液中のアルミニウムイオン濃
度（ｇ／）とエツチング深さ（平均粗さ）との
関係の１例を示すグラフである。図中、Ａ，Ｂ，
Ｃはそれぞれ電流密度80A／ｄm2、60A／ｄm2、
40A／ｄm2でのエツチングを示す。
Figure 1 shows free nitric acid concentration 20±2g/, temperature 30℃
3 is a graph showing an example of the relationship between the aluminum ion concentration (g/) in the etching solution and the etching depth (average roughness) when etching is performed for 20 seconds in the etching solution. In the figure, A, B,
C has a current density of 80A/dm 2 , 60A/dm 2 ,
Etching at 40A/ dm2 is shown.
Claims (1)
性陽イオン交換樹脂を収容したイオン交換樹脂槽
との間をエツチング液を循環させることによりエ
ツチング槽中の液組成を遊離硝酸10〜30ｇ／、
アルミニウムイオン５ｇ／以下に維持しなが
ら、エツチング槽中にアルミニウム板を浸漬して
電解エツチングすることを特徴とする印刷版用ア
ルミニウム板の電解エツチング法。 ２ エツチング槽中の液の遊離硝酸濃度を15〜25
ｇ／に維持することを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載の方法。 ３ エツチング槽中の液のアルミニウムイオン濃
度を４ｇ／以下に維持することを特徴とする特
許請求の範囲第１項または第２項記載の方法。 ４ エツチング槽中の液のアルミニウムイオン濃
度の変化を基準値の上下それぞれ1.5ｇ／の範
囲内に制御することを特徴とする特許請求の範囲
第１項ないし第３項のいずれかに記載の方法。 ５ アルミニウムイオンを吸着したイオン交換樹
脂槽に水を供給して槽中のエツチング液を水で押
出したのち、イオン交換樹脂に吸着されているア
ルミニウムイオンの２倍当量以下の塩酸または硫
酸を供給してアルミニウムイオンを脱離させ、次
いで水で洗浄したのちイオン交換樹脂を再びエツ
チング液の処理に供することを特徴とする特許請
求の範囲第１項ないし第４項のいずれかに記載の
方法。[Claims] 1. By circulating the etching solution between an etching bath containing an etching solution and an ion exchange resin bath containing a strongly acidic cation exchange resin, the liquid composition in the etching bath is changed to free nitric acid 10 to 10%. 30g/,
1. A method for electrolytically etching an aluminum plate for printing plates, which comprises electrolytically etching the aluminum plate by immersing it in an etching bath while maintaining the aluminum ion concentration at 5 g/or less. 2. Set the free nitric acid concentration of the solution in the etching tank to 15 to 25.
2. A method according to claim 1, characterized in that the temperature is maintained at g/g/. 3. The method according to claim 1 or 2, characterized in that the aluminum ion concentration of the solution in the etching tank is maintained at 4 g/or less. 4. The method according to any one of claims 1 to 3, characterized in that the change in the aluminum ion concentration of the liquid in the etching tank is controlled within a range of 1.5 g/l above and below a reference value, respectively. . 5. After supplying water to the ion exchange resin tank that has adsorbed aluminum ions and extruding the etching solution in the tank with water, supply hydrochloric acid or sulfuric acid in an amount equal to or less than twice the amount of aluminum ions adsorbed on the ion exchange resin. 5. The method according to claim 1, wherein the ion exchange resin is subjected to etching solution treatment again after washing with water to remove aluminum ions.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7779381A JPS57192300A (en) | 1981-05-22 | 1981-05-22 | Electrolytic etching method of aluminum sheet for printing plate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7779381A JPS57192300A (en) | 1981-05-22 | 1981-05-22 | Electrolytic etching method of aluminum sheet for printing plate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57192300A JPS57192300A (en) | 1982-11-26 |
| JPH0338360B2 true JPH0338360B2 (en) | 1991-06-10 |
Family
ID=13643865
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7779381A Granted JPS57192300A (en) | 1981-05-22 | 1981-05-22 | Electrolytic etching method of aluminum sheet for printing plate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57192300A (en) |
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| JPH01200992A (en) * | 1988-02-05 | 1989-08-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | Surface treatment method for aluminum form plate |
| JPH09132411A (en) | 1995-11-02 | 1997-05-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | Purifying method of aluminum hydroxide and supporting body for printing plate using the purifying method |
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Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US19678A (en) * | 1858-03-23 | Self-adjusting damper for hot-air furnaces | ||
| JPS5414585B2 (en) * | 1974-04-02 | 1979-06-08 | ||
| JPS5644779A (en) * | 1979-09-19 | 1981-04-24 | Hitachi Ltd | Reusing method for washing water of chemical copper plated article |
-
1981
- 1981-05-22 JP JP7779381A patent/JPS57192300A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57192300A (en) | 1982-11-26 |
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