JPH0339923A - 可変密度走査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】

本発明は、レーザを用いた走査装置に係り、特にレーザ
プリンタ装置に用いられ、印字密度を可変できる可変密
度走査装置に関する。

【従来の技ｖ＃】

従来、レーザ光をもちいる走査装置は１回転多面鏡及び
感光ドラムの回転速度が一定で、印刷の走査密度は常に
一定であった。最近、同じ図形を寸法のみを変えて、別
のサイズの用紙に印刷させたいという要求が強くなって
いる。そこで印字ドツト密度を変えるために、感光ドラ
ムの回転速度を一定に保った状態で１回転多面鏡の回転
数をかえ、且つレーザの変調周波数を変えるものが提案
されている０例えば、特開昭５５−１１９７８５号参照
。このようにすると、確かに主走査方向及び副走査方向
の印字ドツト間隔（密度）を変えることはできるが、一
つの画素を印刷するレーザのスポットサイズは依然とし
て不変である。主走査方向に関しては、レーザの変調周
波数を変えるので実質的にスポットサイズを変えること
になったが、副走査方向に関しては、全く不変であった
。

【発明が解決しようとする課題】

第２図（ａ）（ｂ）は走査密度を変えてもスポット径を
変えないと生じる不都合を示す。（ａ）は、ある走査密
度間隔で最適なスポットサイズになっている時の状態を
示し、（ｂ）（ｃ）にその状態で間隔を変えた時の状態
を示す。（ｂ）では間隔を拡大した様子を示し、（Ｑ）
では縮少した時の様子を示す。（ｂ）の場合はすき間が
できるのに対し、（ｅ）では不必要なところまでぬりつ
ぶされている様子が示されており、画質の変化及び低下
が生じてしまう、したがって、走査間隔（密度）を変え
た時には、絞り恣まれる光のスポットサイズも随時変え
て最適径に保っておく必要がある。 本発明は、上記従来例で生じる走査間隔変更にともなう
画質低下を防ぐ新しい可変密度走査装置を提供すること
を目的とする。

【課題を解決するための手段） 上記目的を達成するために本発明では、副走査方向の絞
り込みスポット径を変えることを特徴とする。 そのために、副走査方向に作用する動的回折格子を光路
中に設け、その±１次回折光と０次光とを用いることに
より、光量をほとんど損失させることなく有効に利用し
ながら、実質的にスポット径を一次元方向に可変できる
ようにしたものである。 【作用） その原理を第３図（８）に示す９１０は１弾性係数の大
きい１例えばＴａＯ２，ＰｂＭｏ０．等の光学結晶から
なる動的回折格子であり、結晶の一端面に設けられたト
ランスデユーサ１１に高周波信号を印加して超音波を発
生させ、その超音波が光学結晶内を進行すると、進行波
型の回折格子ができる。 このような回折格子に光束４を入射させると、土工法回
折光４＋、４−は、結晶内に形成される回折格子の間隔
ｐとすると、０次光４゜に対してλ Ｏ＝　± の方向にでる。ここで、Ｃｏ　＝　ｖλ（但し、ｙは加
える高周波信号、Ｇｏは結晶内の超音波の速度である。 ）シたがって、±１次光４＋、４−が、０次光４゜の両
端に重なるように発生することになり、レンズ８を通過
しスポット３６のように副走査方向の絞り込みレーザ光
の形状をかえることができる。 光学結晶に加える超音波の周波数（すなわち、トランス
デユーサ１１に印加する高周波信号ｆＶの周波数）を、
走査密度に応じてきりかえることで、スポット３６の副
走査方向の径を変えることができるのである。 特に、本発明では次のような操作で±１次光４＋、４−
の強度を等しくしている。 一般に、超音波を用いたような動的回折格子においては
、第３図（ｂ）で示すように、入射光束４を、回折格子
に対して ２Ｄｓｉｎα＝λ を満たす（Ｂ　ｒａｇｇの条件を満たす）角度αで入射
させると、＋１次光４＋のみが強くなり入射光の７０〜
８０％の光が＋１次光として導かれる。０次光４゜とじ
ては、入射光の２０〜３０％の光が残り、−ｉ次光４−
はほとんど発生しないということになる６通常は、＋１
次光４◆のみを用い。 他の光はカットするので、このような使い方で良いが、
このような使い方では光量が損失するうえ０次光４゜や
−１次光４−も用いて、スポット形状を変えようとする
と、得られる光スポットは第４例（ａ）のようになり、
しかも破線で示した断面の強度分布は、第４図（ｂ）の
ように非対称になる。しかし１本発明では、スポットの
強度分布をスポットの中心に対し上下対称にする必要が
ある。 そこで、第３図（ａ）に示したように、光束４を光学結
晶内に形成される動的回折格子に対して入射角α＝０で
入射させると、Ｂ　ｒａｇｇの条件を満たしてはいない
ので、±１次回折光４＋、４−は、それぞれ１０〜２０
％ぐらいの光が等しく発生し、０次光４．には約５０％
の光が残り、これらを１／ンズ８で絞り込むと、第５図
（ａ）で示すよ・うな、上下対称な光スポツト３６が得
られる。このようなスポットの破線で示す断面の光強度
分布は、第５図（ｂ）のように対称なものとなる。 ここでレーザプリンタに用いられる。感光ドラムの感光
特性として、第６図で示すような、２値的な露光特性を
示すものを用いると、第７図（ａのような強度の分布（
第５図（ｂ）に相当）をもった光スポットでも、感光ド
ラムの感光閾値を一点鎖線で示す位置に設定すれば、第
７図（ｂ）に示すような均一な露光パターン（潜像）が
得られる。したがって、前述のようにトランスジューサ
上１による超音波の周波数ｙを変えて動的回折格子の間
隔りを変えると、スポット３６の径を一次元的に変化さ
せることができ、得られる感光ドラム上のパターン（潜
像）も適当な閾値を用いれば。 スポット内で均一なパターン（潜像）を感光ドラム上に
形成できる。 このような動的回折格子を用いる利点を次にのべる。本
発明では、周波数を変えることで連続的にスポット径を
一次元的に変えることができるので、感光ドラムの感光
閾値を適宜設定することにより、任意の径の均一なパタ
ーン（潜像）を感光ドラム上に形成できる他に、０次光
と士↓次光の全ての光を使っているために、入射レーザ
光を有効に利用できる。本発明者等は、先に特願昭６１
−１１７３９０　（ＵＳＰ４，７６８，０４３）で。 電気光学効果を用いたスポット径変換による可変密度の
プリンタを提案しているが、この提案では。 光の偏光特性を用いてスポット径を変えており、その為
、出射光の光量は得られるスポット径の大きさによって
変化するうえ、必ずしも全ての光量が使えないという問
題があるのに対し１本発明では上述のとおり、入射レー
ザ光の全ての光を有効に利用することができ、光量も得
られるスポット径の大きさによって変化しないという大
きな長所がある。 【実施例】 第１図は、本発明の一実施例を示す。 工は半導体レーザ、２はコリメータレンズであり、半導
体レーザ１からのレーザ光４はコリメータレンズ２を通
って平光光束になる。回転多面鏡６とコリメータレンズ
２の間に動的回折格子１０を置くと、上述したようにこ
の動的回折格子１０に印加する高周波信号に応じて副走
査方向に±１次回折光４＋、４−が発生する。なお、高
周波信号を印加しなければ、光束４はそのまま通過する
。 ±工法光４＋、４−と０次光４゜を併せて、回転多面鏡
６で走査し、走査レンズに入れることにより。 走査面９である感光ドラム上で、副走査方向に任意の径
のレーザスポット３６を得ることができる。 この時、−例として点線で囲まれた部分をプリンタ装置
として動作させるとすると、制御装置７００からは、印
刷内容に従って、ドツト密度。 印刷内容等の指令がプリンタ装置に送出される。 １００は、動的回折格子ＩＯのドライバ回路で、制御装
置７００からのドツト密度に関する指令に応じて、トラ
ンスジューサ１１に印加する高周波信号の周波数をあら
かじめ設定された値に設定する。また、その指令信号は
、回転多面鏡６のドライバ回路３００にも送られる。ド
ライバ回路３００は、ドツト密度が上がれば、回転多面
ｆｆ１６の回転数をその上昇した比だけ増加し、逆に下
れば、その比だけ下った回転数で回転多面鏡６を回転さ
せるよう制御する。回転多面鏡６のドライバ回路３００
は、例えば、嘲ｉ瑠＝ヒステリシスシンクロナスモータ
の場合は、回転数制御を内蔵の水晶発振子の周波数制御
で行う。従って、ドツト密度変換の為には、その数だけ
周波数の異なる水晶発振子を準備すればよい。制御装置
７００からの印刷内容の指令は、バッファメモリ４００
を通してレーザ１のドライバ回路２００に伝えられる。 バッファメモリ４００の内容を、ドツト密度が高い時に
は高い変調周波数で、逆に低い時は低い変調周波数でも
って、読み出してレーザ１を変調することによって、感
光ドラム９上に印刷内容を記録させる。 を用いて説明する。制御装置７００から、例えば１ビツ
トの信号が入って時は第８図（ａ）のような縮小パター
ンを、２ビツトの信号が入った時は第８図（ｂ）のよう
な拡大パターンを印刷するとする。この時、動的回折格
子１０に加えられる信号ｆＶは、第８図（ａ）の縮小パ
ターンの時は低周波ｆＶ２で、第８図（ｂ）の拡大パタ
ーンの時は高周波ｆＶゆで与える。それは、（ｂ）の方
が。 副走査方向のスポット径を大きくするため、動的回折格
子の間隔りを小さい値にするためである。 この周波数ｆＶの与え方は一概に決められないので実験
的に決めるのが良い。ドライバ２００の信号ｆＤは、縮
小パターン（ａ）の時は高速の変調れる。また、回転多
面＠６のドライバ回路３００からはシンクロナスモータ
を動かすための水晶発振子の周波数ｆＭをモータに与え
る。縮小ノ（ターン（ａ）の場合は高周波の信号ｆＭ、
を、拡大ノ（ターン（ｂ）の場合は、ドツト密度比だけ
低し１周波数の信号ｆＭ、でもって１回転多面鏡６の回
転数を制御することになる。 第９図のよう松、信号によってドツト密度の変換を行い
１文字２図形の縮小拡大印刷を正確に行なうことが可能
となる。 次の実施例を示す。第１０図は、動的回折格子として、
表面弾性波素子を用いたもので、例えば。 Ｌ　ｊ、　Ｎ　ｂ　Ｏ、からなる結晶２０の表面に１表
面弾性波を発生させる為のＡＱ電極４１を設けたものを
用いる。電極４１の形状はくし型になっており、くし間
の間隔は中心発振波長に等しくなっている。 ここで弾性波が発生すると、結晶への歪が生じて屈折率
の変化を生じ、動的な回折格子の役割りを果すことにな
る。 あとの動作は第１図の実施例と同じである。 表面弾性波を用いる長所は、小型、省電力化が望める為
である。その理由は、結晶２０の表面から工〜２μｍの
深さにのみ表面弾性波を発生させるので、バルクの結晶
に超音波を発生させるのに対し、２〜３桁の省電力化が
遠戚される。 この際、制御装置（コンピュータ）７００からの指令に
従って、ドツト密度変換を行なうには。 回転多面鏡６の回転数、レーザ１の変調周波数も併せて
変更することは、第１図の実施例と同じで、制御装［７
００との接続も第１図と同じように行なえばよい。 表面弾性波を用いるもう一つの実施例を第１１図に示す
。レーザーからでたレーザ光は、プリズムカプラ４５を
通して、Ｔｉを熱拡散したＬｉＮｂＯ３結晶の導波路４
３に導かれる。導波路４３はＬｉＮｂ０．結晶の表面に
Ｔｉの拡散した約１μｍの厚さの導波路である。この導
波路に、超音波発生用の電極４１が設けてあり、これで
超音波を発生させて動的回折格子として用いる。この動
的回折格子に垂直にレーザ光を入れると、上述した原理
で、±］６次光４＋、４−が発生し、その光をＯ次光４
゜と共に、導波路の端面からとりだし、シリンダレンズ
４４を通して整形した後２回転多面鏡６に導く、このあ
とのドラム上でスポット径が変化する様子は前述の実施
例と同じである。 次に１本発明のもう一つの実施例として、複数のレーザ
光を並行走査する場合に１本発明が特にを並行走査する
に際して、印字密度の切換え（こ応じて複数の走査レー
ザ光の副走査方向の間隔を自動的に切換えることで、複
数レーザ光の並行走査の場合でも印字密度の変換が可能
であることを示した。しかしながら、より高品位の記録
を行なうためには、走査線間隔の変更にともなって、各
走査ビームの副走査方向のスポット径を変えることが必
要である。 以下の実施例では、２本のレーザ光による並行走査を例
に１本発明が複数のレーザ光による並行走査の場合にも
有効であることを示す。 第１２図は本発明の一実施例を示す。２つの直線偏光光
を発する光ｒＡｌａ、ｌｂを用い、ｎつ各々の偏光方向
をほぼ直交配置（ｐ、ｓ偏光）する。 これらの光源より出射したビーム４ａ、４ｂは、レンズ
２１，２１光路調整器２１１，２１２（これは例えばミ
ラー３　ａ　＋　３　ｂ夫々に付した回転翻動体を差動
増巾器２１１，２２２の出力３３１．３３２によって暉
動させ、もって光路を変更させるものを装備したミラー
３ａ、３ｂを経由して偏光ビームスプリッタ５に達する
。このビームスプリッタ５はＰ偏光光を直進させ、Ｓ偏
光光を直角に曲げる作用を有するので、ビーム４ａ。 ４ｂはビームスプリッタ５を通過後、はぼ同一方向に進
み、上記ビームの偏向手段となる回転多面鏡６と走査レ
ンズ８を通って走査面９上で走査線１４１．１４２とし
て、同時並行走査を行なうこととなる。 走査ビーム検出器１５は、ビーム走査ごとの走査開始位
置を示すためのものであって、この検出器１５からの出
力は、図示は省略するが、記録差 （印刷）データを検出する際の同期信号として用いられ
る。 ここで、走査面９上の走査線１４１と１４２の間隔ｄは
、所定の画素密度（ドツト密度）に対応する適正な値に
保つ必要がある。 このため、ビームスプリッタ５に入射したビーム４ａ、
４ｂの一部をビーム位置制御用ビーム１０１．１０２と
してとり出し、ビーム位置検出器１１１，１１２に入射
する。この検出器は第１３図に示すように基本的には走
査と直角な方向に２分割されたもので、その分割境界の
それぞれの側の照射光量を光電変換して電気信号として
取出すことができる。従って、この信号を差動増幅器２
２１，２２２を通して差分信号をつくり、光路変更素子
３１１，２−１２に各々加え、該差分信号が常に零とな
るようミラー３１．３２の傾きをＦＡ整すれば、制御用
ビーム１０１，１０２を検出器１１１，１１２それぞれ
の分割境界を中心とする位置に安定化できる。 また、第Ｉ３図示の検出器１１１において、リード線端
部Ｃを端部Ａ及び端部Ｂに触れない状態にするとともに
１位置制御用ビーム１０１によるスポット６０１によっ
て生ずる出力３３１を零にし、又検出器１１２において
は、位置制御用ビーム１０２によるスポット６０２によ
って生ずる出力３３２を零にする。そのような場合にお
いては、検出器１１１と１１２との相互の配置は、第１
図示の走査面９上の走査ビーム間隔ｄに整合するように
決めであるので、制御用ビーム１０１及び１０２の位置
を安定化することとなり、この場合の並行走査ビーム１
４１及び１４２の間隔ｄは一定値に保持できる。 第１４図は、上記走査光学系を動作させるための走査制
御系２４（第１２図にも示しである）の構成を示す図で
ある。なお１画素密度の変更は、制御系７００からのド
ツト密度変更命令１７によって行なわれる。 ここで、走査面９の移動速度（すなわち、感光ドラムの
回転数）を一定にしておき、画素密度の変更を図る場合
においてビーム走査方向とこれに直交する（副走査方向
）にわけて考えると下記のとおりとなる。 まず走査方向に関しては、画素信号に対するビーム強度
の変調パルス幅の調整により、露光面積を変えることに
より画素密度の変更が可能である。 このための信号３０１，３０２は走査制御系２４からビ
ーム強度変調系２０１，２０２に送出される。この場合
、ドツト密度変更命令１７によって。 発振器４３１，４３２からの発振周波数ｆＤｌ。 ｆＤ、、のうちどちらか一方を選別器４４で選別する。 ついで、データメモリー４２１，４２２から記録（印刷
）データを、！ｉ別された周波数でそれぞれのビーム強
度変調系２０１，２０２に送出され（３０１，３０２）
、レーザ光を所定の速さでオン・オフさせる。 変える必要がある。 このためにはドツト密度変更命令１７に基づき走査制御
系２４内で、回転ＲＭＭ動用周波数ｆ’Ｍ１゜ｆＭ２に
対して選別器４７で選別を行い、この選別された周波数
を開動パルス回路４８に通す。そこで、回転速度制御用
グロックパルスを形成し、回転鏡騨動電源２３を動作さ
せて、適正な回転速度とし、所定の走査回数を実現する
。 ところが複数ビーム、例えば２つのビーム１４１と１４
２を同時に並行走査する場合には、この複数の走査ビー
ム相互間の間隔ｄを画素密度変更に見合った分（予じめ
設定しておく）だけ変化する必要がある。このためには
ビーム位置検知用の一方の検出器１１１の分割境界（以
下に説明する第１３図の５３及び５４）を走査ビーム間
隔に対応させて移動させればよい。 この場合の動作も走査制御系２４を介してドツト密度変
更命令１７によって行われる。このための検出器系を第
１３図に示す。これは走査ビーム間隔ｄを２種類変化さ
せた場合の例である。 検出器１１１はビーム１０１用で、そのスポット６０］
−の位置を検出する。検出器１１１は例えば、５分割の
光検出部５１１〜５１５より構成される。このうち、５
１↓と５１２および５１４と５１５は各々、リード＄！
５６．５７で電気的に接続され、ついで差動増幅器２２
１’　に結合されている。また、検出部５１３のリード
線端部Ｃは、走査制御系２４からの信号３１によってＡ
またはＢに選択的に結合されるようになっている。今、
ＣがＡに接続されたとき検出器１１１は分割境界５３を
分割ラインとする２分割検出器として作用し、このとき
の差分信号に対するサーボ制御によって、ビームスポッ
トは、検出器１１１上において第１３図示の点線で示す
６↓１７の位置で安定する。一方、検出器１１２は検出
部５２１と５２２とからなる２分割検出器で分割境界５
８を中心としてビームスポット６０２は安定化される。 このとき、２つの検出器の分割境界５３と５８の間隔は
Ｐ２であり、この値に対応して走査面９上の走査ビーム
１４１，１４２の間隔ｄが定まる。 次に、走査制御系２４からの信号３Ｊ−によりＣをＢに
接続したときには、検出器】↓１は分割境界５４を分割
ラインとする２分割検出器として作用する。このときの
差分信号に対するサーボ制御によってビームスポットは
６０１−の位置で安定化する。このときの検出器系での
２つのビームスポット間隔はＰｌとなり、これに対応し
て走査面上のビーム間隔ｄも別の値をとることができる
。 このようにしで、複数ビームを用いた走査光学系でも、
走査線間隔を変えてドツト密度ｇ換ができるが、更に高
画質の印刷を行なうには走査間隔の！Ｉ！整と同時に、
副走査方向のレーザスボッｉ−径を適当な値だけ変化さ
せる必要がある。ここで、第１２図

【、−示すように、
偏光プリズム５と回転多面鏡６の間に、動的回折格子１
０を挿入する。該回折格子１０には、第３図（ａ）に示
したように超音波発生用のトランスデユーサ■１が設け
られている。例えば、縮小パターンを印刷する時の２つ
の走査レーザ光１４１，１４２のスポット径と間隔ｄが
印写上はぼ適当な関係に設定しておき、この時には動的
回折格子１ｏは動作させず、±１゜次光を発生させない
で、０次光のみを用いる１、そして、拡大パターンを印
刷する時には、走査線間隔ｄの拡がりに対して、副走査
方向のスポット径を各々拡大する。この時には、第３図
（ａ）で説明したように、動的回折格子１０に適″！４
な高周波を加えて超音波を発生させ、偏光プリズム５か
らのレーザ光４ａ、４ｂのそれぞれに±１次回折光を発
生させてやれば、感光ドラム上の走査レーザスポット１
４］、、１４２のそれぞれを拡げることができ、走査線
１４１と１４２の間隔（ｄ）と、それぞれのスポット径
の値は、高画質の印字を行なうのに適当な関係を保つこ
とが可能となる。 この動作の制御は、第１４図を用いて説明すると、ドラ
］・密度変更命令１７によってＶ　ｏｌｔａｇｅ制御回
路１２０を動作させ、Ｖ　ＣＯ（ＶｏｌｔａｇｅＣｏｎ
ｔｒｏｌｌｅｄ　０ｓｃｉｌｌａｔｏｒ）回路１３０か
ら適当な高周波を発生させるための電圧を発生させる。 ＶＣＯ回路１３０からは、与えられた電圧に応した高周
波が発生し、動的回折格子】０を動作させる。本実施例
では、縮小パターンでは動的回折格子１０を動作させず
、拡大パターンの時のみ１回転多面鏡６の駆動周波数ｆ
Ｍ、レーザ変調周波数ｆＤ及び光検出器１１１−の分割
線の切り換えと同期して、適当な高周波を加え、各走査
レーザ光のスポット径を変えている。 以」二のようにして、複数ビーム走査の場合、画素密度
あるいは印刷ドツト密度の変換を行う場合。 適正な走査ビーム間隔とスポット径を常に最適に保持で
きる。 第１５ａ図〜第１５ｉ図は第１２図の走査光学系を動作
させるときのタイムチャートである。 １５ａは２種類の画Ｍ由度（含ドツト密度）Ｓｌ、、Ｓ
２の状態を示し、これらのうちのどちらかを選択する。 １５ｂは、１５ａの状態に追従して変わる、第Ｉ３図に
示すビーム位置制御用検出器１１１の中の分割部５１３
の接続状態を示す（信号３１に相当）、（１５ｃ）は、
１５ａの状態に追従して変わる、回転多面鏡６の駆動周
波数ｆＭよ、あるいはｆＭ、の状態を示す（信号３２に
相当）。なお、レーザ変調周波数ｆＤ□、あるいは、ｆ
Ｄ２も同様に選択される。１５ｄ及び１５ｅは、それぞ
れ、レーザの変調信号を示す（３０１，３０２に相当）
。この中で、ｍ、ｍ’部は、記録（印刷）すべきパター
ンの信号波形を表し、変調周波数はｆＤいまたは、ｆＤ
、である。 走査周期は回転鏡回転数と一定の関係で決まり、Ｋはこ
れを表す定数である。ｇ、ｇ’部では、各走査ごとのビ
ーム位置検出を行うためにレーザをオン（点灯）してい
る。１５ｆは、光検出器１５で出力される走査ビーム位
置検出信号波形で、記録（印刷）パターンを表すドツト
信号の送出タイミングを決めるための同期信号である。 １５ｇ、１５ｈは、走査ビーム間隔を安定化するために
用いるサンプル値制御（Ｓ　ａｍｐｌｅｄ−ｄａｔａＣ
ｏｎｔｒｏｌ）系のサンプリング及びホールド時間を示
す（３３１，３３２、に対応）、’ｒｓ、、　Ｔｓ２は
サンプリング時間、ＴＨよ、ＴＨ，はホールド時間を示
す。レーザの走査開始付近の点灯中（ＴＳ。 １５ｄ、１５ｅのｇｒｇ’に対応）に走査ビーム間隔の
検出及び制御を行い、それに続く時間（ＴＨ）では状態
をホールドし、この動作を各走査ごとに繰り返す。 １５ｊは動的回折格子１０に加える高周波信号ｆＶの状
態を示している。Ｓ２の状態は縮小パターンの状態を示
しているので、本実施例では動的回折格子１０は動作さ
せない。Ｓｌの状態は拡大パターンに相当するので適当
な高周波信号ｆＶ□を動的回折格子１０に加えて、１１
次光を発生させている。なおＳ８．Ｓ、の状態に応じて
各々異る周波数の高周波信号ｆＶ１．ｆＶ２を印加して
、常に動的回折格子１０を動作させても一向に構わない
。 このようなタイムチャートで動作させることにより、複
数ビームの並行走査の場合でも、ドツト密度変換に伴う
スポット可変を実現できる６第１２図の実施例に使用す
る光ｇｔＡ整素子２１１．２１２の具体例としては、ガ
ルバノミラ−に代表される電磁力駆動を用いるもの、あ
るいはミラーｒＭｊ！ｌ！Ｉ用の圧電素子などすでに広
く知られているものが使用可能である。 尚、上記の説明では、２本ビームを並行走査する場合に
ついて記述したが５本実施例はさらに多数本のビームの
並行走査についても適用可能である。 以−ヒの如く、本実施例によれば、複数光源を用いた複
数本ビームの並行走査において、走査ビームの間隔を所
定の値に変更できるとともに、各走査ビームのスポット
径を変更する手段を設けたので、同一装置で５画素密度
変換あるいは印刷ピッｌ−密度変換を行って、画像を構
成する際により高品質の画像をつくることができる。し
かも、これらの動作が機械的′１Ａｌｕ等、厄介な操作
を必要としない、電気的な調整ですべてできるため、高
度な調整を必要とすることなく比較的容易に実行でき。 高性能且つ取扱いが容易な可変密度走査装置が実現でき
る点本実施例は顕著な効果を奏するものである。 【発明の効果］ 以上のように１回折格子の間隔を任意に変えられる動的
回折格子を、レーザ走査光学系に押入してその回折光を
利用することで、走査密度が変っても、光量をほとんど
損失させることなく有効に利用しながら、その都度最適
な絞り込みレーザスポットサイズが得られ、もってより
良好な画質が得られることになる。 もちろん、本発明は、第１２図に示したように。 光源を複数用いたマルチスポット走査でも、共通光路中
に動的回折格子を入れることで、目的を達成することが
可能であることは言うまでもない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２図は本発
明を用いずに走査密度変更を行なうことで生じる問題点
を示す図、第３図（ａ　）（ｂ　）は、動的回折格子の
動作を示す原理図、第４図（ａ）（ｂ）は、第３図（ｂ
）に示した動的回折格子の使い方をした場合の問題点を
説明するための図、第５図（ａ　）（ｂ　）は第３図（
ａ）に示した本発明の動的回折格子の使い方をした場合
のスボノト形状とその断面強度を示す図、第６図は感光
ドラムの露光特性の一例を示す図、第７図（ａＨｂ）は
適当な感光閾値を用いることにより均一なパターン（潜
像）が感光ドラム−Ｌに形成できることを示す説明図、
第８図（ａ）（ｂ）、第９図（ａ）（ｂ）は縮小パター
ンと拡大パターンの一例とその時の各部に与える信診の
一例を示す図、第１０図、第１１図は表面弾性波を用い
た動的回折格子による本発明の一実施例をそれぞれ示す
構成図、第１２図は複数ビーム並行走査のレーザプリン
タに本発明を適用した一実施例を示すｔＴ！戊図、第１
３図は第１２図の実施例で使用するビーム位置間隔を検
出するための光検出器系の詳細構成図、第１４図は第１
２図の実施例を動作させるための走査制御系の詳細構成
図、第１５図は第１２図の実施例の動作を示すタイムチ
ャートである。 し−一一〜−一 第 整 」 第 ？ 図 （鈍） 蔦 区 （久） 隼５図 （久） 〔ｂ） 草 図 め 臣 第 図 墳 デ 図 ｔｔｌノ （ｂ） ネ ／／ 図 −−−一一−−＝４−３ｇ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、超音波を用いた動的回折格子を光路中に設け、その
   回折格子による回折光の発生する方向を副走査方向にし
   たことを特徴とする可変密度走査装置。 ２、上記動的回折格子として表面弾性表面波を用いた回
   折格子を用いたことを特徴とする請求項１記載の可変密
   度走査装置。