JPH0341496B2 - - Google Patents

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JPH0341496B2
JPH0341496B2 JP55084923A JP8492380A JPH0341496B2 JP H0341496 B2 JPH0341496 B2 JP H0341496B2 JP 55084923 A JP55084923 A JP 55084923A JP 8492380 A JP8492380 A JP 8492380A JP H0341496 B2 JPH0341496 B2 JP H0341496B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はプラスチツクフイルム、たとえば塩化
ビニル系樹脂フイルム等のシート状被処理物を連
続的にプラズマ処理する装置に関するものであ
る。
プラスチツク、特に塩化ビニル系樹脂フイルム
のプラズマ処理については、それにより可塑剤移
行防止、表面ぬれ性、帯電防止、ブロツキング防
止、印刷特性の向上、耐摩耗性、耐候性、耐汚染
性等有用な特性が賦与されることから、バツチ処
理等小スケールの装置で従来より行なわれてきた
が、工業的規模で行う場合には、種々の問題があ
つた。
たとえば、バツチ連続処理装置についても、二
三提案されているが、軟質塩化ビニル系樹脂フイ
ルムのように、可塑剤、安定剤、その他の内部添
剤を含有している場合には、フイルム巻物を装置
内部にセツトし、初期圧力設定時にこれらの内部
添加剤な揮発、逸散によるフイルムの変質が起る
と同時に、この揮発分およびフイルム巻物中に共
存するガスの逸散により初期圧力設定までかなり
長時間を要するというような本質的欠点を有す
る。
通常低温プラズマ処理に関しては、真空処理室
の圧力を0.1トル以下まで下げることが処理効果
の上から好ましいものであるが、空気等の混入が
処理効果に悪影響をおよぼす場合には、上記問題
は致命的欠点となつてしまう。
しかして、一般に低温プラズマ処理は圧力0.01
〜10トルの範囲で数ＫHz〜数百ＫHzの高周波電力
を印加することにより行われ、プラズマ発生のた
めに供給されるガスは目的とする処理特性に対応
して選択されるのであるが、この際均一な処理を
行うためには圧力が一定に保持されること、選択
されたガス以外のガスたとえば空気等の混入は極
力回避させること等が重要である。
本発明者らは以上の点を考慮した上でプラスチ
ツクフイルムのようなシート状被処理物を連続的
に低温プラズマ処理するための装置を開発すべく
鋭意研究の結果、本発明を完成した。
すなわち、本発明は真空プラズマ処理槽に被処
理物導入用予備真空室と被処理物送り出し用予備
真空室とを接続したプラズマ連続処理装置におい
て、前記被処理物導入用予備真空室と被処理物送
り出し用予備真空室とのそれぞれを、シールロー
ルとこのシールロールを収納するハウジングとに
よつて形成し、前記真空プラズマ処理槽内に被処
理物の導入および送り出し方向と交差する方向に
陰電極と陽電極とをそれぞれ片持ち支持で設け、
その反対側の真空プラズマ処理槽の壁を開閉自在
な開閉扉としたことを特徴とするプラズマ連続処
理装置に関するものである。
本発明が提案するプラズマ連続処理装置におい
ては、被処理フイルムはその導入用予備真空室を
経て真空プラズマ処理槽へ連続的に供給され、か
つ短時間に処理されるために可塑剤等内部添加剤
の揮発等による逸散もなく、また前に述べたよう
なフイルム中に共存する空気等ガスによる悪影響
も生じない。
さらにまた、本発明が提案するプラズマ連続処
理装置はエアーツウエアー（Air to Air）方式
で連続的に処理されるために、フイルム、シート
等の一般的な連続製造装置であるカレンダー、押
出機等の製造ラインに直結可能であり、低コスト
での大量処理を可能にするものである。
以下本発明にかかわるプラズマ連続処理装置を
図面に基づいて詳しく説明する。
第１図は本発明になるプラズマ連続処理装置の
概略縦断面図であり、第２図は概略平面図をそれ
ぞれ示したものである。
それら図面において、１はプラツスチツクフイ
ルム等のシート状被処理物を連続的にプラズマ処
理する真空プラズマ処理槽を示し、この真空プラ
ズマ処理槽は接続する真空ポンプ４により排気管
５を通じて真空排気される。
この真空プラズマ処理槽１はその前後に設置さ
れた被処理物導入用予備真空室２、および被処理
物送り出し用予備真空室３によつてシールされ、
目的とする0.01〜10トルの真空圧力に制御され
る。
上記被処理物の導入および送り出し用の予備真
空室はそれぞれ上下一対のロールおよびハウジン
グからなるシール室２ａ，２ｂ，２ｃおよび３
ａ，３ｂ，３ｃによつて構成されている。これら
の予備真空室におけるそれぞれのシール室は真空
プラズマ処理槽１から見て同一位置にある２ａ−
３ａ，２ｂ−３ｂおよび２ｃ−３ｃをそれぞれ一
対として独立の真空ポンプ６，８，１０による排
気管７，９，１１を通じて真空排気され、大気圧
より段階的に圧力を減じて真空プラズマ処理槽１
内の圧力を0.01〜10トルの所定圧力に保持するの
を助ける。
処理されるプラスチツクフイルムＦは巻出装置
１２より被処理物導入用予備真空室２を経て真空
プラズマ処理槽１へ送られ、そこでプラズマ処理
された後、被処理物送り出し用予備真空室３を経
て巻取装置１３で巻取られている。
もちろん、当該連続装置をカレンダー、押出機
等の他の被処理物の製造加工ラインに直結する場
合は巻出装置１２を使用せずに直接被処理物導入
用予備真空室２に送り込まれる。
シールロール２−１〜２−４、および３−１〜
３−４、および真空プラズマ処理槽内のドラム陰
電極および巻取装置駆動のための動力は駆動モー
ター１４に直結するラインシヤフト１５を介して
伝達され、回転速度は変速機１６，１７，１８，
２２により調整される。
本発明の装置によるプラズマ処理はづぎのよう
に行われる。
すなわち、被処理物導入用予備真空室２を通じ
て真空プラズマ処理槽１内に導入されたプラスチ
ツクフイルムＦは、ガイドロール１９を介して陰
極としての処理ドラム２０へ導かれ、処理ロール
上に配列された複数本の陽電極２１との間で形成
されるプラズマによつて処理される。
本発明の特徴とするところは、第３図に示され
る如く処理ドラム２０、ガイドロール１９、陽電
極２１等の作動系部分をすべて一方の側板上に片
持で設置し、他方の側板を開閉扉としたことにあ
る。
このような構造による利点は次のとおりであ
る。第一の利点として作業性が著しくすぐれてい
ることである。すなわち、フイルム等の被処理物
を送給する場合、最初の段階では、手作業によつ
てフイルムをセツトする必要があるが、これらの
送膜作業が容易であること、さらに装置内面の洗
浄、掃除が容易に行える等の利点があげられる。
第二の利点としては、同一真空処理槽を用いて
フイルムの表面処理または裏面処理が可能となる
ことがあげられる。すなわち、第３図に示される
ように陰極ドラム２０、陽電極２１、ガイドロー
ル１９等の作動部分がすべて一方の側板２３上に
片持で設置されていために、側板を回転させる構
造とすることが可能となる。
第４図は、２つの真空処理槽を並べた例である
が、ここに示される真空プラズマ処理槽１は通常
の配置であり、真空プラズマ処理槽１′は側板を
180度回転させることによつて行われる作動部分
の配置を示す。このようにすることによつてフイ
ルムの両面をプラズマ処理することができる。も
ちろん、真空処理槽１と真空処理槽１′とを同様
な配置に設定して処理を行うことも可能であり、
この場合フイルムの同一面を２度にわたつて処理
することができるために、一槽の場合に比較して
処理速度を２倍にすることができる。
このように、本発明が提供する真空プラズマ処
理槽の構造は、作動部分を保持した側面２３を回
転することにより、処理すべきフイルムのどちら
の面でも処理可能であり、装置に多様性を賦与す
ることができる。
また第３図に示される陽電極２１および処理ド
ラム２０は冷却水を流すことによつて温調可能で
あり、目的とする処理に合せて所定の温度に設定
される。
以上にのべた如く、当発明が提案する連続処理
装置は、プラズマ処理槽の真空度を当発明が目的
とするプラズマ処理を行うに必要な0.01〜10トル
に保持することを可能にすると共に、同一装置を
使用してフイルムのどちらの面でも処理すること
を可能にするものであり、Air to Air方式とし
ては画期的な連続処理装置である。
なお、図面に示した装置は本発明の一態様を例
示したものであり、本発明はこれに限定されるも
のではない。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明のプラズマ連続処理装置の概略
縦断面図、第２図は概略平面図をぞれぞれ示す。
また第３図は真空プラズマ処理槽の側断面図、第
４図は真空プラズマ処理槽を２つ並べた場合をそ
れぞれ示す。 １……真空プラズマ処理槽、２……被処理物導
入用予備真空室、３……被処理物送り出し用予備
真空室、４，６，８，１０……真空ポンプ、５，
７，９，１１……排気管、１２……巻出装置、１
３……巻取装置、１４……駆動モーター、１５…
…ラインシヤフト、１６，１７，１８……変速
機、１９……ガイドロール、２０……処理ドラ
ム、２１……陽電極、２３……側板、２−１〜２
−４および３−１〜３−４……シールロール。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 真空プラズマ処理槽に被処理物導入用予備真
    空室と被処理物送り出し用予備真空室とを接続し
    たプラズマ連続処理装置において、前記被処理物
    導入用予備真空室と被処理物送り出し用予備真空
    室とのそれぞれを、シールロールとこのシールロ
    ールを収納するハウジングとによつて形成し、前
    記真空プラズマ処理槽内に被処理物の導入および
    送り出し方向と交差する方向に陰電極と陽電極と
    をそれぞれ片持ち支持で設け、その反対側の真空
    プラズマ処理槽の壁を開閉自在な開閉扉としたこ
    とを特徴とするプラズマ連続処理装置。 ２ 前記真空プラズマ処理槽内の陰電極と陽電極
    とを支持した側板を、180゜軸回転できる構造にし
    たことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
    プラズマ連続処理装置。 ３ 前記真空プラズマ処理槽を２基直列につな
    ぎ、陰電極と陽電極とを支持した側板を他の１基
    のそれに対し、180゜軸回転した位置に設定し、こ
    の一対の真空プラズマ処理槽を通すことにより、
    被処理物を表裏処理できるようにしたことを特徴
    とする特許請求の範囲第１項記載のプラズマ連続
    処理装置。 ４ 前記真空プラズマ処理槽内の陰電極と陽電極
    とに内部冷却機構を設置し、それぞれ温度コント
    ロールすることを特徴とする特許請求の範囲第１
    項記載のプラズマ連続処理装置。 ５ 前記真空プラズマ処理槽内の一方の側に真空
    排気管を設け、他方の側にガス導入分配管を１本
    以上設けたことを特徴とする特許請求の範囲第１
    項記載のプラズマ連続処理装置。 ６ 巻出装置、巻取装置、被処理物導入用および
    被処理物送り出し用予備真空室、真空プラズマ処
    理槽等の各駆動系をモーターに直結したラインシ
    ヤフトにより変速機を介して駆動することを特徴
    とする特許請求の範囲第１項記載のプラズマ連続
    処理装置。
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