JPH03267138A - 真空処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は紙、布、パッド、プラスチックフィルム、メタ
ルフォイル等のシート状長尺物を連続的に真空処理する
ための装置に関するものである。

（従来技術とその問題点） 従来、これらのシート状長尺物においては、プラズマ処
理、蒸着加工、各種の加工または反応前における脱水処
理等のために、屡々真空処理を必要としてきた。これら
の真空処理はバッチ処理等の比較的小スケールの装置で
は従来から行われてきたが、シート状長尺物を連続的に
処理するということになると種々の問題があった。例え
ば、軟質塩化ビニル樹脂フィルムのように、可塑剤、安
定剤、その他の添加剤を含有している場合に、予め長尺
のフィルムを機内にセットした後、内部を真空にしてい
くと、これらの添加剤の揮発、逸散によってフィルムの
変質が起こるほか、これらの揮発分やフィルム中に共存
するガスの逸散によって真空度を恒常状態に持っていく
のに長時間を要するという状態であった。特に低温プラ
ズマ処理は圧力を０．０１〜１０）−ルの範囲で数ｋ）
Ｉｚ〜数百Ｍｌ（ｚの高周波電力を印加することにより
行われ、プラズマ発生のために供給されるガスは均一な
処理を行うために圧力が一定に保持されること、選択さ
れたガス以外のガス、例えば、空気等の混入は極力回避
されること等が重要であるため、この問題は品質の保持
と生産性の両面において重要な問題となっていた。

（課題を解決するための手段） 本発明者らは以上の点を考慮した上で、上記のようなシ
ート状長尺物を連続的に真空処理するための装置を開発
すべく鋭意研究の結果、本発明を完成した。

すなわち、本発明は真空処理槽に被処理物導入用予備真
空室と被処理物送り出し用予備真空室とを接続した真空
処理装置において、前記被処理物導入用予備真空室と被
処理物送り出し用予備真空室とを、シールロールとこの
シールロールを収納するハウジングとによって形成し、
真空度が等しい、詳しくは前記真空処理槽から見て同一
番目に位置する、被処理物導入用予備真空室と被処理物
送り出し用予備真空室とを同一真空ポンプに接続するこ
とを要旨とするものである。

本発明が提案する真空処理装置においては、被処理物で
ある上記シート状長尺物は被処理物導入用予備真空室を
経て真空処理槽へ連続的に供給され、かつ短時間に処理
されるために可塑剤等の内部添加剤の揮発等による逸散
もなく、また前述したようなフィルム中に共存する空気
等のガスによる悪影響も生じない。

さらにまた、本発明が提案する真空処理装置はエアーツ
ウエアー（Ａｉｒ　ｔｏ　Ａｉｒ）方式で連続的に処理
されるため、前記シート状物の一般的な連続処理装置で
あるカレンダー等の各種加工機、押出機等の各種成形機
あるいは反応機等の製造ラインに直結可能であり、低コ
ストでの大量処理を可能にするものである。

（実施例） 以下、本発明に係わる真空連続処理装置を、プラスチッ
クフィルムへのプラズマ連続処理装置に適用した場合に
ついて添付の図面に基づいて詳しく説明する。

第１図はプラズマ連続処理装置の概略縦断面図、第２図
はその概略平面図を示したものである。

これらの図において、■は紙、布、パット、プラスチッ
クフィルム、メタルフォイル等のシー１へ状長尺物から
なる被処理物Ｆを連続的に処理するための真空処理槽で
あって、この前後に被処理物導入用予備真空室２と被処
理物送り出し用予備真空室３とが設けられている。両予
備真空室２．３はそれぞれ上下一対のシールロール２−
１〜２−４および３−１〜３−４と、このそれぞれを包
囲するハウジングとからなるシール室２ａ、２ｂ、２ｃ
および３ａ、３ｂ、３ｃによって構成されている。

真空処理槽１はこれに接続する真空ポンプ４により排気
管５を通じて真空排気され、上記各シール室２ａ〜２ｃ
、３ａ〜３ｃは真空処理槽１から見て同一番目に位置す
る２ａと３８．７２ｂと３ｂおよび２ｃと３０をそれぞ
れ一対として独立の真空ポンプ６．８および１０により
排気管７．９および１１を通じて真空排気され、装置両
側のシール室２ａ、３ａより真空処理槽１に向は各シー
ル室２ｂ、３ｂおよび２ｃ、３ｃ内の圧力を段階的に下
げて真空処理槽１内の圧力を０．０１〜１０トルの所定
圧力に保持する。

被処理物Ｆは巻出装置１２より被処理物導入用予備真空
室２を経て真空処理槽１へ送られ、そこでプラズマ処理
された後、被処理物送り出し用予備真空室３を経て巻取
装置１３に巻取られる。

勿論、本連続処理装置をカレンダー等の各種加工機、押
出機等の各種成形機あるいは各種反応装置等の他の製造
加工ラインに直結させる場合は、巻出装置１２または巻
取装置１３を使用せずに、被処理物導入用予備真空室２
に直接送り込まれるか、または被処理物送り出し用予備
真空室３より直接送り出される。

各シールロール２−１〜２−４．３−１〜３−４、後述
する真空処理槽１内の処理ドラム２ｏおよび巻取装置１
３を駆動するための動力は、駆動モーター１４に直結す
るラインシャフト１５を介して伝達され、それぞれの回
転速度は各変速機１６．１７．１８．２２により調整さ
れる。

本発明の真空処理装置によるプラズマ処理は次の要領で
行われる。すなわち、被処理物導入用予備真空室２を通
じて真空処理槽１内に導入されたシート状被処理物Ｆは
、まずガイドロール１９を介して陰極としての処理ドラ
ム２０へ導かれ、この外周方に半円を画いて配列された
複数本の陽電極２１との間に形成されるプラズマによっ
て処理される。

この真空処理槽１は第３図に示されるように、ガイトロ
ール１９、処理ドラム２０、陽電極２１等の作動系部分
をすべて一方の側板２３上に片持ちで支持し、他方の側
板を開閉扉としている。

このような構造の真空処理槽の利点は被処理物Ｆの装置
内への最初の取り付は作業や装置内面の洗浄、掃除作業
等が容易に行えることである。

また、この真空処理槽では側板２３を回転させる構造と
することができ、これによれば同一真空処理槽により被
処理物の表面および裏面の両面の処理を可能にする。

第４図は本発明の真空装置の別の実施例を示すもので、
ここでは２つの真空処理槽を並列させた構造としている
。すなわち、第１の真空処理槽１は通常の配置であるが
、第２の真空処理槽１′は側板２３を１８０°回転させ
た配置となっている。

このようにすることによって、シート状被処理物の両面
をプラズマ処理することができる。

勿論、真空処理槽１を２槽連続して配置することも可能
であり、この場合にはシート状被処理物の片面を２回処
理することができるため、１槽の場合に比べて処理速度
を２倍にすることができる。

このように本発明で用いられる真空処理槽の構造は１作
動部分を保持する側板２３を回転することにより、被処
理物のどちらの面でも処理することができ、装置に多様
性を付与することができる。

また、第３図に示される処理ドラム２ｏおよび陽電極２
１は冷却水を流すことによって温調可能であり、目的と
する処理に合せて所定の温度に設定される。

なお、図示した装置は本発明の一態様を例示したもので
、本発明はこれに限定されるものではない。

（発明の効果） 以上のように、本発明の真空処理装置によれば真空処理
槽内の真空度を各種加工処理を行うのに必要な０．０１
〜１０トルに調整することを容易にすると共に、同一装
置を用いて被処理物のどちらの面をも処理することを可
能とし、エアーツウエアー（Ａｉｒ　ｔｏ　Ａｉｒ）方
式としては画期的なものである。

【図面の簡単な説明】

図面はいずれも本発明の真空処理装置の実施例に係るも
ので、第１図は第１の実施例の概、略縦断面図、第２図
はその概略平面図、第３図は真空処理槽の側面部分断面
図であり、第４図は第２の実施例の概略縦断面図である
。 （主要な符号の説明） １・・・真空処理槽、２・・被処理物導入用予備真空室
、３・・・被処理物送り出し用予備真空室、２−１〜２
−４および３−１〜３−４・・シールロール、４．６．
８．１０・・・真空ポンプ。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. １．真空処理槽に被処理物導入用予備真空室と被処理物
   送り出し用予備真空室とを接続した真空処理装置におい
   て、前記被処理物導入用予備真空室と被処理物送り出し
   用予備真空室とを、シールロールとこのシールロールを
   収納するハウジングとによって形成し、真空度が等しい
   被処理物導入用予備真空室と被処理物送り出し用予備真
   空室とを同一真空ポンプに接続することを特徴とする真
   空処理装置。
2. ２．前記真空度が等しい被処理物導入用予備真空室と被
   処理物送り出し用予備真空室とが、真空処理槽から見て
   同一番目に位置する被処理物導入用予備真空室と被処理
   物送り出し用予備真空室である特許請求の範囲第１項記
   載の真空処理装置。