JPH0121260B2 - - Google Patents
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- JPH0121260B2 JPH0121260B2 JP57000816A JP81682A JPH0121260B2 JP H0121260 B2 JPH0121260 B2 JP H0121260B2 JP 57000816 A JP57000816 A JP 57000816A JP 81682 A JP81682 A JP 81682A JP H0121260 B2 JPH0121260 B2 JP H0121260B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- temperature plasma
- low
- sheet
- sheet winding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
-
- D—TEXTILES; PAPER
- D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- D06M—TREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
- D06M10/00—Physical treatment of fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, e.g. by ultrasonic waves, corona discharge, irradiation, electric currents or magnetic fields; Physical treatment combined with treatment with chemical compounds or elements
- D06M10/02—Sonic or ultrasonic waves; Corona discharge
- D06M10/025—Corona discharge or low temperature plasma
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/18—Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Textile Engineering (AREA)
- Treatment Of Fiber Materials (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、編物、織物、不織布、樹脂製フイル
ム等を含むシート状物質を低温プラズマ処理する
ための処理装置に関するものである。
ム等を含むシート状物質を低温プラズマ処理する
ための処理装置に関するものである。
従来工業的に織物、編物、不織布など布帛の精
練処理、仕上加工、あるいはフイルムに新しい特
性を付与するためのコーテイング加工は大部分が
水系での処理が行われており、ごく一部に有機溶
剤による処理も行なわれている。
練処理、仕上加工、あるいはフイルムに新しい特
性を付与するためのコーテイング加工は大部分が
水系での処理が行われており、ごく一部に有機溶
剤による処理も行なわれている。
しかるに従来から行われているこれらの方法は
水、有機溶剤あるいは精練剤を使用し、かつ処理
浴の昇温、処理物の洗滌次いで乾燥など多量の
水、エネルギー薬剤を使用していた。また処理に
伴う廃水も多量に発生し、公害問題、廃水の処理
によるコストアツプなど、経済性に欠けるもので
あつた。
水、有機溶剤あるいは精練剤を使用し、かつ処理
浴の昇温、処理物の洗滌次いで乾燥など多量の
水、エネルギー薬剤を使用していた。また処理に
伴う廃水も多量に発生し、公害問題、廃水の処理
によるコストアツプなど、経済性に欠けるもので
あつた。
このようなことから、最近では布帛等の繊維製
品を低温プラズマ処理して例えば布帛の糊抜、精
練効果を得ること、あるいは染色布帛樹脂フイル
ムあるいは樹脂シートの表面に低温プラズマで処
理して該染色布帛樹脂フイルム又は樹脂シートの
表面改質処理を行なうこと等が提案されている
が、即に提案されているバツチ式の低温プラズマ
処理装置においては、長尺のシート状物をバツチ
内に設置した支軸又はロールに巻きとり、これを
他方の支軸又はロールに巻きとつて移行せしめる
間にシート物に低温プラズマ処理を施しているも
のであるが、運転中は、バツチ内は常に低温プラ
ズマ雰囲気に保持され、しかも該雰囲気中にロー
ル状に巻かれているシート物が位置されているた
めに、ロール状に巻かれているシート物の両端面
部は常に低温プラズマ雰囲気にされされているの
に対し、ロール状となつて重ね合されている部分
は、他方のロールにより引き出されるまでは低温
プラズマの影響を受けないので長尺シート物の両
側端縁部と、そのシート物の幅方向中央部とで
は、低温プラズマによる処理量が異り、処理むら
を生じる問題点があつた。
品を低温プラズマ処理して例えば布帛の糊抜、精
練効果を得ること、あるいは染色布帛樹脂フイル
ムあるいは樹脂シートの表面に低温プラズマで処
理して該染色布帛樹脂フイルム又は樹脂シートの
表面改質処理を行なうこと等が提案されている
が、即に提案されているバツチ式の低温プラズマ
処理装置においては、長尺のシート状物をバツチ
内に設置した支軸又はロールに巻きとり、これを
他方の支軸又はロールに巻きとつて移行せしめる
間にシート物に低温プラズマ処理を施しているも
のであるが、運転中は、バツチ内は常に低温プラ
ズマ雰囲気に保持され、しかも該雰囲気中にロー
ル状に巻かれているシート物が位置されているた
めに、ロール状に巻かれているシート物の両端面
部は常に低温プラズマ雰囲気にされされているの
に対し、ロール状となつて重ね合されている部分
は、他方のロールにより引き出されるまでは低温
プラズマの影響を受けないので長尺シート物の両
側端縁部と、そのシート物の幅方向中央部とで
は、低温プラズマによる処理量が異り、処理むら
を生じる問題点があつた。
本発明はかかる問題点を解消するためになされ
たもので、バツチ式の低温プラズマ処理装置にお
いて、シート物の全面に亘つて均一なる低温プラ
ズマ処理ができる処理装置を提供することを目的
とするものである。
たもので、バツチ式の低温プラズマ処理装置にお
いて、シート物の全面に亘つて均一なる低温プラ
ズマ処理ができる処理装置を提供することを目的
とするものである。
以下に本発明を図面に示す実施例に基いて詳細
に説明する。
に説明する。
１は反応器であつて、この反応器１には処理す
べきシート物（布帛、樹脂シート等）を出入れす
るための開口部２，３が設けられており、更にこ
れらの開口部２，３は蓋４によつて密閉されるよ
うになつている。この反応器１の内部は、第１の
シート巻取室５、第１の減圧室６、低温プラズマ
処理室７、第２の減圧室８、第２のシート巻取室
９の順で区分形成されており、各室を区分してい
る隔壁１０には、シート物１１を通過することは
できるが、隣設された室間の通気性を妨げること
ができるシールロール１２が設けられている。こ
のシールロール１２の気密性は、左程高いもので
なくてよく、若干の通気性は許されるものであつ
てもよい。またシールロール１２の代りにリツプ
シールを使つてもよい。そして第１のシート巻取
室５及び第２のシート巻取室９内にはシート巻取
軸１３が架設され、第１の減圧室６及び第２の減
圧室８内にはシート物をタイミング移行せしめる
ためのガイドロール群１４が配設され、更に低温
プラズマ処理室７内においても同様のガイドロー
ル群１５が配設されている。１６は第１の減圧室
６及び第２の減圧室８に接続されているバキユー
ムパイプであつてこのバキユームパイプ１６は図
示しない真空ポンプに接続されている。１７は低
温プラズマ処理室７に接続されているガス供給口
であつて、このガス供給口１７は反応器１外で発
生せしめた低温プラズマにより活性化されたガス
をこのガス供給口１７を介して低温プラズマ処理
室７内へ供給するように本実施例では構成してい
るが、他の実施例として図示しないが低温プラズ
マ処理室７内に、シート物の移行を妨げない位置
に２極の電極体を配置して、その電極体に高周波
（長波長から短波長まで使用できるが望ましくは
1kHz〜300MHzの範囲）をかけ、更にガス供給口
１７より該処理室７内に気体を供給することによ
り該低温プラズマ処理室７内に低温プラズマが発
生されるようにしてもよい。
べきシート物（布帛、樹脂シート等）を出入れす
るための開口部２，３が設けられており、更にこ
れらの開口部２，３は蓋４によつて密閉されるよ
うになつている。この反応器１の内部は、第１の
シート巻取室５、第１の減圧室６、低温プラズマ
処理室７、第２の減圧室８、第２のシート巻取室
９の順で区分形成されており、各室を区分してい
る隔壁１０には、シート物１１を通過することは
できるが、隣設された室間の通気性を妨げること
ができるシールロール１２が設けられている。こ
のシールロール１２の気密性は、左程高いもので
なくてよく、若干の通気性は許されるものであつ
てもよい。またシールロール１２の代りにリツプ
シールを使つてもよい。そして第１のシート巻取
室５及び第２のシート巻取室９内にはシート巻取
軸１３が架設され、第１の減圧室６及び第２の減
圧室８内にはシート物をタイミング移行せしめる
ためのガイドロール群１４が配設され、更に低温
プラズマ処理室７内においても同様のガイドロー
ル群１５が配設されている。１６は第１の減圧室
６及び第２の減圧室８に接続されているバキユー
ムパイプであつてこのバキユームパイプ１６は図
示しない真空ポンプに接続されている。１７は低
温プラズマ処理室７に接続されているガス供給口
であつて、このガス供給口１７は反応器１外で発
生せしめた低温プラズマにより活性化されたガス
をこのガス供給口１７を介して低温プラズマ処理
室７内へ供給するように本実施例では構成してい
るが、他の実施例として図示しないが低温プラズ
マ処理室７内に、シート物の移行を妨げない位置
に２極の電極体を配置して、その電極体に高周波
（長波長から短波長まで使用できるが望ましくは
1kHz〜300MHzの範囲）をかけ、更にガス供給口
１７より該処理室７内に気体を供給することによ
り該低温プラズマ処理室７内に低温プラズマが発
生されるようにしてもよい。
以上が本実施例の構成であるが次にその作用に
ついて述べる。
ついて述べる。
先ず第１のシート巻取室５内に長尺シート物１
１を巻き取つたシート巻取軸１３をセツトし、そ
の長尺シート物１１の先端を各室を通して第２の
シート巻取室９内に架設したシート巻取軸１３に
巻きつけて、そのシート巻取軸１３にシート物を
巻替ることができるように準備し、更に蓋４を閉
めて反応器１を密閉する。次に真空ポンプを駆動
してバキユームパイプ１６を負圧となし低温プラ
ズマ処理室７内の真空度が0.5Torr以下になつた
時点でガス供給口１７より低温プラズマ処理室７
内に低温プラズマを供給するか、あるいはガス供
給口１７より酸素又は酸素を含む混合ガスあるい
はその他のガスを室７内に供給して、この低温プ
ラズマ処理室７内の真空度が0.5〜10Torrとなる
ように調整した上で高周波電源より高周波例えば
13.56MHzを電極板に給電して、低温プラズマ処
理室７内を低温プラズマの雰囲気とさせる。次い
で第２のシート巻取室９内の巻取り軸１３を駆動
してシート物１１を減圧室及び低温プラズマ処理
室を移行させる。かくしてシート物１１を低温プ
ラズマ処理室７内の低温プラズマ雰囲気中に移行
せしめることにより、該シート物１１が布帛であ
る場合はこの布帛の繊維自体に含有されている夾
雑物及び繊維に付与されている糊剤の一部は、分
解し又一部は親水化されて、水に容易に溶解する
様になる。またシート物が染色布帛、フイルム樹
脂シートである場合は該シートの表面改質加工が
できる。
１を巻き取つたシート巻取軸１３をセツトし、そ
の長尺シート物１１の先端を各室を通して第２の
シート巻取室９内に架設したシート巻取軸１３に
巻きつけて、そのシート巻取軸１３にシート物を
巻替ることができるように準備し、更に蓋４を閉
めて反応器１を密閉する。次に真空ポンプを駆動
してバキユームパイプ１６を負圧となし低温プラ
ズマ処理室７内の真空度が0.5Torr以下になつた
時点でガス供給口１７より低温プラズマ処理室７
内に低温プラズマを供給するか、あるいはガス供
給口１７より酸素又は酸素を含む混合ガスあるい
はその他のガスを室７内に供給して、この低温プ
ラズマ処理室７内の真空度が0.5〜10Torrとなる
ように調整した上で高周波電源より高周波例えば
13.56MHzを電極板に給電して、低温プラズマ処
理室７内を低温プラズマの雰囲気とさせる。次い
で第２のシート巻取室９内の巻取り軸１３を駆動
してシート物１１を減圧室及び低温プラズマ処理
室を移行させる。かくしてシート物１１を低温プ
ラズマ処理室７内の低温プラズマ雰囲気中に移行
せしめることにより、該シート物１１が布帛であ
る場合はこの布帛の繊維自体に含有されている夾
雑物及び繊維に付与されている糊剤の一部は、分
解し又一部は親水化されて、水に容易に溶解する
様になる。またシート物が染色布帛、フイルム樹
脂シートである場合は該シートの表面改質加工が
できる。
ところが本発明においては、密閉することがで
きる反応器内を、第１のシート巻取室、第１の減
圧室、低温プラズマ処理室、第２の減圧室、第２
のシート巻取室の順で区分形成し、更に各室相互
間は、シール機構を介してシート物の通過可能に
連通せしめると共に、第１の減圧室及び第２の減
圧室には真空ポンプに通じるバキユームパイプを
接続せしめ、更に、低温プラズマ処理室には低温
プラズマにより活性化されたガスの供給口又はガ
ス供給口と電極体を設け、第１のシート巻取室及
び第２のシート巻取室にはシート巻取軸を配置せ
しめたことを特徴とするシート状物質の低温プラ
ズマ処理装置であるから、シート巻取室５及び９
が低温プラズマ処理室７と区分されて、それらの
シート巻取室内には低温プラズマにより活性化さ
れたガスが流入されないように形成されているか
ら、そのシート巻取室内にあるシート物に低温プ
ラズマが作用することがない。従つて巻取軸１３
に巻かれているシート物１１へ両端縁部に過度な
低温プラズマ処理がなされることがなく、従つて
シート物１１の全面に亘つて均一な低温プラズマ
処理ができる効果がある。更に本発明では低温プ
ラズマ処理室７とシート巻取室５及び９との間に
減圧室６及び８が形成されていることから、この
減圧室において、低温プラズマ処理室７内に供給
される直前の該シート物に含有される揮撥成分
（水分）等が除去されるので、低温プラズマ処理
室７内の真空度を良好に保つことができる。更に
シート巻取室と低温プラズマ処理室との間に減圧
室が設けられていることからそのシート巻取室内
へ、低温プラズマ処理室内の低温プラズマが全く
流入されることがなく、前述の均一処理が効果的
になされる特長もある。
きる反応器内を、第１のシート巻取室、第１の減
圧室、低温プラズマ処理室、第２の減圧室、第２
のシート巻取室の順で区分形成し、更に各室相互
間は、シール機構を介してシート物の通過可能に
連通せしめると共に、第１の減圧室及び第２の減
圧室には真空ポンプに通じるバキユームパイプを
接続せしめ、更に、低温プラズマ処理室には低温
プラズマにより活性化されたガスの供給口又はガ
ス供給口と電極体を設け、第１のシート巻取室及
び第２のシート巻取室にはシート巻取軸を配置せ
しめたことを特徴とするシート状物質の低温プラ
ズマ処理装置であるから、シート巻取室５及び９
が低温プラズマ処理室７と区分されて、それらの
シート巻取室内には低温プラズマにより活性化さ
れたガスが流入されないように形成されているか
ら、そのシート巻取室内にあるシート物に低温プ
ラズマが作用することがない。従つて巻取軸１３
に巻かれているシート物１１へ両端縁部に過度な
低温プラズマ処理がなされることがなく、従つて
シート物１１の全面に亘つて均一な低温プラズマ
処理ができる効果がある。更に本発明では低温プ
ラズマ処理室７とシート巻取室５及び９との間に
減圧室６及び８が形成されていることから、この
減圧室において、低温プラズマ処理室７内に供給
される直前の該シート物に含有される揮撥成分
（水分）等が除去されるので、低温プラズマ処理
室７内の真空度を良好に保つことができる。更に
シート巻取室と低温プラズマ処理室との間に減圧
室が設けられていることからそのシート巻取室内
へ、低温プラズマ処理室内の低温プラズマが全く
流入されることがなく、前述の均一処理が効果的
になされる特長もある。
図面は本発明よりなる装置の実施例を示した断
面説明図である。 １……反応器、２，３……開口部、４……蓋、
５……第１のシート巻取室、６……第１の減圧
室、７……低温プラズマ処理室、８……第２の減
圧室、９……第２のシート巻取室、１０……隔
壁、１１……シート物、１２……シールロール、
１３……シート巻取軸、１４……ガイドロール
群、１５……ガイドロール群、１６……バキユー
ムパイプ、１７……ガス供給口。
面説明図である。 １……反応器、２，３……開口部、４……蓋、
５……第１のシート巻取室、６……第１の減圧
室、７……低温プラズマ処理室、８……第２の減
圧室、９……第２のシート巻取室、１０……隔
壁、１１……シート物、１２……シールロール、
１３……シート巻取軸、１４……ガイドロール
群、１５……ガイドロール群、１６……バキユー
ムパイプ、１７……ガス供給口。
Claims (1)
- １ 密閉することができる反応器内を、第１のシ
ート巻取室、第１の減圧室、低温プラズマ処理
室、第２の減圧室、第２のシート巻取室の順で区
分形成し、更に、各室相互間は、シール機構を介
してシート物の通過可能に連通せしめ、前記第１
の減圧室及び第２の減圧室には、これらの減圧室
内を通過するシート物の通過タイミングを確保す
るためのガイドロール群を配設すると共に真空ポ
ンプに通じるバキユームパイプを接続せしめ、更
に、低温プラズマ処理室には低温プラズマにより
活性化されたガスの供給口又はガス供給口と電極
体を設け、第１のシート巻取室及び第２のシート
巻取室にはシート巻取軸を配置せしめたことを特
徴とするシート状物質の低温プラズマ処理装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP81682A JPS58120860A (ja) | 1982-01-06 | 1982-01-06 | シ−ト状物質の低温プラズマ処理装置 |
| DE19833300097 DE3300097A1 (de) | 1982-01-06 | 1983-01-04 | Anlage zum behandeln von platten- bzw. bahnaehnlichen stoffen mit einem niedertemperatur-plasma |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP81682A JPS58120860A (ja) | 1982-01-06 | 1982-01-06 | シ−ト状物質の低温プラズマ処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58120860A JPS58120860A (ja) | 1983-07-18 |
| JPH0121260B2 true JPH0121260B2 (ja) | 1989-04-20 |
Family
ID=11484193
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP81682A Granted JPS58120860A (ja) | 1982-01-06 | 1982-01-06 | シ−ト状物質の低温プラズマ処理装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58120860A (ja) |
| DE (1) | DE3300097A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3312307A1 (de) * | 1983-04-06 | 1984-10-11 | Sando Iron Works Co., Ltd., Wakayama, Wakayama | Vorrichtung zum behandeln eines textilguts |
| JPS60228673A (ja) * | 1984-04-25 | 1985-11-13 | Hitachi Ltd | プラズマ処理装置用制御装置 |
| DE4313284A1 (de) * | 1993-04-23 | 1994-10-27 | Leybold Ag | Spaltschleuse für das Ein- oder Ausbringen von Substraten von der einen in eine benachbarte Behandlungskammer |
| DE19540255A1 (de) * | 1995-10-28 | 1997-04-30 | Leybold Ag | Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats |
| DE19540053A1 (de) * | 1995-10-27 | 1997-04-30 | Leybold Ag | Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats, insbesondere mit elektrisch nichtleitenden Schichten |
| EP0783174B1 (de) | 1995-10-27 | 2006-12-13 | Applied Materials GmbH & Co. KG | Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats |
| JP2010228180A (ja) * | 2009-03-26 | 2010-10-14 | Ube Ind Ltd | 巻き替えポリイミドフィルムロール及びその製造方法 |
| FR2975308B1 (fr) * | 2011-05-16 | 2015-06-26 | Valeo Systemes Dessuyage | Dispositif d'etancheite pour le traitement sous vide d'une surface d'un objet |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53121469A (en) * | 1977-03-31 | 1978-10-23 | Toshiba Corp | Gas etching unit |
| JPS5583735U (ja) * | 1978-12-06 | 1980-06-09 | ||
| JPS5814452B2 (ja) * | 1978-12-28 | 1983-03-19 | 東レ株式会社 | 基材の低温プラズマ処理方法 |
| JPS5718737A (en) * | 1980-06-21 | 1982-01-30 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Apparatus for continuous plasma treatment |
-
1982
- 1982-01-06 JP JP81682A patent/JPS58120860A/ja active Granted
-
1983
- 1983-01-04 DE DE19833300097 patent/DE3300097A1/de not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58120860A (ja) | 1983-07-18 |
| DE3300097A1 (de) | 1983-08-04 |
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