JPH0341730A - 純水ベーパ乾燥方法 - Google Patents
純水ベーパ乾燥方法Info
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- JPH0341730A JPH0341730A JP17568689A JP17568689A JPH0341730A JP H0341730 A JPH0341730 A JP H0341730A JP 17568689 A JP17568689 A JP 17568689A JP 17568689 A JP17568689 A JP 17568689A JP H0341730 A JPH0341730 A JP H0341730A
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- JP
- Japan
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- container
- pure water
- drying
- paper
- cleaned
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- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
半導体装置に使用されるウェハやガラス基板等を洗浄し
た後に乾燥する方法、特に純水を使用してこれらの被洗
浄物を乾燥する方法に関し、有機溶剤のような危険、性
がなく且つ高純度な洗浄・乾燥の品質が得られ、更に容
易且つ安価に入手できる純水を使用した純水ペーパ乾燥
方法を得ることを目的とし、 上側が密閉した容器の下方で純水を沸騰させて純水ペー
パを容器内の上部へ導くと共に、該容器の下部よ・り容
器内の空気を抜いて該容器内に純水ペーパを充満させ、
ついで容器内の温度を下げて純水ペーパの層を容器内の
下方へ移動させることにより、容器内の被洗浄物を乾燥
させることを特徴とする純水ペーパ乾燥方法を構成する
。
た後に乾燥する方法、特に純水を使用してこれらの被洗
浄物を乾燥する方法に関し、有機溶剤のような危険、性
がなく且つ高純度な洗浄・乾燥の品質が得られ、更に容
易且つ安価に入手できる純水を使用した純水ペーパ乾燥
方法を得ることを目的とし、 上側が密閉した容器の下方で純水を沸騰させて純水ペー
パを容器内の上部へ導くと共に、該容器の下部よ・り容
器内の空気を抜いて該容器内に純水ペーパを充満させ、
ついで容器内の温度を下げて純水ペーパの層を容器内の
下方へ移動させることにより、容器内の被洗浄物を乾燥
させることを特徴とする純水ペーパ乾燥方法を構成する
。
本発明は半導体装置に使用されるウェハやガラス基板等
を洗浄した後に乾燥する方法、特に純水を使用してこれ
らの被洗浄物を乾燥する方法に関する。
を洗浄した後に乾燥する方法、特に純水を使用してこれ
らの被洗浄物を乾燥する方法に関する。
各種産業において、爆発の危険や環境汚染の問題を生じ
させることなく、安全且つ高性能に洗浄乾燥を行うこと
が要求されている。特に、近年の半導体産業では、ウェ
ハの洗浄に高性能の洗浄技術が要求されており、中でも
最終の洗浄乾燥技術が重要であり、乾燥時にゴミ等を付
着させないことが必要であ′る。また、環境に悪影響を
及ぼす危険のある各種有機溶剤は環境保全の見地から今
後は洗浄に使用できなくなる可能性が充分にある。
させることなく、安全且つ高性能に洗浄乾燥を行うこと
が要求されている。特に、近年の半導体産業では、ウェ
ハの洗浄に高性能の洗浄技術が要求されており、中でも
最終の洗浄乾燥技術が重要であり、乾燥時にゴミ等を付
着させないことが必要であ′る。また、環境に悪影響を
及ぼす危険のある各種有機溶剤は環境保全の見地から今
後は洗浄に使用できなくなる可能性が充分にある。
従って、これらの被洗浄物に対する乾燥に安全且つ高性
能な技術の確立が要求される。
能な技術の確立が要求される。
従来、半導体素子に使用されるウエノ＼の最終段階の乾
燥方法として、フレオンペーパ、ＩＰＡペーパ、スピン
乾燥、自然乾燥、ドライガスブロー等の方法があった。
燥方法として、フレオンペーパ、ＩＰＡペーパ、スピン
乾燥、自然乾燥、ドライガスブロー等の方法があった。
これらの方法にはそれぞれに長所、短所がある。その中
で有機溶剤のペーパによる乾燥が広く利用されている。
で有機溶剤のペーパによる乾燥が広く利用されている。
その理由として、有機溶剤は分子の極性が大きく、ペー
パの密度が空気密度より高いため、容易にペーパゾーン
が作れ高い洗浄効果が得られるためである。しかしなが
ら、有機溶剤を使用した洗浄・乾燥方法は高い洗浄度が
得られるものの、大気汚染、可燃性、発癌性等の理由で
今後使用制限が厳しくなる。また、他の洗浄・乾燥方法
では、有機溶剤のペーパ乾燥程の高い洗浄度は得られて
いないのが現状である。
パの密度が空気密度より高いため、容易にペーパゾーン
が作れ高い洗浄効果が得られるためである。しかしなが
ら、有機溶剤を使用した洗浄・乾燥方法は高い洗浄度が
得られるものの、大気汚染、可燃性、発癌性等の理由で
今後使用制限が厳しくなる。また、他の洗浄・乾燥方法
では、有機溶剤のペーパ乾燥程の高い洗浄度は得られて
いないのが現状である。
上記のように有機溶剤によるペーパ乾燥は今後使用が制
限され、溶剤の回収設備や安全対策のための費用が嵩み
、また代替薬品の開発等にも大きな費用がかかる。
限され、溶剤の回収設備や安全対策のための費用が嵩み
、また代替薬品の開発等にも大きな費用がかかる。
そこで、本発明は、有機溶剤のような危険性がなく且つ
高純度な洗浄・乾燥の品質が得られ、更に容易且つ安価
に入手できる純水を使用した純水ペーパ乾燥方法を提供
することを目的とする。
高純度な洗浄・乾燥の品質が得られ、更に容易且つ安価
に入手できる純水を使用した純水ペーパ乾燥方法を提供
することを目的とする。
このような課題を解決するために、本発明によれば、上
側が密閉した容器の下方で純水を沸騰させて純水ペーパ
を容器内の上部へ導くと共に、該容器の下部より容器内
の空気を抜いて該容器内に純水ペーパを充満させ、つい
で容器内の温度を下げて純水ペーパの層を容器内の下方
へ移動させることにより、容器内の被洗浄物を乾燥させ
ることを特徴とする純水ペーパ乾燥方法が提供される。
側が密閉した容器の下方で純水を沸騰させて純水ペーパ
を容器内の上部へ導くと共に、該容器の下部より容器内
の空気を抜いて該容器内に純水ペーパを充満させ、つい
で容器内の温度を下げて純水ペーパの層を容器内の下方
へ移動させることにより、容器内の被洗浄物を乾燥させ
ることを特徴とする純水ペーパ乾燥方法が提供される。
被洗浄物を容器に入れた後、上記のように容器内に高温
の純水ペーパを充満させる。被洗浄物は最初は湿潤状態
にあり、容器内のペーパより温度が低いので、凝縮した
液滴が被洗浄物の表面に付着し、汚れを洗い落とす。被
洗浄物の温度が上昇すると液滴はもはや付着しなくなり
乾燥状態となる。この時点で、容器内の温度を下げて純
水ペーパの層を容器内の下方へ移動させ、被洗浄物を容
器上部より取り出す。
の純水ペーパを充満させる。被洗浄物は最初は湿潤状態
にあり、容器内のペーパより温度が低いので、凝縮した
液滴が被洗浄物の表面に付着し、汚れを洗い落とす。被
洗浄物の温度が上昇すると液滴はもはや付着しなくなり
乾燥状態となる。この時点で、容器内の温度を下げて純
水ペーパの層を容器内の下方へ移動させ、被洗浄物を容
器上部より取り出す。
以下、添付図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明
する。
する。
第１図は本発明の純水ペーパ乾燥方法の原理図である。
上側が密閉した容器ｌの下方に純水溜２があり、更にそ
の下側にヒーター３がある。純水がヒーター３により加
熱され沸騰すると、純水ペーパが上昇し容器ｌの上部に
導かれる。容器１内にあった空気は容器１の下部よりフ
ィルタ４を通し外部に出される。このようにして容器１
内にはその上部より純水ペーパ層が形成される。容器ｌ
の内壁に沿って螺旋状の冷却水導管５が設けられいて、
この冷却水導管５に冷却水が供給される。
の下側にヒーター３がある。純水がヒーター３により加
熱され沸騰すると、純水ペーパが上昇し容器ｌの上部に
導かれる。容器１内にあった空気は容器１の下部よりフ
ィルタ４を通し外部に出される。このようにして容器１
内にはその上部より純水ペーパ層が形成される。容器ｌ
の内壁に沿って螺旋状の冷却水導管５が設けられいて、
この冷却水導管５に冷却水が供給される。
これにより、容器１の内部が冷却されるので、純水ペー
パ層は容器１内の下方へ移動する。この過程で、容器１
内の被洗浄物１０の乾燥が行われる。
パ層は容器１内の下方へ移動する。この過程で、容器１
内の被洗浄物１０の乾燥が行われる。
第２図は本発明の純水ペーパ乾燥方法の実施例である。
この実施例は、例えば半導体用のウェハやガラス基板等
の最終の洗浄・乾燥工程で使用されているものである。
の最終の洗浄・乾燥工程で使用されているものである。
容器ｌの上部には開閉可能な蓋１２があり、キャリア１
３に搭載された被洗浄物１０が蓋１２の開いている間に
容器１内へ搬入、搬出できる。容器１の内部は例えばス
テンレス製の金網１４により上部と下部に分けられてい
る。容器１の上部には第１図の冷却水導管５と同様の導
管５が容器１の内壁に沿って螺旋状に設けられている。
３に搭載された被洗浄物１０が蓋１２の開いている間に
容器１内へ搬入、搬出できる。容器１の内部は例えばス
テンレス製の金網１４により上部と下部に分けられてい
る。容器１の上部には第１図の冷却水導管５と同様の導
管５が容器１の内壁に沿って螺旋状に設けられている。
但し、この導管５には、冷却水を供給して容器を冷却す
るだけでなく、高温（例えば１４０℃程度）の水蒸気を
供給して容器１の上部域を加熱することもできる。容器
１の下部には別の冷却・加熱用配管１５が設けである。
るだけでなく、高温（例えば１４０℃程度）の水蒸気を
供給して容器１の上部域を加熱することもできる。容器
１の下部には別の冷却・加熱用配管１５が設けである。
この配管１５にも冷却水又は高温（例えば１４０℃程度
）水蒸気を供給して、容器１の下部域を冷却・加熱する
ことができる。配管工５には多数の冷却・加熱フィン１
６が取付けである。容器ｌの下部には第１図と同様にフ
ィルタ４を介して外部と連通されている個所がある。第
１図と同様、容器１の下方には純水溜２及びヒーター３
があるが、実施例では、更に純水溜２の周囲に、純水溜
２から溢流した水又は容器１内で！！結しかつ落下した
水分を受ける溢流溝１７があり、この溢流溝１７の純水
は純水循環ポンプ１８及びフィルタ１９により純水溜２
に戻される。
）水蒸気を供給して、容器１の下部域を冷却・加熱する
ことができる。配管工５には多数の冷却・加熱フィン１
６が取付けである。容器ｌの下部には第１図と同様にフ
ィルタ４を介して外部と連通されている個所がある。第
１図と同様、容器１の下方には純水溜２及びヒーター３
があるが、実施例では、更に純水溜２の周囲に、純水溜
２から溢流した水又は容器１内で！！結しかつ落下した
水分を受ける溢流溝１７があり、この溢流溝１７の純水
は純水循環ポンプ１８及びフィルタ１９により純水溜２
に戻される。
第２図の実施例による乾燥工程は次の通りである。まず
、容器１上部の蓋１２を閉じた状態で、ヒーター３にて
純水を加熱し沸騰状態にして容器１の上部にペーパ層を
形成する。コイル状の導管５にはまだ冷却水を流さない
でおく。被洗浄物１０を入れたキャリア１３をこの容器
１に入れる直前に、冷却水を配管５．１５に流し、容器
ｌ内の上部域におけるペーパ層を取り除く。この状態に
て容器１上部の蓋１２を開き、キャリア１３を容器ｌに
入れて金網■４上にセットする。
、容器１上部の蓋１２を閉じた状態で、ヒーター３にて
純水を加熱し沸騰状態にして容器１の上部にペーパ層を
形成する。コイル状の導管５にはまだ冷却水を流さない
でおく。被洗浄物１０を入れたキャリア１３をこの容器
１に入れる直前に、冷却水を配管５．１５に流し、容器
ｌ内の上部域におけるペーパ層を取り除く。この状態に
て容器１上部の蓋１２を開き、キャリア１３を容器ｌに
入れて金網■４上にセットする。
蓋１２を閉じ、配管５．１５への冷却水の供給を止める
と、再び純水ペーパ層が上昇する。これにより、洗浄物
であるウェハ１０を上述のように洗浄しかつ乾燥させる
。このとき、純水ペーパの上昇を促進するために、配管
５．１５に溜まった冷却水をエアーで押し出すか、又は
上述のように高温（例えば１４０℃程度）水蒸気を流し
て冷却水を即座に押し出しかつ容器１を加熱する。
と、再び純水ペーパ層が上昇する。これにより、洗浄物
であるウェハ１０を上述のように洗浄しかつ乾燥させる
。このとき、純水ペーパの上昇を促進するために、配管
５．１５に溜まった冷却水をエアーで押し出すか、又は
上述のように高温（例えば１４０℃程度）水蒸気を流し
て冷却水を即座に押し出しかつ容器１を加熱する。
乾燥後、取り出す時は、再度配管５．１５に冷却水を流
し、容器内の純水ペーパを取り除いてから、蓋１２を開
けてキャリア１３ごと取り出す。
し、容器内の純水ペーパを取り除いてから、蓋１２を開
けてキャリア１３ごと取り出す。
以上に説明したように、本発明によれば、純水ペーパを
用いて乾燥を行うことにより、従来の有機溶剤ペーパ乾
燥方法に比べ、爆発の危険、大気汚染や発癌性等の問題
は全くなく、溶剤の回収や廃棄のための費用も必要とし
ない。また、純水は溶剤よりも高純度のものが容易に入
手できるので、高い洗浄効果を期待できる。
用いて乾燥を行うことにより、従来の有機溶剤ペーパ乾
燥方法に比べ、爆発の危険、大気汚染や発癌性等の問題
は全くなく、溶剤の回収や廃棄のための費用も必要とし
ない。また、純水は溶剤よりも高純度のものが容易に入
手できるので、高い洗浄効果を期待できる。
第１図は本発明の原理を示す概略図、第２図は本発明の
実施例の構成を示す図である。 １・・・容器、 １２・・・開閉蓋、２・
・・純水溜、 １３・・・キャリア、３・・
・ヒータ、 １４・・・金網、４・・・フィ
ルタ、 １５・・・冷却・加熱用配管、５・・
・冷却・加熱用導管、１６・・・フィン、１０・・・被
洗浄物、 １７・・・溢流溝、１８・・・純水循
環ポンプ、 １９・・・フィルタ。 第１図 ７・・・容器 ２・・・純水槽 さ・・・ヒータ ４・・・フィルタ ５・・・冷却水導管 １０・・・被洗浄物
実施例の構成を示す図である。 １・・・容器、 １２・・・開閉蓋、２・
・・純水溜、 １３・・・キャリア、３・・
・ヒータ、 １４・・・金網、４・・・フィ
ルタ、 １５・・・冷却・加熱用配管、５・・
・冷却・加熱用導管、１６・・・フィン、１０・・・被
洗浄物、 １７・・・溢流溝、１８・・・純水循
環ポンプ、 １９・・・フィルタ。 第１図 ７・・・容器 ２・・・純水槽 さ・・・ヒータ ４・・・フィルタ ５・・・冷却水導管 １０・・・被洗浄物
Claims (1)
- １、上側が密閉した容器（１）の下方で純水を沸騰させ
て純水ペーパを容器内の上部へ導くと共に、該容器の下
部より容器内の空気を抜いて該容器内に純水ペーパを充
満させ、ついで容器内の温度を下げて純水ペーパの層を
容器内の下方へ移動させることにより、容器内の被洗浄
物（１０）を乾燥させることを特徴とする純水ペーパ乾
燥方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17568689A JP2823019B2 (ja) | 1989-07-10 | 1989-07-10 | 純水ベーパ乾燥方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17568689A JP2823019B2 (ja) | 1989-07-10 | 1989-07-10 | 純水ベーパ乾燥方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0341730A true JPH0341730A (ja) | 1991-02-22 |
| JP2823019B2 JP2823019B2 (ja) | 1998-11-11 |
Family
ID=16000468
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17568689A Expired - Fee Related JP2823019B2 (ja) | 1989-07-10 | 1989-07-10 | 純水ベーパ乾燥方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2823019B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6708971B1 (en) * | 1998-04-14 | 2004-03-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Paper cassette, printer for use with paper cassette, and paper supplying method |
| JP2010064824A (ja) * | 2008-09-09 | 2010-03-25 | Toshiba Corp | 給紙装置 |
-
1989
- 1989-07-10 JP JP17568689A patent/JP2823019B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6708971B1 (en) * | 1998-04-14 | 2004-03-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Paper cassette, printer for use with paper cassette, and paper supplying method |
| JP2010064824A (ja) * | 2008-09-09 | 2010-03-25 | Toshiba Corp | 給紙装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2823019B2 (ja) | 1998-11-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |