JPH0341893B2

JPH0341893B2 -

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Publication number: JPH0341893B2
Application number: JP18557983A
Authority: JP
Priority date: 1983-10-04
Filing date: 1983-10-04
Publication date: 1991-06-25
Also published as: JPS6079531A

Description

【発明の詳細な説明】本発明は磁気記録媒体の製造方法、特に詳しく
は磁場配向処理が適正なタイミングでなされるよ
うにした磁気記録媒体の製造方法に関する。

従来より、溶楳により溶解された結合剤（バイ
ンダー）中に磁性粒子を分散してなる磁性塗布液
を、例えばポリエステルフイルム等の非磁性支持
体表面に塗布した磁気記録媒体が公知となつてい
る。最近ではこのような磁気記録媒体を製造する
際に、例えば特公昭56−36496号公報に示される
ように、連続移送される支持体表面に塗布された
塗布液（塗膜）が乾燥、固化する前に該塗膜に対
して外部磁界を印加し、磁性粒子の容易磁化軸を
所望方向に配向させることにより、この塗膜が固
化してなる磁性層の角形性（磁気ヒステリシス曲
線の角形形状性）を高める試みが広くなされてい
る。

上述の磁場配向処理は一般に、塗膜が乾燥、固
化する直前に行なうと効果的であることが知られ
ている。すなわち塗膜の乾燥度が低く粘度が低い
状態で磁場配向処理をしても、該塗膜中の磁性粒
子は乾燥するまでに動いてしまい配向にならな
い。また反対に塗膜乾燥が進んでから磁場配向処
理すると磁性粒子が動かないので配向し難いので
ある。そこで前記のように連続移送される非磁性
支持体に磁性塗布液を塗布して磁気記録媒体を製
造するに際しては、塗膜が乾燥、固化する直前の
ポイントを例えば化学的な測定によつてあらかじ
め求め、磁性粒子が配向が最良になる位置に磁場
配向手段を配設することが望ましいが、たとえそ
のようにしても上記ポイントは乾燥条件等の変動
によつて変わりうるから、常に磁場配向手段に乾
燥、固化直前の塗膜が供給されるようになるとは
限らない。

本発明は上記のような事情に鑑みてなされたも
のであり、前述したように連続移送される非磁性
支持体の表面に磁性塗布液を塗布して磁性塗膜を
形成し、その後該塗膜を乾燥、磁場配向する磁気
記録媒体の製造方法において、常に、乾燥、固化
直前状態の塗膜に対して磁場配向処理がなされう
る磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的
とするものである。

本発明の磁気記録媒体の製造方法は、前述のよ
うな塗膜に光を照射し、該塗膜からの反射光量を
塗膜未乾燥状態から乾燥完了状態までに亘つて測
定すると、未乾燥状態下では反射光量は比較的小
さなほぼ一定値をとり、乾燥完了直前において急
激に増大し、乾燥完了すると低下してほぼ一定値
を保つ、という現象を発見したことに基づいて得
られたものであり、塗膜に対して測定光を照射す
るとともに、該測定光の塗膜からの反射光量を測
定し、該反射光量の測定結果に応じて乾燥手段を
制御することにより、磁場配向手段近傍において
上記反射光量が最大値をとるようにしたものであ
る。

すなわち、上記反射光量が最大値を示すときに
塗膜は乾燥完了して固化する直前の状態にあるの
で、このときに磁場配向処理すれば前述した理由
により磁場配向が効果的に行なわれることにな
る。

以下、図面を参照して本発明の実施例について
詳細に説明する。

第１図は本発明の磁気記録媒体の製造方法を実
施する装置の一例を示すものである。長尺、帯状
の非磁性支持体１は送出しロール２から送り出さ
れ、連続移送されて巻取りロール３に巻き取られ
る。連続移送される非磁性支持体１の表面（図中
上表面）に近接する位置には、一例として塗布ヘ
ツド４が配置され、該塗布ヘツド４により支持体
１の表面に磁性塗布液５が塗布される。この磁性
塗布液５は、溶楳により溶解された結合剤（バイ
ンダー）中に磁性粒子を分散させてなるものであ
り、この磁性塗布液５を塗布されて支持体１表面
上には塗膜５′が層成される。

上記塗布ヘツド４より支持体移送方向下流側の
位置には３つの乾燥ゾーン６，７，８が画成され
ている。各乾燥ゾーン６，７，８には乾燥風導入
口６ａ，７ａ，８ａと乾燥風排出口６ｂ，７ｂ，
８ｂとが設けられ、各乾燥風導入口６ａ，７ａ，
８ａには乾燥手段９，１０，１１から乾燥風が送
り込まれるようになつている。これら乾燥手段
９，１０，１１は各々、上記乾燥風導入口６ａ，
７ａ，８ａから乾燥ゾーン６，７，８内に送風す
る送風機９ａ，１０ａ，１１ａと、送風路内に配
設された蒸気式のヒータ９ｂ，１０ｂ，１１ｂと
からなるものであり、ヒータ９ｂ，１０ｂ，１１
ｂに高温の蒸気を供給する蒸気管１２，１３，１
４には調節弁１５，１６，１７が介設されてい
る。

前記の非磁性支持体１の素材としてはポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナ
フタレート等のポリエステル類；ポリエチレン、
ポリプロピレン等のポリオレフイン類；セルロー
ストリアセテート、セルロースダイアセテート、
セルロースアセテートブチレート、セルロースア
セテートプロピオネード等のセルロース誘導体；
ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル
系樹脂；ポリカーボネート、ポリイミド、ポリア
ミドイミド等のプラスチツクの他に用途に応じて
アルミニウム、銅、スズ、亜鉛またはこれらを含
む非磁性合金などの非磁性金属類等が用いられう
る。

前記磁性粒子としては強磁性酸化鉄、強磁性二
酸化クロム、強磁性合金粉末などが使用できる。
また前記結合剤（バインダー）としては、従来公
知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又は反応型樹脂
やこれらの混合物が使用される。塗布溶楳に使用
する有機溶楳としては、アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン等のケトン系；酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチ
ルエーテル等のエステル系；エーテル、グリコー
ルジメチルエーテル、グリコールモノエチルエー
テル、ジオキサン等のグリコールエーテル系；ベ
ンゼン、トルエン、キシレン等のタール系（芳香
族炭化水素）；メチレンクロライド、エチレンク
ロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレン
クロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭
化水素等のものが選択して使用できる。

支持体上へ前記の磁性塗布液５を塗布する方法
としては前述のような塗布ヘツド４を用いる他
に、エアードクターコート、ブレードコート、エ
アナイフコート、スクイズコート、含浸コート、
リバースロールコート、トランスフアーロールコ
ート、グラビヤコート、キスコート、キヤストコ
ート、スプレイコート、スピンコート等が利用で
き、その他の方法も可能であり、これらの具体的
説明は朝倉書店発行の「コーテイング工学」253
頁〜277頁（昭和46.3.20発行）に詳細に記載され
ている。

そして乾燥ゾーン７内には配向磁石１８が配設
され、非磁性支持体１は塗膜５′が未乾燥のまま
上記配向磁石１８の近傍を通過し、このとき該配
向磁石１８によつて塗膜５′中の磁性粒子が所望
方向に配向される。この配向磁石１８としては単
極永久磁石、二極対向永久磁石、四極対向永久磁
石、あるいは電磁石等が使用されうる。

乾燥ゾーン６，７，８、内には、それぞれＡ
点、Ｂ点、Ｃ点において乾燥度検知装置２０，３
０，４０のセンサー２５，３５，４５が配設され
ている。これら乾燥度検知装置２０，３０，４０
はすべて同等のものであるので、以下それらを代
表し、第２図を参照して乾燥度検知装置２０につ
いて説明する。乾燥度検知装置２０内には、例え
ば発光ダイオード等の発光素子２１と、フオトト
ランジスタ等の受光素子（光電変換素子）２２が
設けられている。発光素子２１の発光は測定光と
して用いられるもので、オプチカルフアイバーチ
ユーブ２３によつて本体２０外部に導かれるよう
になつている。上記オプチカルフアイバーチユー
ブ２３の先端部は、もう１本のオプチカルフアイ
バーチユーブ２４の先端部と互いに結束されてセ
ンサー２５とされ、双方のフアイバーチユーブ２
３，２４の先端面２３ａ，２４ａが同一方向を向
くようになつている。フアイバーチユーブ２４は
上記先端面２４ａと反対側の端面が、上記受光素
子２２に対向するように配され、該受光素子２２
の出力は増幅器２６に入力されて反射光量が検出
される。

上記センサー２５は、その、先端面（フアイバ
ーチユーブ先端面２３ａ，２４ａ）が塗膜５′に
対向するように配置される。そして発光素子２１
を作動させてフアイバーチユーブ先端面２３ａか
ら塗膜５′に測定光Leを照射すると、この測定光
Leは塗膜５′において反射し、その反射光Lrはフ
アイバーチユーブ先端面２４ａからフアイバーチ
ユーブ２４内に入射し、該フアイバーチユーブ２
４を介して受光素子２２に導かれる。センサー２
５の先端面と塗膜５′との間の距離は一例として
10mm程度に設定される。

第３図は上記第２図に示す装置により、オーデ
イオ用磁気テープの塗膜と所定点からの反射光量
を、塗膜が未乾燥の状態から乾燥完了まで連続し
て測定し、それとともに塗膜の乾燥度を実際に測
定して、双方の測定結果を合わせて表示したもの
である。この第３図に示されるように反射光量
は、塗膜が未乾燥の状態下では比較的小さなほぼ
一定値をとり、乾燥完了直前に急激に増大して最
大値をとり、乾燥が完了すると低下して再度ほぼ
一定値を保つ。また第４図はビデオテープに対し
て同様の測定を行なつた結果を示すものである。
この場合、反射光量の変化特性は前記第３図のも
のと異なるが、塗膜の乾燥完了直前に反射光量が
急激に増大して最大値を示す傾向は同様に認めら
れる。このような傾向はその他、溶楳により溶解
された結合剤（バインダー）中に磁性粒子を分散
させてなる磁性塗布液を非磁性支持体表面に塗布
して層成した塗膜の多くについて同様に認められ
る（なお本発明者らの研究によれば、反射光量変
化特性は塗膜厚さには関係なく、塗膜種類毎に共
通している）。

したがつて第５図に示すように、配向磁石１８
の近傍のＢ点に配置したセンサー３５が検出した
反射光量が、その前後のセンサー２５，４５によ
るＡ点、Ｃ点の検出反射光量に比べて明確に大き
な値をとつていれば、そのときの支持体長手方向
に亘る反射光量変化特性は該第５図に破線で示す
ような特性、すなわち配向磁石１８の近傍におい
て最大値を示すものとなつており、配向磁石１８
には乾燥完了直前状態の塗膜５′が供給されて、
前述したような理由により磁場配向が効果的にな
されることになる。

次に、上記のような反射光量変化特性を維持さ
せるための制御について説明する。第１図に示さ
れているように、前記３つの検知装置２０，３
０，４０が出力する反射光量信号S₁，S₂，S₃は乾
燥手段制御回路５０に入力され、前記調節弁１
５，１６，１７はこれら反射光量信号S₁，S₂，S₃
に基づいて該制御回路５０から出力される弁制御
信号S₁₁，S₁₂，S₁₃により操作される。

制御回路５０は反射光量信号S₁，S₂，S₃を比較
し、信号S₂が担持するＢ点反射光量が、信号S₁お
よびS₃が担持するＡ点反射光量およびＣ点反射光
量よりも多い場合には、調節弁１５，１６，１７
をそれまでの開度に維持させる。すなわちこのと
きには反射光量変化特性は前記第５図に示したよ
うな特性になつており、乾燥完了直前状態の塗膜
５′が配向磁石１８内を通過する。

第６図に１点鎖線で示すように、Ａ点反射光量
＞Ｂ点反射光量＞Ｃ点反射光量となると、反射光
量最大値はＡ点に近い位置において生じるので、
このとき制御回路５０は調節弁１５，１６，１７
を閉方向に駆動させる弁制御信号S₁₁，S₁₂，S₁₃
を出力する。調節弁１５，１６，１７が閉方向に
駆動されると、ヒータ９ｂ，１０ｂ，１１ｂに供
給される蒸気量が減少し、乾燥ゾーン６，７，８
に送られる乾燥風の温度が低下する。その結果塗
膜５′の乾燥が遅れるので、塗膜５′が乾燥完了直
前状態となる位置（反射光量最大位置）は支持体
移送方向下流側に移動し、乾燥完了直前状態の塗
膜５′が配向磁石１８内を通過するようになる。

上記とは反対に、Ａ点反射光量＜Ｂ点反射光量
＜Ｃ点反射光量となつたとき、制御回路５０は調
節弁１５，１６，１７を開方向に駆動させる弁制
御信号S₁₁，S_12，S₁₃を出力する。するとヒータ
９ｂ，１０ｂ，１１ｂに供給される蒸気量が増大
し、乾燥ゾーン６，７，８に送られる乾燥風の温
度が上昇する。その結果塗膜５′の乾燥が早くな
るので、塗膜５′が乾燥完了直前状態となる位置
（反射光量最大位置）は支持体移送方向上流側に
移動し、乾燥完了直前状態の塗膜５′が配向磁石
１８内を通過するようになる。

なお上記乾燥手段制御回路５０は、比較回路等
の公知の電気回路を用いて形成されうる。また本
実施例においてはヒータ９ｂ，１０ｂ，１１ｂの
温度を制御することによつて、乾燥ゾーン６，
７，８内の塗膜５′の乾燥進行を制御するように
しているが、その他ブロワ９ａ，１０ａ，１１ａ
の送風量を制御して塗膜５′の乾燥進行を制御す
るようにしてもよい。

また本実施例においては、各乾燥ゾーン６，
７，８に対応する調節弁１５，１６，１７を各々
独自の信号S₁₁，S₁₂，S₁₃によつて制御するよう
にしているから、調節弁１５，１６，１７の制御
量を個別に設定して各乾燥ゾーン６，７，８の乾
燥負荷分布を好ましく設定することができる。な
おこのようにすることは必ずしも必要ではなく、
乾燥ゾーンを１つだけ設定してもよいし、また乾
燥ゾーンを複数設定した場合でも、各乾燥ゾーン
用の乾燥手段を１つの主系統に接続し、この主系
統１ケ所だけを制御するようにしてもよい。すな
わち上記第１図の例で説明すれば、蒸気管１２，
１３，１４の上流側を１本の主蒸気管に接続し、
この主蒸気管に介設した調節弁を制御回路５０か
らの制御信号によつて制御してもよいし、あるい
はヒータ９ｂ，１０ｂ，１１ｂ上流側の送風管を
１本の主送風管に接続し、この主送風管に介設し
た送風機の運転を制御して乾燥風供給量を制御す
るようにしてもよいのである。

以上詳細に説明した通り本発明の磁気記録媒体
の製造方法によれば常に、乾燥完了する直前の塗
膜に対して磁場配向することが可能であり、した
がつて磁性層の表面平滑性が優れてＳ／Ｎ特性が
良く、しかも磁場配向が十分になされて電磁変換
特性に優れた磁気記録媒体を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気記録媒体の製造方法を実
施する装置の一例を示す概略図、第２図は蒸気装
置の一部を拡大して示す概略図、第３、第４図は
本発明に係わる、塗膜の反射光量と乾燥度との関
係の例を示すグラフ、第５、第６図は上記第１図
の装置における塗膜の反射光量変化の様子を示す
グラフである。１……非磁性支持体、２……送出しロール、３
……巻取りロール、４……塗布ヘツド、５……磁
性塗布液、５′……塗膜、９，１０，１１……乾
燥手段、９ｂ，１０ｂ，１１ｂ……ヒータ、１
２，１３，１４……蒸気管、１５，１６，１７…
…調節弁、１８……配向磁石、２０，３０，４０
……乾燥度検知装置、５０……乾燥手段制御装
置。

Claims

【特許請求の範囲】

１連続移送される非磁性支持体の表面に磁性塗
布液を塗布して磁性塗膜を形成し、その後該塗膜
を乾燥、磁場配向する磁気記録媒体の製造方法に
おいて、前記塗膜に対して測定光を照射するとと
もにこの照射光の塗膜からの反射光量を測定し、
該反射光量の測定結果に応じて乾燥手段を制御す
ることにより、磁場配向手段近傍において前記反
射光量が最大値をとるようにしたことを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。