JPH0342015A - クロロフルオロカーボン又はハイドロフルオロカーボンの分解処理方法 - Google Patents
クロロフルオロカーボン又はハイドロフルオロカーボンの分解処理方法Info
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- JPH0342015A JPH0342015A JP1176012A JP17601289A JPH0342015A JP H0342015 A JPH0342015 A JP H0342015A JP 1176012 A JP1176012 A JP 1176012A JP 17601289 A JP17601289 A JP 17601289A JP H0342015 A JPH0342015 A JP H0342015A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
- B01D53/86—Catalytic processes
- B01D53/8659—Removing halogens or halogen compounds
- B01D53/8662—Organic halogen compounds
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02C—CAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
- Y02C20/00—Capture or disposal of greenhouse gases
- Y02C20/30—Capture or disposal of greenhouse gases of perfluorocarbons [PFC], hydrofluorocarbons [HFC] or sulfur hexafluoride [SF6]
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はフロンの分解処理方法に関するものである。
(従来の技術)
フロンは大気中に放出された場合にオゾン層に流れ、こ
れが太陽紫外線によって分解されて生ずる活性な塩素原
子によりオゾン層を破壊するため、地球環境の悪化の原
因とされている。そのため、フロンの代替品の開発と並
行してフロンを分解する技術の開発が待たれている。
れが太陽紫外線によって分解されて生ずる活性な塩素原
子によりオゾン層を破壊するため、地球環境の悪化の原
因とされている。そのため、フロンの代替品の開発と並
行してフロンを分解する技術の開発が待たれている。
従来知られているフロンの分解処理方法としては、フロ
ンを密閉容器内で燃焼分解させる加圧燃焼法と、フロン
の溶液を超純水と混合し、温度約400°C1圧力約3
60℃気圧の条件下で反応させる超臨界水法とがある。
ンを密閉容器内で燃焼分解させる加圧燃焼法と、フロン
の溶液を超純水と混合し、温度約400°C1圧力約3
60℃気圧の条件下で反応させる超臨界水法とがある。
ところが、上記の加圧燃焼法にあっては、分解効率を上
げるためには、通常の物質の焼却条件である温度800
°C〜900°C1常圧以上に燃焼温度及び圧力を上げ
る必要がある。また超化界水法にあっては、高圧条件維
持のために装置コストが極めて高くつくという問題があ
った。
げるためには、通常の物質の焼却条件である温度800
°C〜900°C1常圧以上に燃焼温度及び圧力を上げ
る必要がある。また超化界水法にあっては、高圧条件維
持のために装置コストが極めて高くつくという問題があ
った。
(発明が解決しようとする課B)
本発明は上記したような従来の問題を解決して、通常の
物質の焼却条件付近において経済的にしかも高い分解効
率でフロンの分解処理を行うことができるフロンの分解
処理方法を提供するために完成されたものである。
物質の焼却条件付近において経済的にしかも高い分解効
率でフロンの分解処理を行うことができるフロンの分解
処理方法を提供するために完成されたものである。
(課題を解決するための手段)
本発明は前記のような課題を解決するためになされたも
ので、フロン系物質を含むガスを温度2゜O′C以上、
空間速度50000 (H−1)以下の条件下で触媒に
接触させて分解処理することを特徴とするものである。
ので、フロン系物質を含むガスを温度2゜O′C以上、
空間速度50000 (H−1)以下の条件下で触媒に
接触させて分解処理することを特徴とするものである。
本発明において温度を200℃以上としたのは、後記す
る実施例1から明らかなように200℃以下ではフロン
の酸化分解が不充分となるためであり、好ましくは40
0°C〜600°Cの温度で分解が行われる。この温度
範囲においてフロンの酸化分解効率がピークとなり、6
00℃以上としても酸化分解効率上の問題はないが、効
率の向上は期待できず、徒らに昇温のためのエネルギー
コストを上昇させるのみである。
る実施例1から明らかなように200℃以下ではフロン
の酸化分解が不充分となるためであり、好ましくは40
0°C〜600°Cの温度で分解が行われる。この温度
範囲においてフロンの酸化分解効率がピークとなり、6
00℃以上としても酸化分解効率上の問題はないが、効
率の向上は期待できず、徒らに昇温のためのエネルギー
コストを上昇させるのみである。
また本発明において空間速度(SV)を50000 (
H−’ )以下としたのは、50000()l−1)を
越えると触媒とフロン系物質を含むガスとの接触時間が
不充分となり除去効率が低下するためである。空間速度
の下限については特に除去効率上の問題はないが、20
00 (II−’ )以下では徒らに触媒量が増し、触
媒コストが増大するので、2000〜20000 (H
−’ )の範囲が望ましい。
H−’ )以下としたのは、50000()l−1)を
越えると触媒とフロン系物質を含むガスとの接触時間が
不充分となり除去効率が低下するためである。空間速度
の下限については特に除去効率上の問題はないが、20
00 (II−’ )以下では徒らに触媒量が増し、触
媒コストが増大するので、2000〜20000 (H
−’ )の範囲が望ましい。
触媒の種類や形状については特に限定されるものではな
いが、Pt、 Rh、 Pd、 Ru、 Mn、 Cu
、 Cr、 Fe又はその酸化物中から選択された触媒
を使用することが好ましい、またZr、 Ti、 AI
、 H、Siから選択された1種の金属の単独金属系酸
化物又は2種以上の金属の複合多元系酸化物からなるA
成分と、PL、 Rh、 Pd、 Ru、 Mn、 C
u、 Cr、 Fe又はその酸化物中から選択されたB
成分とからなる触媒を使用すると有効である。特に後者
の触媒は触媒自体が酸性であるため著しい耐酸性を示し
、フロンガスの分解により発生するIf、 HCI等の
存在下においてフロンガスを長期に亘り効率良く分解除
去できるので好ましい。
いが、Pt、 Rh、 Pd、 Ru、 Mn、 Cu
、 Cr、 Fe又はその酸化物中から選択された触媒
を使用することが好ましい、またZr、 Ti、 AI
、 H、Siから選択された1種の金属の単独金属系酸
化物又は2種以上の金属の複合多元系酸化物からなるA
成分と、PL、 Rh、 Pd、 Ru、 Mn、 C
u、 Cr、 Fe又はその酸化物中から選択されたB
成分とからなる触媒を使用すると有効である。特に後者
の触媒は触媒自体が酸性であるため著しい耐酸性を示し
、フロンガスの分解により発生するIf、 HCI等の
存在下においてフロンガスを長期に亘り効率良く分解除
去できるので好ましい。
また、触媒担体として大表面積のZrOg−TlO*、
Zr02−TiOi−AIzOsを使用すれば、後記す
る実施例に示すように低温下でも高活性を示し、高空間
速度においても良好な分解除去性能を示す。さらにこの
触媒担体は調整が容易なことからペレット状、板状、円
筒状、格子状、ハニカム状などの任意の形状に底形する
ことができる。また、この触媒担体は圧潰強度、耐摩耗
性、落下強度・などの機械的特性、物理的特性が極めて
優れており、安定して長期使用に耐え得るものである。
Zr02−TiOi−AIzOsを使用すれば、後記す
る実施例に示すように低温下でも高活性を示し、高空間
速度においても良好な分解除去性能を示す。さらにこの
触媒担体は調整が容易なことからペレット状、板状、円
筒状、格子状、ハニカム状などの任意の形状に底形する
ことができる。また、この触媒担体は圧潰強度、耐摩耗
性、落下強度・などの機械的特性、物理的特性が極めて
優れており、安定して長期使用に耐え得るものである。
なお、ZrO□−TiO□等の触媒担体を調整するため
のZr源は無機性Zr化合物および有機性Zr化合物の
中から選ぶことができ、好ましい無機性Zr化合物とし
ては硝酸ジルコニル、硫酸ジルコニル、[ジルコニルが
ある。またTiaは塩化チタン類、硫酸チタンなどの無
機性チタン化合物および修酸チタン、テトライソプロピ
ルチタネートなどの有機性チタン化学物などから選ぶこ
とができる。
のZr源は無機性Zr化合物および有機性Zr化合物の
中から選ぶことができ、好ましい無機性Zr化合物とし
ては硝酸ジルコニル、硫酸ジルコニル、[ジルコニルが
ある。またTiaは塩化チタン類、硫酸チタンなどの無
機性チタン化合物および修酸チタン、テトライソプロピ
ルチタネートなどの有機性チタン化学物などから選ぶこ
とができる。
触媒担体の形状については特に限定されないが、貫通孔
の相当直径が30w以下でかつ開孔率が70%以上のハ
ニカム型一体構造物が特に好ましい。
の相当直径が30w以下でかつ開孔率が70%以上のハ
ニカム型一体構造物が特に好ましい。
その理由としては、ハニカム構造体とすることにより圧
力損失を減することができ、また高い空間速度でも高い
分解効率を得ることができるからである。但し、貫通孔
の相当直径が30mを越えると除去効率が低下する。ま
た、開孔率が50%未満であると圧力損失が高くなる問
題がある。
力損失を減することができ、また高い空間速度でも高い
分解効率を得ることができるからである。但し、貫通孔
の相当直径が30mを越えると除去効率が低下する。ま
た、開孔率が50%未満であると圧力損失が高くなる問
題がある。
ナオフロン物質の分解助剤としてcn4、H!oヲ用い
ることが有効である0本発明は分解助剤の使用及び種類
に特にこだわるものではないが、ガス中のフロン物質濃
度が高い場合にはcn、 、1110 。
ることが有効である0本発明は分解助剤の使用及び種類
に特にこだわるものではないが、ガス中のフロン物質濃
度が高い場合にはcn、 、1110 。
CAR,等の注入が有効である。
以下に本発明を実施例により更に詳細に説明する。
(実施例)
実施例1
第1図に示すフローの実験装置を用い、Zr : Ti
−8,5:1.5 (モル比)の複合酸化物よりなる
目開き2.0閣、壁厚0.4 tmのハニカム戒型体に
Pt(1,5g/担体11)を担持させて形成した完全
触媒を使用し、下記条件下でフロン113を含む排ガス
の分解テストを行なったところ、第1表に示す結果が得
られた。
−8,5:1.5 (モル比)の複合酸化物よりなる
目開き2.0閣、壁厚0.4 tmのハニカム戒型体に
Pt(1,5g/担体11)を担持させて形成した完全
触媒を使用し、下記条件下でフロン113を含む排ガス
の分解テストを行なったところ、第1表に示す結果が得
られた。
なお、温度と分解率の関係をグラフに示すと第2図のと
おりであった。
おりであった。
第1表及び第2図に示されるとおり、処理温度を200
°C以上、SVを50000 (H−”)以下に夫々設
定すれば、良好な分解率を得ることができることを確認
した。
°C以上、SVを50000 (H−”)以下に夫々設
定すれば、良好な分解率を得ることができることを確認
した。
第1表
実施例2
下記条件下でフロン113を含む排ガスの分解テストを
行ったところ、第2表に示す結果が得られた。
行ったところ、第2表に示す結果が得られた。
第2表に示されるとおり、Pt、 Rh、 Pd、 R
u、 Mn、 Cu、 Cr、Feより選択される触媒
を使用すると良好な分解率が得られることが確認できる
。
u、 Mn、 Cu、 Cr、Feより選択される触媒
を使用すると良好な分解率が得られることが確認できる
。
(条件)
ガス組成 R113500pp−残部空気空間速度
2500hr−’ 温 度 500 ℃ 触媒種類 触媒A:Pt 触媒B : Pt+Rh+Pd 触媒C: Pt+Rh+Pd+Ru+Mn+Cu触媒
D : Pt+Rh+Pd+Ru+Mn+Cu+Cr
+Fe触媒E:Ni 触媒Face 触媒G:v 触媒量 総量1.5 g/担体11 第2表 実施例3 触媒としてpt (1,5g/担体1ffi)を担持さ
せたハニカム成形体を使用し、下記条件の下でフロン1
13を含む排ガスの分解テストを行なったところ第3図
に示す結果が得られた。
2500hr−’ 温 度 500 ℃ 触媒種類 触媒A:Pt 触媒B : Pt+Rh+Pd 触媒C: Pt+Rh+Pd+Ru+Mn+Cu触媒
D : Pt+Rh+Pd+Ru+Mn+Cu+Cr
+Fe触媒E:Ni 触媒Face 触媒G:v 触媒量 総量1.5 g/担体11 第2表 実施例3 触媒としてpt (1,5g/担体1ffi)を担持さ
せたハニカム成形体を使用し、下記条件の下でフロン1
13を含む排ガスの分解テストを行なったところ第3図
に示す結果が得られた。
第3図に示されるとおり、フロン物質の分解後発生する
フッ酸、塩酸等に容易に劣化されない触媒担体を使用す
れば、長時間の使用に耐えることが確認できた。
フッ酸、塩酸等に容易に劣化されない触媒担体を使用す
れば、長時間の使用に耐えることが確認できた。
(条件)
ガス組成 R113500ppm 残部空気空間速度
2500hr−’ 温 度 500℃ 担 体 担体A−Zr:Ti=7:3(モル比)担体
B HTi:5i=7 : 3(モル比)担体C; ム
ライト質 担体D・ コープイライト質 担体E; ゼオライト 実施例4 触媒担体としてハニカム成形体を用い、下記の条件下で
排ガスの分解テストを行ったところ、第3表に示す結果
が得られた。
2500hr−’ 温 度 500℃ 担 体 担体A−Zr:Ti=7:3(モル比)担体
B HTi:5i=7 : 3(モル比)担体C; ム
ライト質 担体D・ コープイライト質 担体E; ゼオライト 実施例4 触媒担体としてハニカム成形体を用い、下記の条件下で
排ガスの分解テストを行ったところ、第3表に示す結果
が得られた。
第3表に示されるとおり、貫通孔の相当直径が30a+
m以下で、かつ開孔率が50%以上のハニカム成形体を
触媒担体として使用すれば、低い圧力損失のもとて良好
な分解率を得ることができることが!!認できた。
m以下で、かつ開孔率が50%以上のハニカム成形体を
触媒担体として使用すれば、低い圧力損失のもとて良好
な分解率を得ることができることが!!認できた。
(条件)
ガス組成 R113500ppm 残部空気空間速度
2500hr−’ 温 度 500 ’C 第3表 (発明の効果) 本発明は以上の説明によって明らかなように、高温およ
び高圧という条件を不要として通常の物質の焼却条件付
近において経済的にしかも高い分解効率でフロンの分解
処理を行うことができるもので、エネルギーコストを低
くすることができるうえ高価な装置が不要であるという
利点がある。
2500hr−’ 温 度 500 ’C 第3表 (発明の効果) 本発明は以上の説明によって明らかなように、高温およ
び高圧という条件を不要として通常の物質の焼却条件付
近において経済的にしかも高い分解効率でフロンの分解
処理を行うことができるもので、エネルギーコストを低
くすることができるうえ高価な装置が不要であるという
利点がある。
よって本発明は従来の問題点を解決したフロンの分解処
理方法として、産業の発展に寄与するところは極めて大
きいものである。
理方法として、産業の発展に寄与するところは極めて大
きいものである。
第1図は本発明の詳細な説明するフローシート、第2図
は種々の空間速度における温度とフロンの分解率を示す
グラフ、第3図は種々の触媒の使用時間と分解率との関
係を示すグラフである。 第 図 呻丸?:1木0ンア 第 図 A亀メ((゛こ) 第 図 負聞渭(?lr) 手続補正書(自発) 平底2年10月 日 平底1年特許願第1760 12号 2、発明の名称 フロンの分解処理方法 3、補正をする者 事件との関係
は種々の空間速度における温度とフロンの分解率を示す
グラフ、第3図は種々の触媒の使用時間と分解率との関
係を示すグラフである。 第 図 呻丸?:1木0ンア 第 図 A亀メ((゛こ) 第 図 負聞渭(?lr) 手続補正書(自発) 平底2年10月 日 平底1年特許願第1760 12号 2、発明の名称 フロンの分解処理方法 3、補正をする者 事件との関係
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、フロン系物質を含むガスを温度200℃以上、空間
速度50000(H^−^1)以下の条件下で触媒に接
触させて分解処理することを特徴とするフロンの分解処
理方法。 2、Pt、Rh、Pd、Ru、Mn、Cu、Cr、Fe
又はその酸化物中から選択された触媒を使用する請求項
1記載のフロンの分解処理方法。 3、Zr、Ti、Al、W、Siから選択された1種の
金属の単独金属系酸化物又は2種以上の金属の複合多元
系酸化物からなるA成分と、Pt、Rh、Pd、Ru、
Mn、Cu、Cr、Fe又はその酸化物中から選択され
たB成分とからなる触媒を使用する請求項1記載のフロ
ンの分解処理方法。 4、触媒担体として、貫通孔の相当直径が30mm以下
、開孔率が50%以上であるハニカム型一体構造物を使
用する請求項1、2、3記載のフロンの分解処理方法。
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