JPH0342512B2 - - Google Patents

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JPH0342512B2
JPH0342512B2 JP59109486A JP10948684A JPH0342512B2 JP H0342512 B2 JPH0342512 B2 JP H0342512B2 JP 59109486 A JP59109486 A JP 59109486A JP 10948684 A JP10948684 A JP 10948684A JP H0342512 B2 JPH0342512 B2 JP H0342512B2
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liquid
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bottom plate
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JP59109486A
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JPS60254641A (ja
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W40/00Arrangements for thermal protection or thermal control
    • H10W40/70Fillings or auxiliary members in containers or in encapsulations for thermal protection or control
    • H10W40/73Fillings or auxiliary members in containers or in encapsulations for thermal protection or control for cooling by change of state
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/851Dispositions of multiple connectors or interconnections
    • H10W72/874On different surfaces
    • H10W72/884Die-attach connectors and bond wires

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  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、IC、LSIなどの半導体チツプのパツ
ケージに関するものである。
IC、LSIチツプはますます高集積化と高密度化
が図られており、そのために使用時でのチツプの
発熱が大きくなり冷却を考慮しなくてはいけな
い。
従来の技術 半導体チツプを収容するパツケージとしてメタ
ルタイプ、セラミツクタイプ、サーデイプタイプ
あるいはプラスチツクタイプのパツケージが広く
使用されている(日本マイクロエレクトロニクス
協会編:「IC化実装技術」第137頁、図6.3、1980
年、(株)工業調査会、参照)。しかしながら、メタ
ルタイプ、セラミツクタイプおよびサーデイプタ
イプのパツケージでは半導体チツプがセラミツク
基体上に搭載されており、また、プラスチツクタ
イプのパツケージでは半導体チツプがプラスチツ
ク(合成樹脂)に被包されているために、これか
ら材料の熱伝導体の低さ(高い内部熱抵抗)によ
つて放熱効果は低い。
そこで、半導体チツプの放熱を主に考慮するな
らば、複数の半導体チツプをそのまま直接に回路
基板に取付け、これらチツプがフルオロカーボ
ン、フレオン(商品名)などの低沸点の冷却媒体
中に浸漬されるならば冷却効果は非常に高い(例
えば、特開昭48−17275号公報参照)。しかしなが
ら、この場合には、半導体チツプの取扱い(すな
わちパツケージなしの半導体チツプを回路基板上
に実装し、冷却媒体中に浸漬するまでの過程)
は、半導体チツプの機械的強度が低く、また、著
しくチツプの汚染をきらうために難しい。
発明が解決しようとする問題点 発熱する半導体チツプを収容したパツケージの
内部熱抵抗を下げる(すなわち、パツケージ材料
の熱伝導率を高める)ことおよび冷却効果の高い
沸騰冷却を採用することによつてパツケージの放
熱効率(すなわち、冷却効率)を高めるのが、本
発明が解決しようとする問題点である。
問題点を解決するための手段 上述の問題点が、半導体素子パツケージの金属
底板上に半導体素子チツプがろう付けされてお
り、かつ該半導体素子パツケージジの内部にフル
オロカーボンまたはハロフルオロカーボンの冷却
媒体液が封入されている液体封入型パツケージに
おいて、前記液体封入型パツケージはセラミツク
枠と、金属底板と、金属蓋とからなり、前記セラ
ミツク枠はその底面に前記金属板がそしてその上
面に前記金属蓋がろう付けされ、かつ該セラミツ
ク枠はその外側側面にリードが設けられかつその
内部に内側でワイヤボンデイング部となる配線層
を有し、前記半導体素子チツプは該ワイヤボンデ
イング部とワイヤボンデイングされ、および前記
金属底板および金属蓋がモリブデン、タングステ
ンまたはFe・Ni・Co系低熱膨張合金で作られて
いることを特徴とする液体封入型パツケージを提
供することによつて解決される。
作 用 発熱する半導体チツプをパツケージの金属底板
にろう付けしているので、金属は熱抵抗が小さく
かつ熱伝導率が高いためにこの金属底板へ容易に
熱が伝わる。また、半導体チツプの熱は沸騰冷却
媒体液にも放熱され、媒体液に伝えられた熱は自
然対流および沸騰熱伝達により金属蓋へ伝わる。
このパツケージ内での沸騰冷却により半導体チツ
プは沸点よりも大きく温度が上昇することのない
ように冷却される。そして、金属底板および金属
蓋が空冷されるかあるいは別の化学沸騰冷却媒体
液中に浸漬されて沸騰冷却されるので、パツケー
ジの冷却効率が良い。
実施例 以下、添付図面を参照して本発明の実施例をよ
り詳しく説明する。
第1図に本発明に係る液体封入型パツケージの
概略断面を示す。
本発明に係るパツケージ1は、セラミツク枠2
と、金属底板3と、金属蓋4とからなり、金属底
板3はろう材5によつてそして金属蓋4はろう材
6によつてセラミツク枠2のメタライズ層にろう
付けされている。半導体チツプ7が金属底板3に
ろう材8によつて取付けられており、そして、パ
ツケージ1の内部空間に半導体チツプ7を浸漬す
ることになる低沸点冷却媒体液9が封入されてい
る。
本発明に係る液体封入型パツケージが次のよう
にして組立てられる。
まず、金属底板3および金属蓋4を半導体チツ
プ7のシリコンおよびセラミツク枠2の熱膨張率
に近い熱膨張率であるモリブデン、タングステ
ン、Fe・Ni・Co系低熱膨張合金などで用意す
る。金属底板3をセラミツク枠2のメタライズ層
にろう材5(例えば、Au−Snはんだ又はPb−Sn
はんだ)によつてろう付けする。次に、金属底板
3上にIC、LSIなどの半導体チツプ7をAu−Sn
はんだなどのろう材8でダイボンデイングする。
このチツプ7とセラミツク枠2での配線層とをワ
イヤボンデイングによるワイヤ10で接続する。
この配線層はセラミツク枠2の外側に取付けられ
ているリード11につながつている。
次に、低沸点冷却媒体液9であるフルオロカー
ボン(C6F14、C7F16、C8F18など)あるいはハロ
フルオロカーボン、六塩化エタン(フレオン−
113:商品名)などをパツケージ1の内部に入れ
ている。この冷媒液9はその沸点が50℃以下であ
るのが好ましく、沸点が低いほど冷却効果も大き
いが、パツケージ内部圧力が上昇することになる
ので、沸点は30ないし60℃であるのが望ましい。
また、封入する冷媒液9の量は、半導体チツプ7
を完全に浸漬しかつ金属蓋4をしたときにパツケ
ージ内部空間の10ないし20体積%の空間12が残
る量即ち、80〜90体積%である。この空間12が
全くないと、冷媒液9の熱膨張によつてパツケー
ジ1の気密封止を破壊する損傷が発生する可能性
がある。
次に、セラミツク枠2のメタライズ層に金属蓋
4をろう材5と同じろう材6によつてろう付けし
て気密封止する。そして、セラミツク枠2のリー
ド11を所定の回路基板(図示せず)に取付け
る。
このようにし得られたパツケージ1(第1図)
の半導体装置を作動させると、半導体チツプ7が
発熱し、その熱がろう材8を通して金属底板3
へ、同時に沸騰冷却媒体液9へ伝達される。ま
ず、この冷媒液9によつてチツプ7は冷却され、
冷媒液9がその沸点近くの温度になると、チツプ
7が沸点以上になつたときに気泡13が発生して
気化熱により冷媒液9が沸点より高くなることは
なく、したがつてチツプ7も沸点までに冷却(沸
騰冷却)される。そして、気泡13の蒸気が空間
12内で金属蓋4に熱を伝えると凝縮して液体と
なり滴下する。金属底板3および金属蓋4は空冷
方式、液冷方式、沸騰冷却方式などの公知の冷却
方法によつて冷却され、これらは金属で熱伝導率
が高いので放熱効率が良い。
発明の効果 上述したように本発明に係る液体封入型パツケ
ージは、半導体チツプからの熱をろう材および金
属底板を通して放熱しかつパツケージ内での沸騰
冷却によつても除去するのでパツケージとしての
冷却効率は高い。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る液体封入型パツケージの
概略断面図である。 1……パツケージ、2……セラミツク枠、3…
…金属底板、4……金属蓋、5,6,8……ろう
材、7……半導体チツプ、9……低沸点冷却媒体
液、12……空間、13……気泡。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 半導体素子パツケージの金属底板上に半導体
    素子チツプがろう付けされており、かつ該半導体
    素子パツケージの内部にフルオロカーボンまたは
    ハロフルオロカーボンの冷媒液が封入されている
    液体封入型パツケージにおいて、前記液体封入型
    パツケージ1はセラミツク枠2と、金属底板3
    と、金属蓋4とからなり、前記セラミツク枠2は
    その底面に前記金属板3がそしてその上面に前記
    金属蓋4がろう付けされ、かつ該セラミツク枠2
    はその外側側面にリード11が設けられかつその
    内部に内側でワイヤボンデイング部となる配線層
    を有し、前記半導体素子チツプ7は該ワイヤボン
    デイング部とワイヤ10で接続され、および前記
    金属底板3および金属蓋4がモリブデン、タング
    ステンまたはFe・Ni・Co系低熱膨張合金で作ら
    れていることを特徴とする液体封入型パツケー
    ジ。 2 封入する前記冷媒液9が前記液体封入型パツ
    ケージ1の内部空間の90〜80体積%を占めている
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の液
    体封入型パツケージ。
JP59109486A 1984-05-31 1984-05-31 液体封入型パツケ−ジ Granted JPS60254641A (ja)

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JP59109486A JPS60254641A (ja) 1984-05-31 1984-05-31 液体封入型パツケ−ジ

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JPS60254641A JPS60254641A (ja) 1985-12-16
JPH0342512B2 true JPH0342512B2 (ja) 1991-06-27

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ID=14511462

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JP59109486A Granted JPS60254641A (ja) 1984-05-31 1984-05-31 液体封入型パツケ−ジ

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JPS60254641A (ja) 1985-12-16

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