JPH0342602A - 多色表示装置の製造方法 - Google Patents
多色表示装置の製造方法Info
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- JPH0342602A JPH0342602A JP1178818A JP17881889A JPH0342602A JP H0342602 A JPH0342602 A JP H0342602A JP 1178818 A JP1178818 A JP 1178818A JP 17881889 A JP17881889 A JP 17881889A JP H0342602 A JPH0342602 A JP H0342602A
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- light
- color filters
- display device
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、カラーフィルターを比、用した多色表示装置
の製造方法に関し、特にコントラスト−にするために光
のもれを防く遮光膜をカラーフィルター間隙部分に形成
した多色表示装置の製造方法に関する。
の製造方法に関し、特にコントラスト−にするために光
のもれを防く遮光膜をカラーフィルター間隙部分に形成
した多色表示装置の製造方法に関する。
本発明はカラーフィルター」−に感光＋’Ｆ． ＋Ａ料
を全面に塗布した後、カラーフィルターをフォトマスク
として４００ｎｍ以下の光でカラーフィルターの背面よ
り感光性材料を露光し、現像して、カラーフィルター間
隙のみに感光性材料を残存させ遮光膜とする事により、
非常に簡便な方法ながら精度良くカラーフィルター間隙
のみに遮光膜を形成できるものである。
を全面に塗布した後、カラーフィルターをフォトマスク
として４００ｎｍ以下の光でカラーフィルターの背面よ
り感光性材料を露光し、現像して、カラーフィルター間
隙のみに感光性材料を残存させ遮光膜とする事により、
非常に簡便な方法ながら精度良くカラーフィルター間隙
のみに遮光膜を形成できるものである。
近年、液晶表示装置シよりラーフィルターとのχ■め合
わせにより多色化が進んてきている。それに伴い、：フ
ントラストに代表される画質の向上も著しく、コントラ
スト比を一Ｉ−げるため乙こカラーフィルター間隙に遮
光膜を設ｉｌｌ、少しでも光のもれを防く技術が開発さ
れつつある。
わせにより多色化が進んてきている。それに伴い、：フ
ントラストに代表される画質の向上も著しく、コントラ
スト比を一Ｉ−げるため乙こカラーフィルター間隙に遮
光膜を設ｉｌｌ、少しでも光のもれを防く技術が開発さ
れつつある。
第５図に、カラーフィルターを用いた多色液晶表示装置
の一例を示す。第５図において５１はガラスより成る透
明基板、５２は透明導電膜より成る電極、５３はカラー
フィルターで電着法，染色法，印刷法等により形成され
る。５４はカラーフィルターの間隙部分のめに形成され
た遮光膜であり第６図に示す工程にて形成される。第６
図ｆａ）において６１は透明基板で６２は透明電極、６
３はカラーフィルターで電着性高分子と色素を含む溶液
から電着法により形成される。この基板全面に不ガレソ
ス）・にカーホン等の遮光性物質を混合した感光性材料
６４が全面塗布される。第６図（ｂ）においてフォトマ
スク６５をカラーフィルターパターンに一致させるよう
にアラインメントし、光６６により感光性材料を露光す
る。第６図（ｃｌにおいて感光性材料を現像し、カラー
フィルター間隙部分のみを残存させ遮光膜６７とする。
の一例を示す。第５図において５１はガラスより成る透
明基板、５２は透明導電膜より成る電極、５３はカラー
フィルターで電着法，染色法，印刷法等により形成され
る。５４はカラーフィルターの間隙部分のめに形成され
た遮光膜であり第６図に示す工程にて形成される。第６
図ｆａ）において６１は透明基板で６２は透明電極、６
３はカラーフィルターで電着性高分子と色素を含む溶液
から電着法により形成される。この基板全面に不ガレソ
ス）・にカーホン等の遮光性物質を混合した感光性材料
６４が全面塗布される。第６図（ｂ）においてフォトマ
スク６５をカラーフィルターパターンに一致させるよう
にアラインメントし、光６６により感光性材料を露光す
る。第６図（ｃｌにおいて感光性材料を現像し、カラー
フィルター間隙部分のみを残存させ遮光膜６７とする。
第５図に戻り多色１夜品表示装置の製造方法を説明する
と、このようにして形成された遮光膜５４を設けた基板
５１と透明電極５５を設けた基板５６を相幻向さセ液晶
５７を挾持する事によって多色液晶表示装置が構成され
る。このように構成された多色液晶表示装置はカラーフ
ィルター間隙からの光のもれがなく、コントラストが１
ｈ］」−するものである。
と、このようにして形成された遮光膜５４を設けた基板
５１と透明電極５５を設けた基板５６を相幻向さセ液晶
５７を挾持する事によって多色液晶表示装置が構成され
る。このように構成された多色液晶表示装置はカラーフ
ィルター間隙からの光のもれがなく、コントラストが１
ｈ］」−するものである。
第５図および第６図にて説明した多色液晶表示装置の製
造方法においては、カラーフィルター間隙に遮光膜を形
成する際、カラーフィルターのパターンと同しパターン
を有する高い精度のフォＩ・マスクを必要とする。フォ
トマスクはカラーフィルターパターンが高精細になるに
つれ、欠陥なく作るのが勃しく、それだけ高価なものと
なる。また露光の際もカラーフィルターとフォトマスク
のアラインメントが必要であり、パターンが桔細になれ
ばなるほど技術的に困難となり、装置」二も］−捏上も
複雑になり不良となる確率も高い。
造方法においては、カラーフィルター間隙に遮光膜を形
成する際、カラーフィルターのパターンと同しパターン
を有する高い精度のフォＩ・マスクを必要とする。フォ
トマスクはカラーフィルターパターンが高精細になるに
つれ、欠陥なく作るのが勃しく、それだけ高価なものと
なる。また露光の際もカラーフィルターとフォトマスク
のアラインメントが必要であり、パターンが桔細になれ
ばなるほど技術的に困難となり、装置」二も］−捏上も
複雑になり不良となる確率も高い。
そこで、本発明は簡便な工程でカラーフィルター間隙の
みに精度良く遮光膜を形成する事を目的とし、カラーフ
ィルレター自イ本をフォトマスクとして、遮光膜をセル
フアラインメントでバターニングする手段として、カラ
ーフィルターに感光性材料を全面塗布し、カラーフィル
ター背面より４００ｎｍ以下の光で感光性材料を露光す
る事により、カラーフィルター間隙部分の感光性材料の
みが感光され、現像する事により、精度良くカラーフィ
ルター間隙のみに遮光膜が形成されるものである。
みに精度良く遮光膜を形成する事を目的とし、カラーフ
ィルレター自イ本をフォトマスクとして、遮光膜をセル
フアラインメントでバターニングする手段として、カラ
ーフィルターに感光性材料を全面塗布し、カラーフィル
ター背面より４００ｎｍ以下の光で感光性材料を露光す
る事により、カラーフィルター間隙部分の感光性材料の
みが感光され、現像する事により、精度良くカラーフィ
ルター間隙のみに遮光膜が形成されるものである。
現在、多色表示装置用のカラーフィルターとしては加法
混色における３原色、つまり赤，緑，青を使用する事が
多く、その分光特性は第４図に示すように４００ｎｍ以
下では透過率はほぼ０となっている。すなわら４００ｎ
ｍ以下の光に対してはフォトマスクとして用いる事がで
き、セルフアラインメントが可能である事を示している
。しかし、−船釣にレジストの露光に用いる光源は４０
０ｎｍ以下の光のみを発生ずるものは少ない。光源とし
ては水銀ランプもしくはメタルハライドランプ等が一般
的であるが、例えば高圧水銀ランプの発光スペクトルは
第４図中に示したようにｇ線（４３５ｎｍ） 、ｈｖＡ
（４０５ｎｍ） 、ｉ線（３６５ｎｍ）の３種が主なも
のであり、種類によって多少の強弱や広がりを持つ、メ
タルハライドランプの場合は明確な線スペクトルではな
くブロードな広がりを持ったものが多い。もし、光源と
して４００ｎｍ以下であるｉ線（３６５ｎｍ）のみで４
００ｎｍ以上の光がほとんど発生しない光源が存在すれ
ば、その光源を用いる事で本発明の目的ば遠戚される。
混色における３原色、つまり赤，緑，青を使用する事が
多く、その分光特性は第４図に示すように４００ｎｍ以
下では透過率はほぼ０となっている。すなわら４００ｎ
ｍ以下の光に対してはフォトマスクとして用いる事がで
き、セルフアラインメントが可能である事を示している
。しかし、−船釣にレジストの露光に用いる光源は４０
０ｎｍ以下の光のみを発生ずるものは少ない。光源とし
ては水銀ランプもしくはメタルハライドランプ等が一般
的であるが、例えば高圧水銀ランプの発光スペクトルは
第４図中に示したようにｇ線（４３５ｎｍ） 、ｈｖＡ
（４０５ｎｍ） 、ｉ線（３６５ｎｍ）の３種が主なも
のであり、種類によって多少の強弱や広がりを持つ、メ
タルハライドランプの場合は明確な線スペクトルではな
くブロードな広がりを持ったものが多い。もし、光源と
して４００ｎｍ以下であるｉ線（３６５ｎｍ）のみで４
００ｎｍ以上の光がほとんど発生しない光源が存在すれ
ば、その光源を用いる事で本発明の目的ば遠戚される。
しかし、現実の光源でカラーフィルターをフ第１・マス
クとしてレジストを露光するとｇ線（４３５ｎｍ）、ｈ
線（４０５ｎｍ）も発生ずるため、特に青のフィルター
は４５０ｎｍ付近を透過するので光のもれが生し、本来
、露光したくないカラーフィルター上の感光性飼料が露
光されてしまい、現像によりカラーフィルター上にも遮
光膜が形成されてしまう。
クとしてレジストを露光するとｇ線（４３５ｎｍ）、ｈ
線（４０５ｎｍ）も発生ずるため、特に青のフィルター
は４５０ｎｍ付近を透過するので光のもれが生し、本来
、露光したくないカラーフィルター上の感光性飼料が露
光されてしまい、現像によりカラーフィルター上にも遮
光膜が形成されてしまう。
そこで、本発明者らは従来の光源に第４図中に示した分
光特性を持つ４００ｎｍ以上の光を遮断する紫外線透過
光学フィルターを付加し、この光学フィルターを通った
光でカラーフィルターをフォトマスクとしてセルフアラ
インメントで露光する事により、カラーフィルターを通
る光のもれを完全になくす事ができ、高い解像度を得ら
れる事を見出した。この方法によれば、ただ単に紫外線
透過光学フィルターを従来の露光用光源に付加するだけ
で、非常に簡便にカラーフィルター間隙のみに精度良く
遮光膜を形成する事ができ、実用上極めて有用なもので
ある。
光特性を持つ４００ｎｍ以上の光を遮断する紫外線透過
光学フィルターを付加し、この光学フィルターを通った
光でカラーフィルターをフォトマスクとしてセルフアラ
インメントで露光する事により、カラーフィルターを通
る光のもれを完全になくす事ができ、高い解像度を得ら
れる事を見出した。この方法によれば、ただ単に紫外線
透過光学フィルターを従来の露光用光源に付加するだけ
で、非常に簡便にカラーフィルター間隙のみに精度良く
遮光膜を形成する事ができ、実用上極めて有用なもので
ある。
なお、カラーフィルター間隙に残存した感光性材料に遮
光性を持たせる方法としてはネガ型フォトレジストにカ
ーボン等の遮光性物質を混合したものを感光性材料とし
て塗布する方法や、ネガ型可染性レジストを塗布、露光
、現像した後、黒色染料で染色して遮光性を持たせる方
法等があるが本発明では特に限定されるものではない。
光性を持たせる方法としてはネガ型フォトレジストにカ
ーボン等の遮光性物質を混合したものを感光性材料とし
て塗布する方法や、ネガ型可染性レジストを塗布、露光
、現像した後、黒色染料で染色して遮光性を持たせる方
法等があるが本発明では特に限定されるものではない。
以下、実施例と比較例を用いて本発明を具体的に説明す
る。
る。
〔実施例１〕
第１図に本発明による多色液晶表示装置の実施例の断面
図を示す。１１はガラスより成る基板、ｊ２はＩＴＯか
ら成る透明電極、１３ばカラーフィルターで電着性高分
子と色素を含む溶液中で透明電極１２に電圧を印加し、
電着さセて形成する。１４はカラーフィルター間隙に形
成させた遮光膜で第２図に示す工程にて作製する。第２
図（ａ）において２１はガラス基板で上にＩＴＯｉ３明
電極２２とカラーフィルター２３が形成されている。そ
の上にカーボンをネガレジストに混合させた感光性材料
２４が全面塗布される。第２図（ｂ）において、基板背
面から高圧水銀ランプを光源とし、紫外線透過光学フィ
ルター２５を介して光２６でカラーフィルターをフォト
マスクとして感光性材料を露光させる。この際、紫外線
透過光学フィルターは薄膜干渉タイプでもガラス中に可
視光吸収物質を混合したタイプでもどららでも良い。第
２図ＦＣ）において感光性材料を現像し、カラーフィル
ター間隙部分のみ残存させ遮光膜２７を形成する。この
工程の中には精密なフォトマスクも正確なアラインメン
トも不用であり、簡便ながら不良率を大幅に改善できた
。以下、第１図に戻り説明を続けると、このようにして
形成された遮光膜１４を持つ基板１１と透明電極１５を
形成した基板１６を相対向させ液晶１７を挟持して多色
液晶表示装置を作製した。この多色液晶表示装置は簡便
な方法で作られたにもかかわらず、欠陥による不良もな
く、光のもれが抑えられたコントラストの高いものであ
った。
図を示す。１１はガラスより成る基板、ｊ２はＩＴＯか
ら成る透明電極、１３ばカラーフィルターで電着性高分
子と色素を含む溶液中で透明電極１２に電圧を印加し、
電着さセて形成する。１４はカラーフィルター間隙に形
成させた遮光膜で第２図に示す工程にて作製する。第２
図（ａ）において２１はガラス基板で上にＩＴＯｉ３明
電極２２とカラーフィルター２３が形成されている。そ
の上にカーボンをネガレジストに混合させた感光性材料
２４が全面塗布される。第２図（ｂ）において、基板背
面から高圧水銀ランプを光源とし、紫外線透過光学フィ
ルター２５を介して光２６でカラーフィルターをフォト
マスクとして感光性材料を露光させる。この際、紫外線
透過光学フィルターは薄膜干渉タイプでもガラス中に可
視光吸収物質を混合したタイプでもどららでも良い。第
２図ＦＣ）において感光性材料を現像し、カラーフィル
ター間隙部分のみ残存させ遮光膜２７を形成する。この
工程の中には精密なフォトマスクも正確なアラインメン
トも不用であり、簡便ながら不良率を大幅に改善できた
。以下、第１図に戻り説明を続けると、このようにして
形成された遮光膜１４を持つ基板１１と透明電極１５を
形成した基板１６を相対向させ液晶１７を挟持して多色
液晶表示装置を作製した。この多色液晶表示装置は簡便
な方法で作られたにもかかわらず、欠陥による不良もな
く、光のもれが抑えられたコントラストの高いものであ
った。
〔実施例２〕
実施例１の第１図における遮光膜１４を第３図に示す方
法で作製した。第３図（ａ）において３１はガラス基板
で上にＩＴＯＩ明電極３２とカラーフィルター３３が形
成されている。その上にゼラチン溶液に重クロム酸塩を
混合した可染性の感光性材料３４が全面塗布される。第
３図（ｂｌにおいて、基板背面からメタルハライドラン
プを光源とし、紫外線透過光学フィルター３５を介して
光３６でカラーフィルタをフォトマスクとして感光性）
ｒＡ Ｉ＋を緑光させる。
法で作製した。第３図（ａ）において３１はガラス基板
で上にＩＴＯＩ明電極３２とカラーフィルター３３が形
成されている。その上にゼラチン溶液に重クロム酸塩を
混合した可染性の感光性材料３４が全面塗布される。第
３図（ｂｌにおいて、基板背面からメタルハライドラン
プを光源とし、紫外線透過光学フィルター３５を介して
光３６でカラーフィルタをフォトマスクとして感光性）
ｒＡ Ｉ＋を緑光させる。
第３図ＦＣ）において感光性飼料を現像し、カラーフィ
ルター間隙部分のみ残在さセる。第３［ｑ（ｄｌにおい
て感光性月１′」を黒色酸性染！４水溶液乙こ浸潤して
黒色に染色して遮光膜３７とする。以下、実施例１と同
様に多色液晶表示装置を作製したところ、実施例１と同
様の効果が得られた。
ルター間隙部分のみ残在さセる。第３［ｑ（ｄｌにおい
て感光性月１′」を黒色酸性染！４水溶液乙こ浸潤して
黒色に染色して遮光膜３７とする。以下、実施例１と同
様に多色液晶表示装置を作製したところ、実施例１と同
様の効果が得られた。
〔実施例３〕
実施例１の第１図におけるカラーフィルター１３を感光
性ゼラチンをパターニングして染料により染色して形成
する染色法により作製した。以下、実施例１と同様に多
色液晶表示装置を作製したところ、実施例１と同様の効
果が得られた。
性ゼラチンをパターニングして染料により染色して形成
する染色法により作製した。以下、実施例１と同様に多
色液晶表示装置を作製したところ、実施例１と同様の効
果が得られた。
〔比較例１〕
実施例１の第２図における紫外線透過光学フィルター２
６なしで直接、光源の光をカラーフィルター背面から当
てて、カラーフィルター間隙のみに遮光膜を形成しよう
としたところ、青のフィルター」二は４００ｎｍ以上の
光がもれて感光性刊料が商光してしまい、カラーフィル
ター Ｌにも遮光膜が形成されてしまった。
６なしで直接、光源の光をカラーフィルター背面から当
てて、カラーフィルター間隙のみに遮光膜を形成しよう
としたところ、青のフィルター」二は４００ｎｍ以上の
光がもれて感光性刊料が商光してしまい、カラーフィル
ター Ｌにも遮光膜が形成されてしまった。
〔発明の効果］
以Ｌ、実施例と比較側番こて具体的に説明したように、
本発明による多色表示装置の製造方法は、従来のように
精密なフォトマスクや正確なアラインメンＩ・を必要と
せず、カラーフィルターをフォトマスクとしてセルフア
ラインメントで精度の高い遮光膜パターンをカラーフィ
ルター間隙のめに形成できる。また、必要とするのは４
００ｎｍ以下の光を作り出すための光学フィルターのみ
であるため従来の製造設備を複雑化させる事なく、非常
に簡便に、不良のない、光のもれが防がれた高コンＩ・
ラスＩ・の多色表示装置を大量に製造できるものである
。
本発明による多色表示装置の製造方法は、従来のように
精密なフォトマスクや正確なアラインメンＩ・を必要と
せず、カラーフィルターをフォトマスクとしてセルフア
ラインメントで精度の高い遮光膜パターンをカラーフィ
ルター間隙のめに形成できる。また、必要とするのは４
００ｎｍ以下の光を作り出すための光学フィルターのみ
であるため従来の製造設備を複雑化させる事なく、非常
に簡便に、不良のない、光のもれが防がれた高コンＩ・
ラスＩ・の多色表示装置を大量に製造できるものである
。
第１図は本発明による多色表示装置の断面図、第２図、
第３図は本発明の遮光膜製造工程を示す断面図、第４図
は各フィルターの分光特性と光源の輝度スペクトルを示
す図、第５図は従来の多色表示装置の断面図、第６図は
従来の遮光膜製造工程を示す断面図である。 １６、２］、、 ３１．５１．５６．６１・・・基板１
．５．２２．３２．５２．５５．６２ ・・透明電極
２３、３３．５３．６３・・・カラーフィルター２７、
３７．５４．６７・・・遮光膜 ５７・・・ン夜晶 ３４、６４・・・感光性材料 ３５・・・紫外線透過光学フィルタ ３６、６６・・・光 ツメＩ・マスク 以り
第３図は本発明の遮光膜製造工程を示す断面図、第４図
は各フィルターの分光特性と光源の輝度スペクトルを示
す図、第５図は従来の多色表示装置の断面図、第６図は
従来の遮光膜製造工程を示す断面図である。 １６、２］、、 ３１．５１．５６．６１・・・基板１
．５．２２．３２．５２．５５．６２ ・・透明電極
２３、３３．５３．６３・・・カラーフィルター２７、
３７．５４．６７・・・遮光膜 ５７・・・ン夜晶 ３４、６４・・・感光性材料 ３５・・・紫外線透過光学フィルタ ３６、６６・・・光 ツメＩ・マスク 以り
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ［１］カラーフィルターを用いた多色表示装置の製造方
法において、 （１）透明基板上に複数のカラーフィルターを形成する
工程 （２）該カラーフィルター上に感光性材料を全面塗布す
る工程 （３）該カラーフィルターをフォトマスクとして基板の
背面の光源より４００ｎｍ以下の光で該感光性材料を露
光する工程 （４）現像する事により該感光性材料をカラーフィルタ
ー間隙部分のみに残存させ、遮光膜とする工程 を含む事を特徴とする多色表示装置の製造方法。 ［２］前記感光性材料がネガ型フォトレジストに遮光性
物質を混合させたものである事を特徴とする請求項１記
載の多色表示装置の製造方法。 ［３］前記感光性材料がネガ型の可染性フォトレジスト
であり、カラーフィルター間隙部分のみに残存させた後
、黒色染料にて染色して遮光膜とする事を特徴とする請
求項１記載の多色表示装置の製造方法。 ［４］前記４００ｎｍ以下の光が光源に４００ｎｍ以上
の光を遮断し、４００ｎｍ以下の光を透過する光学フィ
ルターを付加する事によって作り出される事を特徴とす
る請求項１記載の多色表示装置の製造方法。 ［５］前記光源が水銀ランプもしくはメタルハライドラ
ンプである事を特徴とする請求項１記載の多色表示装置
の製造方法。 ［６］前記カラーフィルターが基板上に互いに絶縁され
て配置された複数の導電層を形成し、次にそれらの導電
層上に、電着性高分子と色素を分散された溶液より、電
着により選択的に形成される事を特徴とする請求項１記
載の多色表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1178818A JPH0342602A (ja) | 1989-07-10 | 1989-07-10 | 多色表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1178818A JPH0342602A (ja) | 1989-07-10 | 1989-07-10 | 多色表示装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0342602A true JPH0342602A (ja) | 1991-02-22 |
Family
ID=16055197
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1178818A Pending JPH0342602A (ja) | 1989-07-10 | 1989-07-10 | 多色表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0342602A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7631585B2 (en) | 2004-08-31 | 2009-12-15 | Makita Corporation | Kickback-inhibiting devices for cutting devices |
| US7698978B2 (en) | 2005-09-15 | 2010-04-20 | Makita Corporation | Cutting devices |
| JP2016540900A (ja) * | 2013-11-18 | 2016-12-28 | オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＯｓｒａｍ Ｏｐｔｏ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒｓ ＧｍｂＨ | 多機能層の製造方法、電気泳動基板、電気泳動基板の使用、変換プレートおよびオプトエレクトロニクス装置 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS629301A (ja) * | 1985-07-05 | 1987-01-17 | Kyodo Printing Co Ltd | カラ−フイルタの製造方法 |
| JPS6214103A (ja) * | 1985-07-11 | 1987-01-22 | Seikosha Co Ltd | カラ−フイルタの製造方法 |
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| JPH01145626A (ja) * | 1987-12-01 | 1989-06-07 | Seiko Instr & Electron Ltd | 多色表示装置及びその製造方法 |
-
1989
- 1989-07-10 JP JP1178818A patent/JPH0342602A/ja active Pending
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