JPS62253124A - カラ−フイルタの形成方法 - Google Patents
カラ−フイルタの形成方法Info
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- JPS62253124A JPS62253124A JP61097423A JP9742386A JPS62253124A JP S62253124 A JPS62253124 A JP S62253124A JP 61097423 A JP61097423 A JP 61097423A JP 9742386 A JP9742386 A JP 9742386A JP S62253124 A JPS62253124 A JP S62253124A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、カラー液晶表示装置における透明基板の透
明電極の上に設けるカラーフィルタの形成方法に関する
。
明電極の上に設けるカラーフィルタの形成方法に関する
。
一般に液晶表示装置は、走査電極透明基板と信号電極透
明基板とを液晶を挟んで対向配置し、上記両透明基板の
任意の部分の電極間に電圧を印加してその部分の液晶分
子の配列を変化させ、この変化で光の透過を制御し、こ
の制御に基づいて画像等を表示するものである。そして
カラー液晶表示装置においては、光の三原色である赤、
緑、青の三種のカラーフィルタを順次交互に信号電極透
明基板における透明電極の上にそれぞれ形成し、これら
カラーフィルタを通してカラー表示を行なうようになっ
ている。また、透明電極の相互間には、非電極部分から
の光の漏れを抑制し、画像の表示コントラストを向上さ
せるためにブラックストライプとしての遮光膜が形成さ
れている。
明基板とを液晶を挟んで対向配置し、上記両透明基板の
任意の部分の電極間に電圧を印加してその部分の液晶分
子の配列を変化させ、この変化で光の透過を制御し、こ
の制御に基づいて画像等を表示するものである。そして
カラー液晶表示装置においては、光の三原色である赤、
緑、青の三種のカラーフィルタを順次交互に信号電極透
明基板における透明電極の上にそれぞれ形成し、これら
カラーフィルタを通してカラー表示を行なうようになっ
ている。また、透明電極の相互間には、非電極部分から
の光の漏れを抑制し、画像の表示コントラストを向上さ
せるためにブラックストライプとしての遮光膜が形成さ
れている。
カラーフィルタを形成する従来の工程を第４図に示し、
図中１がガラス製の透明基板で、この透明基板１の上に
並列して複数の透明電極２を形成し、さらにこれら透明
電極２の相互間にブラックストライプを構成する遮光膜
３を形成する（■程ａ）。つぎに、これら透明電極２お
よび遮光膜３を覆うように透明基板１の上に一様に染色
性を有するネガタイプのホトレジスト４を塗布する（工
程ｂ）。そして、透明基板１の上方側に露光マスク５を
対向配置し、この露光マスク５の透光窓５ａを通してホ
トレジスト４の所要部分、すなわち第一色目（赤色）の
カラーフィルタを施すべき透明電極２に対応する部分に
紫外線を照射して露光し、光重合により硬化させる（工
程ｂ）。こののち、ホトレジスト４の非露光部を水、有
機溶剤などで洗い流して、露光部を現像し、カラーフィ
ルタの基質６を形成する（工程Ｃ）。そして基質６を所
定の色特性を有する染色液で染色して赤色のカラーフィ
ルタ６Ｒを形成する（■程ｄ）。
図中１がガラス製の透明基板で、この透明基板１の上に
並列して複数の透明電極２を形成し、さらにこれら透明
電極２の相互間にブラックストライプを構成する遮光膜
３を形成する（■程ａ）。つぎに、これら透明電極２お
よび遮光膜３を覆うように透明基板１の上に一様に染色
性を有するネガタイプのホトレジスト４を塗布する（工
程ｂ）。そして、透明基板１の上方側に露光マスク５を
対向配置し、この露光マスク５の透光窓５ａを通してホ
トレジスト４の所要部分、すなわち第一色目（赤色）の
カラーフィルタを施すべき透明電極２に対応する部分に
紫外線を照射して露光し、光重合により硬化させる（工
程ｂ）。こののち、ホトレジスト４の非露光部を水、有
機溶剤などで洗い流して、露光部を現像し、カラーフィ
ルタの基質６を形成する（工程Ｃ）。そして基質６を所
定の色特性を有する染色液で染色して赤色のカラーフィ
ルタ６Ｒを形成する（■程ｄ）。
このようにして第一色目のカラーフィルタ６Ｒを形成し
た後に、上記ｂ−ｄの工程を再び繰返して、他の残りの
透明電極２の上に第二色目（緑色）および第三色目（青
色）のカラーフィルタをそれぞれ形成する。なお、カラ
ーフィルタを形成した際には、その都度、各色ごとのカ
ラーフィルタの上に防染処理を施して、他の色のカラー
フィルタの染色液が染着しないようにする。
た後に、上記ｂ−ｄの工程を再び繰返して、他の残りの
透明電極２の上に第二色目（緑色）および第三色目（青
色）のカラーフィルタをそれぞれ形成する。なお、カラ
ーフィルタを形成した際には、その都度、各色ごとのカ
ラーフィルタの上に防染処理を施して、他の色のカラー
フィルタの染色液が染着しないようにする。
ところが、このような従来のカラーフィルタの形成方法
においては、ホトレジスト４の所要部分を露光する際に
、透明基板１の上方に露光マスク５を配置してそれを行
なうため、露光マスク５の透光窓５ａの幅Ｓ１と透明電
極２の幅ｓ２との寸法を精度よく一致させ、かつその透
光窓５ａが透明電極２に確実に対向合致するように厳格
に位置合わせを行なわなくてはならず、このため作業管
理が相当面倒となり、作業能率の低下を招いてしまうと
いう難点があった。
においては、ホトレジスト４の所要部分を露光する際に
、透明基板１の上方に露光マスク５を配置してそれを行
なうため、露光マスク５の透光窓５ａの幅Ｓ１と透明電
極２の幅ｓ２との寸法を精度よく一致させ、かつその透
光窓５ａが透明電極２に確実に対向合致するように厳格
に位置合わせを行なわなくてはならず、このため作業管
理が相当面倒となり、作業能率の低下を招いてしまうと
いう難点があった。
この発明はこのような点に着目してなされたもので、そ
の目的とするところは、露光マスクの厳格な位置合わせ
を要することなく、容易に能率よく透明電極の上にカラ
ーフィルタを形成することができるようにしたカラーフ
ィルタの形成方法を提供することにある。
の目的とするところは、露光マスクの厳格な位置合わせ
を要することなく、容易に能率よく透明電極の上にカラ
ーフィルタを形成することができるようにしたカラーフ
ィルタの形成方法を提供することにある。
この発明はこのような目的を達成するために、透明基板
の上に並列して複数の透明電極を形成し、かつこれら透
明電極の相互間に遮光膜を形成し、これら透明電極およ
び遮光膜を覆うように透明基板の上に染色性を有するネ
ガタイプのホトレジストを塗布し、この状態で上記ホト
レジストの反対側において透明基板に対向して露光マス
クを配置し、この露光マスクの透光窓を通して所定の透
明電極に対応する部分のホトレジストを露光し、そして
非露光部のホトレジストを除去し、露光部のホトレジス
トを現像し、現像したホトレジストを染色してカラーフ
ィルタを形成するようにしたものである。
の上に並列して複数の透明電極を形成し、かつこれら透
明電極の相互間に遮光膜を形成し、これら透明電極およ
び遮光膜を覆うように透明基板の上に染色性を有するネ
ガタイプのホトレジストを塗布し、この状態で上記ホト
レジストの反対側において透明基板に対向して露光マス
クを配置し、この露光マスクの透光窓を通して所定の透
明電極に対応する部分のホトレジストを露光し、そして
非露光部のホトレジストを除去し、露光部のホトレジス
トを現像し、現像したホトレジストを染色してカラーフ
ィルタを形成するようにしたものである。
以下、この発明の一実施例について第１図を参照して説
明する。
明する。
図中１１がガラス製の透明基板で、この透明基板１１の
上に並列して複数の透明電極１２を形成し、さらにこれ
ら透明電極１２の相互間にブラックストライプを構成す
る遮光膜１３を形成する（工程ａ）。つぎに、これら透
明電極１２および遮光ｌ！１３を覆うように透明基板１
１の上に一様に染色性および感光性を有するグリユー、
ゼラチン、カゼインなどのネガタイプのホトレジスト１
４を塗布する（工程ｂ）。そして、ホトレジスト１４の
反対側、つまり透明基板１の下方側に露光マスク１５を
対向配置し、この露光マスク１５の透光窓１５ａを通し
て透明基板１１の下方側からホトレジスト１４の所要部
分、すなわち第一色目（赤色）のカラーフィルタを施す
べき透明電極１２に対応する部分に紫外線を照射して露
光し、光重合により硬化させる。こののち、従来と同様
に、非露光部のホトレジスト１４を水、有機溶剤などで
洗い流して、露光部のホトレジスト１４を現像し、カラ
ーフィルタの基質１６を形成しく工程Ｃ）、この基質６
を所定の色特性を有す払染色液で染色して赤色のカラー
フィルタ６Ｒを形成する（■程ｄ）。
上に並列して複数の透明電極１２を形成し、さらにこれ
ら透明電極１２の相互間にブラックストライプを構成す
る遮光膜１３を形成する（工程ａ）。つぎに、これら透
明電極１２および遮光ｌ！１３を覆うように透明基板１
１の上に一様に染色性および感光性を有するグリユー、
ゼラチン、カゼインなどのネガタイプのホトレジスト１
４を塗布する（工程ｂ）。そして、ホトレジスト１４の
反対側、つまり透明基板１の下方側に露光マスク１５を
対向配置し、この露光マスク１５の透光窓１５ａを通し
て透明基板１１の下方側からホトレジスト１４の所要部
分、すなわち第一色目（赤色）のカラーフィルタを施す
べき透明電極１２に対応する部分に紫外線を照射して露
光し、光重合により硬化させる。こののち、従来と同様
に、非露光部のホトレジスト１４を水、有機溶剤などで
洗い流して、露光部のホトレジスト１４を現像し、カラ
ーフィルタの基質１６を形成しく工程Ｃ）、この基質６
を所定の色特性を有す払染色液で染色して赤色のカラー
フィルタ６Ｒを形成する（■程ｄ）。
このようにして第一色目のカラーフィルり１６Ｒを形成
したのちに、上記ｂ−ｄの工程を再び繰返して、他の残
りの透明電極２の上に第二色目（緑色）および第三色目
（青色）のカラーフィルタ１６Ｇ、１６Ｂをそれぞれ形
成する（工程ｅ）。なお、カラーフィルタ１６Ｒ，１６
Ｇ。
したのちに、上記ｂ−ｄの工程を再び繰返して、他の残
りの透明電極２の上に第二色目（緑色）および第三色目
（青色）のカラーフィルタ１６Ｇ、１６Ｂをそれぞれ形
成する（工程ｅ）。なお、カラーフィルタ１６Ｒ，１６
Ｇ。
１６Ｂを形成した際には、その都度、各色ごとのカラー
フィルタ１６Ｒ，１６Ｇ、１６Ｂの上に防染処理を施し
て、他の色のカラーフィルタ１６Ｒ１１６Ｇ、１６Ｂの
染色液が染着しないようにする。
フィルタ１６Ｒ，１６Ｇ、１６Ｂの上に防染処理を施し
て、他の色のカラーフィルタ１６Ｒ１１６Ｇ、１６Ｂの
染色液が染着しないようにする。
このように、透明基板１１の下方側に露光マスク１５を
配置し、この露光マスク１５の透光窓１５ａから透明基
板１１を通してホトレジスト１４の所要部分に紫外線を
照射して露光を行なうものであり、したがって透光窓１
５ａの幅３１が透明電極１２の幅Ｓ２よりも多少大きく
、また露光マスク１５が透明電極１２の幅方向に多少ず
れていても、透光窓１５ａを透過した紫外線の一部が、
透明電極１２の両側に配置する遮光膜１３により的確に
規制され、この規制により透明電極１２と対向する部分
のホトレジスト１４にのみに光が照射し、適正な露光が
行なわれる。そして、このように透光窓１５ａの幅の寸
法精度、および露光マスク１５に位置合わせの精度がラ
フでよく、このため作業管理が容易となり、作業能率の
向上を図ることができる。
配置し、この露光マスク１５の透光窓１５ａから透明基
板１１を通してホトレジスト１４の所要部分に紫外線を
照射して露光を行なうものであり、したがって透光窓１
５ａの幅３１が透明電極１２の幅Ｓ２よりも多少大きく
、また露光マスク１５が透明電極１２の幅方向に多少ず
れていても、透光窓１５ａを透過した紫外線の一部が、
透明電極１２の両側に配置する遮光膜１３により的確に
規制され、この規制により透明電極１２と対向する部分
のホトレジスト１４にのみに光が照射し、適正な露光が
行なわれる。そして、このように透光窓１５ａの幅の寸
法精度、および露光マスク１５に位置合わせの精度がラ
フでよく、このため作業管理が容易となり、作業能率の
向上を図ることができる。
透明電極１２の相互間にブラックストライプとしての遮
光膜１３を形成する手段としては、染色法やりフトホ７
法があり、まず第２図に染色法による工程を示し、これ
について説明を加える。
光膜１３を形成する手段としては、染色法やりフトホ７
法があり、まず第２図に染色法による工程を示し、これ
について説明を加える。
透明基板１１の上に酸化インジュウムなどの透明導電膜
２１を、ざらにこの透明導電膜２１の上にクロム膜２２
をそれぞれ形成する（工程ａ）。
２１を、ざらにこの透明導電膜２１の上にクロム膜２２
をそれぞれ形成する（工程ａ）。
そして、クロム膜２２の上にポジタイプのホトレジスト
２３を一様に塗布し、この状態で透明基板１１の上方側
に露光マスク２４を配置し、この露光マスク２４の透光
窓２４ａを通して不要部分のホトレジスト２３を露光す
る（工程ａ）。つぎに、ホトレジスト２３の露光部を水
、有機溶剤などで洗い流して除去し、非露光部を現像し
、不要部分のクロム膜２２を露出させ、さらにその露出
させたクロム膜２２およびその下層の透明導電膜２１を
エツチングにより除去し、透明基板１１の上にストライ
プ状に残った透明導電膜２１により互いに離間して並列
する複数の透明電極１２を構成する（工程ｂ）。
２３を一様に塗布し、この状態で透明基板１１の上方側
に露光マスク２４を配置し、この露光マスク２４の透光
窓２４ａを通して不要部分のホトレジスト２３を露光す
る（工程ａ）。つぎに、ホトレジスト２３の露光部を水
、有機溶剤などで洗い流して除去し、非露光部を現像し
、不要部分のクロム膜２２を露出させ、さらにその露出
させたクロム膜２２およびその下層の透明導電膜２１を
エツチングにより除去し、透明基板１１の上にストライ
プ状に残った透明導電膜２１により互いに離間して並列
する複数の透明電極１２を構成する（工程ｂ）。
こののち、各透明電極１２の上のホトレジスト２３を除
去する（工程Ｃ）。そして、透明基板１１の上に染色性
を有するネガタイプのホトレジスト２５を一様に塗布し
く工程ｄ）、この状態で透明基板１１の下方から紫外線
を照射し、所要部分つまり透明電極１２の相互間部分の
ホトレジスト２５を露光する。そして、ホトレジスト２
５の非露光部を水、有機溶剤などで洗い流して除去し、
透明電極１２の相互間に残った露光部のホトレジスト２
５を現像して遮光膜の基質１３ａを形成する（工程ｅ）
。このようにして基質１３ａを形成したのちに、この基
質１３ａを黒色染料或いは複数種の染料で染色して遮光
膜１３（ブラックストライプ）を形成する。そして最後
に、各透明電極１２の上のクロム！Ｉ！ｍ２２をエツチ
ングにより除去して透明電極１２を露出させる（工程ｆ
）。
去する（工程Ｃ）。そして、透明基板１１の上に染色性
を有するネガタイプのホトレジスト２５を一様に塗布し
く工程ｄ）、この状態で透明基板１１の下方から紫外線
を照射し、所要部分つまり透明電極１２の相互間部分の
ホトレジスト２５を露光する。そして、ホトレジスト２
５の非露光部を水、有機溶剤などで洗い流して除去し、
透明電極１２の相互間に残った露光部のホトレジスト２
５を現像して遮光膜の基質１３ａを形成する（工程ｅ）
。このようにして基質１３ａを形成したのちに、この基
質１３ａを黒色染料或いは複数種の染料で染色して遮光
膜１３（ブラックストライプ）を形成する。そして最後
に、各透明電極１２の上のクロム！Ｉ！ｍ２２をエツチ
ングにより除去して透明電極１２を露出させる（工程ｆ
）。
第３図にリフトホラ法により遮光膜を形成する工程を示
し、これについて説明すると、透明基板１１の上に透明
導電膜２１を設け、この透明導電膜２１の上にポジタイ
プのホトレジスト２３を一様に塗布する。そして、透明
基板１１の上方側に露光マスク２４を配置し、この露光
マスク２４の透光窓２４ａを通して不要部分のホトレジ
スト２３を露光する〈工程ａ）。つぎに、その露光した
不要部分のホトレジスト２３およびその下層の透明導電
膜２１をそれぞれ除去して透明電極１２を構成する（工
程ｂ）。
し、これについて説明すると、透明基板１１の上に透明
導電膜２１を設け、この透明導電膜２１の上にポジタイ
プのホトレジスト２３を一様に塗布する。そして、透明
基板１１の上方側に露光マスク２４を配置し、この露光
マスク２４の透光窓２４ａを通して不要部分のホトレジ
スト２３を露光する〈工程ａ）。つぎに、その露光した
不要部分のホトレジスト２３およびその下層の透明導電
膜２１をそれぞれ除去して透明電極１２を構成する（工
程ｂ）。
こののち、透明基板１１の上面の全体に例えば酸化クロ
ム２６を蒸着する（工程Ｃ）。そして、ホトレジスト２
３の上の酸化クロム２６を、ホトレジスト２３とともに
剥離し、透明電極１２を露出させ、透明電極１２の相互
間に残った酸化クロム２６を遮光膜１３として用いる。
ム２６を蒸着する（工程Ｃ）。そして、ホトレジスト２
３の上の酸化クロム２６を、ホトレジスト２３とともに
剥離し、透明電極１２を露出させ、透明電極１２の相互
間に残った酸化クロム２６を遮光膜１３として用いる。
このようにして透明基板１１の上に透明電極１２および
遮光膜１３を形成したのちに、第１図に示す工程に従っ
て各透明電極１２の上に所定のカラーフィルタ１６Ｒ，
１６Ｇ、１６Ｂを形成するものである。
遮光膜１３を形成したのちに、第１図に示す工程に従っ
て各透明電極１２の上に所定のカラーフィルタ１６Ｒ，
１６Ｇ、１６Ｂを形成するものである。
なお、テレビ用などのマトリックス型の液晶表示装置に
おいては、一対の透明基板の上にそれぞれ透明電極およ
び遮光膜を形成するとともに、一方の透明基板の透明電
極の上にそれぞれ所定のカラーフィルタを形成し、さら
に各透明基板の上にポリイミドなどの配向膜をそれぞれ
形成し、これら透明基板をその透明電極および遮光膜の
配置側を内側にして互いに対向させ、この対向間に液晶
を充填してＴＮ配向させ、かつ各透明基板の外面に偏光
板を平行ニコルの状態に取付けて液晶表示装置を構成す
る。
おいては、一対の透明基板の上にそれぞれ透明電極およ
び遮光膜を形成するとともに、一方の透明基板の透明電
極の上にそれぞれ所定のカラーフィルタを形成し、さら
に各透明基板の上にポリイミドなどの配向膜をそれぞれ
形成し、これら透明基板をその透明電極および遮光膜の
配置側を内側にして互いに対向させ、この対向間に液晶
を充填してＴＮ配向させ、かつ各透明基板の外面に偏光
板を平行ニコルの状態に取付けて液晶表示装置を構成す
る。
以上説明したようにこの発明によれば、透明電極および
遮光膜を形成した透明基板の上に、染色性を有するネガ
タイプのホトレジストを塗布し、このホトレジストの反
対側において透明基板に対向して露光マスクを配置し、
この露光マスクの透光窓から透明基板を通して所定の透
明電極に対応する部分のホトレジストを露光するように
したから、露光マスクの寸法精度および露光マスクの位
置合わせが比較的ラフであっても、所定の透明電極に対
応する部分のホトレジストを適正に露光することができ
、したがって作業管理が容易となり、作業能率の向上を
確実に達成することができるという効果を奏する。
遮光膜を形成した透明基板の上に、染色性を有するネガ
タイプのホトレジストを塗布し、このホトレジストの反
対側において透明基板に対向して露光マスクを配置し、
この露光マスクの透光窓から透明基板を通して所定の透
明電極に対応する部分のホトレジストを露光するように
したから、露光マスクの寸法精度および露光マスクの位
置合わせが比較的ラフであっても、所定の透明電極に対
応する部分のホトレジストを適正に露光することができ
、したがって作業管理が容易となり、作業能率の向上を
確実に達成することができるという効果を奏する。
第１図はこの発明の一実施例によるカラーフィルタの形
成工程を順に示す断面図、第２図は透明基板の上に遮光
膜を染色法により形成する工程を順に示す断面図、第３
図は同じくリフトホラ法により形成する工程を順に示す
断面図、第４図は従来のカラーフィルタの形成工程を順
に示す断面図である。 １１・・・透明基板、１２・・・透明電極、１３・・・
遮光膜、１４・・・ホトレジスト、′１５・・・露光マ
スク、１５ ａ ・・・透光膜、１６Ｒ，１６Ｇ、１６
Ｂ・・・カラーフィルタ。
成工程を順に示す断面図、第２図は透明基板の上に遮光
膜を染色法により形成する工程を順に示す断面図、第３
図は同じくリフトホラ法により形成する工程を順に示す
断面図、第４図は従来のカラーフィルタの形成工程を順
に示す断面図である。 １１・・・透明基板、１２・・・透明電極、１３・・・
遮光膜、１４・・・ホトレジスト、′１５・・・露光マ
スク、１５ ａ ・・・透光膜、１６Ｒ，１６Ｇ、１６
Ｂ・・・カラーフィルタ。
Claims (1)
- 透明基板の上に並列して複数の透明電極を形成し、かつ
これら透明電極の相互間に遮光膜を形成する工程と、透
明基板の上に上記各透明電極および各遮光膜を覆う状態
に染色性を有するネガタイプのホトレジストを塗布する
工程と、上記ホトレジストの反対側において透明基板と
対向して露光マスクを配置し、この露光マスクの透光窓
を通して所定の透明電極に対応する部分のホトレジスト
を露光する工程と、非露光部のホトレジストを除去し、
露光部のホトレジストを現像する工程と、現像したホト
レジストを染色してカラーフィルタとする工程とを具備
したことを特徴とするカラーフィルタの形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61097423A JP2518207B2 (ja) | 1986-04-26 | 1986-04-26 | カラ−フイルタの形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61097423A JP2518207B2 (ja) | 1986-04-26 | 1986-04-26 | カラ−フイルタの形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62253124A true JPS62253124A (ja) | 1987-11-04 |
| JP2518207B2 JP2518207B2 (ja) | 1996-07-24 |
Family
ID=14192020
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61097423A Expired - Lifetime JP2518207B2 (ja) | 1986-04-26 | 1986-04-26 | カラ−フイルタの形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2518207B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6480905A (en) * | 1987-09-24 | 1989-03-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Production of color filter |
| JPH02115803A (ja) * | 1988-10-25 | 1990-04-27 | Canon Inc | カラーフィルターの製法及び電極基板の製法 |
| US20120100471A1 (en) * | 2010-10-21 | 2012-04-26 | Chengdu Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Method of manufacturing color filter substrate |
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| JPS6175303A (ja) * | 1984-09-21 | 1986-04-17 | Casio Comput Co Ltd | カラ−フイルタの製造方法 |
-
1986
- 1986-04-26 JP JP61097423A patent/JP2518207B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2518207B2 (ja) | 1996-07-24 |
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