JPH0342656B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0342656B2 JPH0342656B2 JP59018287A JP1828784A JPH0342656B2 JP H0342656 B2 JPH0342656 B2 JP H0342656B2 JP 59018287 A JP59018287 A JP 59018287A JP 1828784 A JP1828784 A JP 1828784A JP H0342656 B2 JPH0342656 B2 JP H0342656B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sulfonic acid
- naphthoquinonediazide
- quinonediazide
- sulfonyl chloride
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ポジ型感光性樹脂組成物に関し、さ
らに詳しくはアルカリ可溶性樹脂と特定の１，２
−キノンジアジド化合物とを配合してなる、高感
度、高解像度および高残膜率を有し、かつ現像性
に優れ、集積回路作製のための耐熱性を有するホ
トレジストとして好適なポジ型感光性樹脂組成物
に関する。
らに詳しくはアルカリ可溶性樹脂と特定の１，２
−キノンジアジド化合物とを配合してなる、高感
度、高解像度および高残膜率を有し、かつ現像性
に優れ、集積回路作製のための耐熱性を有するホ
トレジストとして好適なポジ型感光性樹脂組成物
に関する。
従来、集積回路を作製するためのホトレジスト
としては、環化イソプレンゴムにビスアジド化合
物を配合したネガ型ホトレジストが知られてい
る。しかしこのネガ型ホトレジストは解像度に限
界があるため、集積回路の高集積化に十分対応で
きない欠点を有する。一方、このネガ型ホトレジ
ストに比べ、アルカリ可溶性樹脂に１，２−キノ
ンジアジド化合物を配合してなるポジ型ホトレジ
ストは、解像度が優れているため集積回路の高集
積化に十分対応しうるものと期待されている。
としては、環化イソプレンゴムにビスアジド化合
物を配合したネガ型ホトレジストが知られてい
る。しかしこのネガ型ホトレジストは解像度に限
界があるため、集積回路の高集積化に十分対応で
きない欠点を有する。一方、このネガ型ホトレジ
ストに比べ、アルカリ可溶性樹脂に１，２−キノ
ンジアジド化合物を配合してなるポジ型ホトレジ
ストは、解像度が優れているため集積回路の高集
積化に十分対応しうるものと期待されている。
しかしながら、従来のポジ型ホトレジストは、
感度、解像度、残膜率等の諸性能において必ずし
も満足な結果が得られていない。
感度、解像度、残膜率等の諸性能において必ずし
も満足な結果が得られていない。
また従来のポジ型ホトレジストは、ポストベー
クあるいはドライエツチングの工程において、温
度上昇によるパターンの変形が起りやすく、温度
上昇による変形の少ないポジ型ホトレジスト、す
なわち耐熱性の優れたポジ型ホトレジストが要求
されている。
クあるいはドライエツチングの工程において、温
度上昇によるパターンの変形が起りやすく、温度
上昇による変形の少ないポジ型ホトレジスト、す
なわち耐熱性の優れたポジ型ホトレジストが要求
されている。
本発明の目的は、上記従来技術の欠点を除去
し、高感度、高解像度および高残膜率を有し、か
つ現像性に優れた耐熱性を有するポジ型感光性樹
脂組成物を提供することにある。
し、高感度、高解像度および高残膜率を有し、か
つ現像性に優れた耐熱性を有するポジ型感光性樹
脂組成物を提供することにある。
本発明者らは、この目的を達成するため鋭意研
究の結果、アルカリ可溶性樹脂に、特定の１，２
−キノンジアジド化合物を配合することにより、
前記欠点が改良されることを見出して本発明に到
達した。
究の結果、アルカリ可溶性樹脂に、特定の１，２
−キノンジアジド化合物を配合することにより、
前記欠点が改良されることを見出して本発明に到
達した。
すなわち本発明は、アルカリ可溶性樹脂と、
１，２−キノンジアジド化合物とからなるポジ型
感光性樹脂組成物において、１，２−キノンジア
ジド化合物がヒドロキシル基を有するα−ピロン
系天然色素、ヒドロキシル基を有するγ−ピロン
系天然色素、ヒドロキシル基を有するジアジン系
天然色素およびヒドロキシル基を有するキノン系
天然色素からなる群から選ばれる化合物、好まし
くはヒドロキシル基を有するγ−ピロン系天然色
素の１，２−キノンジアジドスルホン酸エステル
を少なくとも１種含み、該１，２−キノンジアジ
ドスルホン酸エステルが前記アルカリ可溶性樹脂
100重量部に対し５〜100重量部配合されているこ
とを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物を提供す
るものである。
１，２−キノンジアジド化合物とからなるポジ型
感光性樹脂組成物において、１，２−キノンジア
ジド化合物がヒドロキシル基を有するα−ピロン
系天然色素、ヒドロキシル基を有するγ−ピロン
系天然色素、ヒドロキシル基を有するジアジン系
天然色素およびヒドロキシル基を有するキノン系
天然色素からなる群から選ばれる化合物、好まし
くはヒドロキシル基を有するγ−ピロン系天然色
素の１，２−キノンジアジドスルホン酸エステル
を少なくとも１種含み、該１，２−キノンジアジ
ドスルホン酸エステルが前記アルカリ可溶性樹脂
100重量部に対し５〜100重量部配合されているこ
とを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物を提供す
るものである。
本発明の組成物に用いられる１，２−キノンジ
アジドスルホン酸エステルは、例えば前記ヒドロ
キシル基を有するα−ピロン系天然色素、ヒドロ
キシル基を有するγ−ピロン系天然色素、ヒドロ
キシル基を有するジアジン系天然色素およびヒド
ロキシル基を有するキノン系天然色素からなる群
から選ばれる化合物のヒドロキシル基の全部また
は一部を１，２−ナフトキノンジアジド−４−ス
ルホニルクロリド、１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホニルクロリド、１，２−ベンゾキ
ノンジアジド−４−スルホニルクロリド等の１，
２−キノンジアジドスルホニルクロリドと好まし
くは１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ニルクロリドと、塩基性触媒の存在下で縮合反応
させ、精製することによつて得ることができる。
アジドスルホン酸エステルは、例えば前記ヒドロ
キシル基を有するα−ピロン系天然色素、ヒドロ
キシル基を有するγ−ピロン系天然色素、ヒドロ
キシル基を有するジアジン系天然色素およびヒド
ロキシル基を有するキノン系天然色素からなる群
から選ばれる化合物のヒドロキシル基の全部また
は一部を１，２−ナフトキノンジアジド−４−ス
ルホニルクロリド、１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホニルクロリド、１，２−ベンゾキ
ノンジアジド−４−スルホニルクロリド等の１，
２−キノンジアジドスルホニルクロリドと好まし
くは１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ニルクロリドと、塩基性触媒の存在下で縮合反応
させ、精製することによつて得ることができる。
前記ヒドロキシル基を有するα−ピロン系天然
色素としては、例えばヒスピジン、2′，3′−ジオ
キシ−ジベンズ−α−ピロン、エラグ酸、グルベ
ルジン、オオスポラフトン等を挙げることができ
る。前記ヒドロキシル基を有するγ−ピロン系天
然色素としては、例えばオイゲニン、ブラジリ
ン、ヘマトキシリン、オイキサントン、ゲンチミ
ン、クリシン、クリシンの配糖体であるトリンギ
ン、プリメチン、アピゲニン、アピゲニンの配糖
体であるアピイン、ルテオリン、ケルセチン、ケ
ルセチンの配糖体であるケルシトリン、イソケル
シトリン、ケルシメリトリン、ルチン、ヒペリ
ン、カランギン、ケンペロール、フイセチン、モ
リン、ラムネチン、ミリセチン、ソテツフラボ
ン、ナリンゲニン、ナリンゲニンの配糖体である
ナリンジン、サクラネチン、ヘスペリチン、アル
ピノン、カテキン、ダイゼイン、プルネチン、プ
ルネチンの配糖体であるプルニトリン、イリゲニ
ン、イリゲニンの配糖体であるイリジン、オサジ
ン、ペラルゴニジン、シアニジン、ロイコデルフ
イニジン等を挙げることができる。前記ヒドロキ
シル基を有するジアジン系天然色素としては、例
えばキサントプテリン、ロイコプテリン、エント
ロプテリン、クリソプテリン、イオジニン等を挙
げることができる。前記ヒドロキシル基を有する
キノン系天然色素としては、例えばポリポール
酸、アトロメンチン、ロイコメロン、ムスカルフ
イン、オオスポレイン、ユグロン、エキノクロー
ムＡ、スピノンＡ、スピノクロームＮ、アリザリ
ン、プルプリン、エモジン、カルミン酸、ケルメ
ス酸、スカイリン、ピロマイシン等を挙げること
ができる。
色素としては、例えばヒスピジン、2′，3′−ジオ
キシ−ジベンズ−α−ピロン、エラグ酸、グルベ
ルジン、オオスポラフトン等を挙げることができ
る。前記ヒドロキシル基を有するγ−ピロン系天
然色素としては、例えばオイゲニン、ブラジリ
ン、ヘマトキシリン、オイキサントン、ゲンチミ
ン、クリシン、クリシンの配糖体であるトリンギ
ン、プリメチン、アピゲニン、アピゲニンの配糖
体であるアピイン、ルテオリン、ケルセチン、ケ
ルセチンの配糖体であるケルシトリン、イソケル
シトリン、ケルシメリトリン、ルチン、ヒペリ
ン、カランギン、ケンペロール、フイセチン、モ
リン、ラムネチン、ミリセチン、ソテツフラボ
ン、ナリンゲニン、ナリンゲニンの配糖体である
ナリンジン、サクラネチン、ヘスペリチン、アル
ピノン、カテキン、ダイゼイン、プルネチン、プ
ルネチンの配糖体であるプルニトリン、イリゲニ
ン、イリゲニンの配糖体であるイリジン、オサジ
ン、ペラルゴニジン、シアニジン、ロイコデルフ
イニジン等を挙げることができる。前記ヒドロキ
シル基を有するジアジン系天然色素としては、例
えばキサントプテリン、ロイコプテリン、エント
ロプテリン、クリソプテリン、イオジニン等を挙
げることができる。前記ヒドロキシル基を有する
キノン系天然色素としては、例えばポリポール
酸、アトロメンチン、ロイコメロン、ムスカルフ
イン、オオスポレイン、ユグロン、エキノクロー
ムＡ、スピノンＡ、スピノクロームＮ、アリザリ
ン、プルプリン、エモジン、カルミン酸、ケルメ
ス酸、スカイリン、ピロマイシン等を挙げること
ができる。
縮合反応における前記天然色素に対する１，２
−キノンジアジドスルホニルクロリドの使用量
は、前記天然色素の水酸基の数によつて適宣調整
することができ、通常は１，２−キノンジアジド
スルホニルクロリドを縮合させる水酸基数１当量
に対して１，２−キノンジアジドスルホニルクロ
リドを１モル使用する。
−キノンジアジドスルホニルクロリドの使用量
は、前記天然色素の水酸基の数によつて適宣調整
することができ、通常は１，２−キノンジアジド
スルホニルクロリドを縮合させる水酸基数１当量
に対して１，２−キノンジアジドスルホニルクロ
リドを１モル使用する。
縮合反応に使用する塩基性触媒としては、例え
ば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナト
リウム等の無機アルカリ、ジエチルアミン、トリ
エチルアミン等の有機アミン類を挙げることがで
きる。これらの塩基性触媒の使用量は、使用する
１，２−キノンジアジドスルホニルクロリドに対
して、通常１〜２倍モル、好ましくは１〜1.3倍
モルである。
ば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナト
リウム等の無機アルカリ、ジエチルアミン、トリ
エチルアミン等の有機アミン類を挙げることがで
きる。これらの塩基性触媒の使用量は、使用する
１，２−キノンジアジドスルホニルクロリドに対
して、通常１〜２倍モル、好ましくは１〜1.3倍
モルである。
縮合反応は、通常溶媒の存在下において行う
が、溶媒としては水、ジオキサン、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエ
チルケトン等を挙げることができ、前記天然色素
100重量部に対して、通常100〜1000重量部を使用
する。
が、溶媒としては水、ジオキサン、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエ
チルケトン等を挙げることができ、前記天然色素
100重量部に対して、通常100〜1000重量部を使用
する。
縮合反応温度は、使用する溶媒によつて異なる
が、一般的には−20〜60℃、好ましくは０〜40℃
である。
が、一般的には−20〜60℃、好ましくは０〜40℃
である。
このようにして得られる本発明の組成物に用い
る１，２−キノンジアジドスルホン酸エステルの
具体例としては、次の化合物を挙げることができ
る。
る１，２−キノンジアジドスルホン酸エステルの
具体例としては、次の化合物を挙げることができ
る。
ヒスピジン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ジエステル、 ヒスピジン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸モノエステル、 2′3′−ジオキシ−ジベンズ−α−ピロン−１，
２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸ジエ
ステル、 エラグ酸−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸テトラエステル、 エラグ酸−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸トリエステル、 グルベルジン−１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸モノエステル、 オオスポラクトン−１，２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸モノエステル、 オイゲニン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸モノエステル、 ブラジリン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸トリエステル、 ヘマトキシリン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸ペンタエステル、 ヘマトキシリン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸テトラエステル、 ヘマトキシリン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸トリエステル、 ヘマトキシリン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸ジエステル、 オイキサントン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸ジエステル、 ゲンチミン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ジエステル、 クリシン−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸ジエステル、 トリンギン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ジエステル、 プリメチン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ジエステル、 アピゲニン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸トリエステル、 アピイン−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸トリエステル、 ルテオリン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸トリエステル、 ケルセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ペンタエステル、 ケルセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸テトラエステル、 ケルセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸トリエステル、 ケルセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ジエステル、 ケルセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸モノエステル、 ケルセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−
４−スルホン酸テトラエステル、 ケルセチン−１，２−ベンゾキノンジアジド−
４−スルホン酸テトラエステル、 ケルシトリン−１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸テトラエステル、 イソケルシトリン−１，２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸テトラエステル、 ケルシメリトリン−１，２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸テトラエステル、 ルチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸ジエステル、 ヒペリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸テトラエステル、 カランギン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸トリエステル、 ケンペロール−１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸トリエステル、 フイセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸トリエステル、 モリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸テトラエステル、 モリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸ペンタエステル、 ラムネチン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸トリエステル、 ミリセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ペンタエステル、 ソテツフラボン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸テトラエステル、 ナリンゲニン−１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸トリエステル、 ナリンジン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ジエステル、 サクラネチン−１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸ジエステル、 ヘスペリチン−１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸ジエステル、 アルピノン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ジエステル、 カテキン−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸テトラエステル、 ダイゼイン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸モノエステル、 プラネチン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ジエステル、 プルニトリン−１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸ジエステル、 イリゲニン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ジエステル、 イリジン−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸ジエステル、 オサジン−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸ジエステル、 ペラルゴニジン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸トリエステル、 シアニジン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸テトラエステル、 ロイコデルフイニジン−１，２−ナフトキノン
ジアジド−５−スルホン酸ペンタエステル、 キサントプテリン−１，２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸ジエステル、 ロイコプテリン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸トリエステル、 エントロプテリン−１，２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸トリエステル、 クリソプテリン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸ジエステル、 イオジニン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ジエステル、 ポリポール酸−１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸ジエステル、 アトロメンチン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸トリエステル、 ロイコメロン−１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸トリエステル、 ムスカルフイン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸ジエステル、 オオスポレイン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸トリエステル、 ユグロン−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸モノエステル、 エキノクロームＡ−１，２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸テトラエステル、 スピノンＡ−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸テトラエステル、 スピノクロームＮ−１，２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸トリエステル、 アリザリン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ジエステル、 プルプリン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ジエステル、 エモジン−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸ジエステル、 カルミン酸−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸トリエステル、 ケルメス酸−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸トリエステル、 スカイリン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ヘキサエステル、 ピロマイシン−１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸トリエステル、 これらの１，２−キノンジアジドスルホン酸エ
ステルは、１種単独でも２種以上の組合せででも
本発明の組成物に用いることができる。
５−スルホン酸ジエステル、 ヒスピジン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸モノエステル、 2′3′−ジオキシ−ジベンズ−α−ピロン−１，
２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸ジエ
ステル、 エラグ酸−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸テトラエステル、 エラグ酸−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸トリエステル、 グルベルジン−１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸モノエステル、 オオスポラクトン−１，２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸モノエステル、 オイゲニン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸モノエステル、 ブラジリン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸トリエステル、 ヘマトキシリン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸ペンタエステル、 ヘマトキシリン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸テトラエステル、 ヘマトキシリン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸トリエステル、 ヘマトキシリン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸ジエステル、 オイキサントン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸ジエステル、 ゲンチミン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ジエステル、 クリシン−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸ジエステル、 トリンギン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ジエステル、 プリメチン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ジエステル、 アピゲニン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸トリエステル、 アピイン−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸トリエステル、 ルテオリン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸トリエステル、 ケルセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ペンタエステル、 ケルセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸テトラエステル、 ケルセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸トリエステル、 ケルセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ジエステル、 ケルセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸モノエステル、 ケルセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−
４−スルホン酸テトラエステル、 ケルセチン−１，２−ベンゾキノンジアジド−
４−スルホン酸テトラエステル、 ケルシトリン−１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸テトラエステル、 イソケルシトリン−１，２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸テトラエステル、 ケルシメリトリン−１，２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸テトラエステル、 ルチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸ジエステル、 ヒペリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸テトラエステル、 カランギン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸トリエステル、 ケンペロール−１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸トリエステル、 フイセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸トリエステル、 モリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸テトラエステル、 モリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸ペンタエステル、 ラムネチン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸トリエステル、 ミリセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ペンタエステル、 ソテツフラボン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸テトラエステル、 ナリンゲニン−１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸トリエステル、 ナリンジン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ジエステル、 サクラネチン−１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸ジエステル、 ヘスペリチン−１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸ジエステル、 アルピノン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ジエステル、 カテキン−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸テトラエステル、 ダイゼイン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸モノエステル、 プラネチン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ジエステル、 プルニトリン−１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸ジエステル、 イリゲニン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ジエステル、 イリジン−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸ジエステル、 オサジン−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸ジエステル、 ペラルゴニジン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸トリエステル、 シアニジン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸テトラエステル、 ロイコデルフイニジン−１，２−ナフトキノン
ジアジド−５−スルホン酸ペンタエステル、 キサントプテリン−１，２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸ジエステル、 ロイコプテリン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸トリエステル、 エントロプテリン−１，２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸トリエステル、 クリソプテリン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸ジエステル、 イオジニン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ジエステル、 ポリポール酸−１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸ジエステル、 アトロメンチン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸トリエステル、 ロイコメロン−１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸トリエステル、 ムスカルフイン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸ジエステル、 オオスポレイン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸トリエステル、 ユグロン−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸モノエステル、 エキノクロームＡ−１，２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸テトラエステル、 スピノンＡ−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸テトラエステル、 スピノクロームＮ−１，２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸トリエステル、 アリザリン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ジエステル、 プルプリン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ジエステル、 エモジン−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸ジエステル、 カルミン酸−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸トリエステル、 ケルメス酸−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸トリエステル、 スカイリン−１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸ヘキサエステル、 ピロマイシン−１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸トリエステル、 これらの１，２−キノンジアジドスルホン酸エ
ステルは、１種単独でも２種以上の組合せででも
本発明の組成物に用いることができる。
本発明の組成物において、前記の１，２−キノ
ンジアジドスルホン酸エステルが添加されるアル
カリ可溶性樹脂は、特に限定されないが、例えば
フエノール、クレゾール、キシレノール、フエニ
ルフエノール等のフエノール類とホルムアルデヒ
ド、パラホルムアルデヒド、フルフラール、アセ
トアルデヒド、ベンズアルデヒド等のアルデヒド
類とから得られるノボラツク樹脂、ヒドロキシス
チレン系重合体、アミノスチレン系重合体、モノ
オレフイン化合物およびエチレン性不飽和カルボ
ン酸の共重合体等が挙げられる。
ンジアジドスルホン酸エステルが添加されるアル
カリ可溶性樹脂は、特に限定されないが、例えば
フエノール、クレゾール、キシレノール、フエニ
ルフエノール等のフエノール類とホルムアルデヒ
ド、パラホルムアルデヒド、フルフラール、アセ
トアルデヒド、ベンズアルデヒド等のアルデヒド
類とから得られるノボラツク樹脂、ヒドロキシス
チレン系重合体、アミノスチレン系重合体、モノ
オレフイン化合物およびエチレン性不飽和カルボ
ン酸の共重合体等が挙げられる。
本発明の組成物における前記１，２−キノンジ
アジドスルホン酸エステルの配合量は、アルカリ
可溶性樹脂100重量部に対して５〜100重量部、好
ましくは10〜50重量部である。この配合量が５重
量部未満の場合には、得られる組成物の解像度が
悪く、また現像後の残膜率が不十分で、かつ耐熱
性が悪くなるために得られるパターンが熱で変形
しやすくなる。一方この配合量が100重量部を超
える場合には、高感度の組成物を得ることができ
ない。
アジドスルホン酸エステルの配合量は、アルカリ
可溶性樹脂100重量部に対して５〜100重量部、好
ましくは10〜50重量部である。この配合量が５重
量部未満の場合には、得られる組成物の解像度が
悪く、また現像後の残膜率が不十分で、かつ耐熱
性が悪くなるために得られるパターンが熱で変形
しやすくなる。一方この配合量が100重量部を超
える場合には、高感度の組成物を得ることができ
ない。
本発明の組成物は、前記１，２−キノンジアジ
ドスルホン酸エステル以外の１，２−キノンジア
ジド化合物を、例えばアルカリ可溶性樹脂100重
量部に対して100重量部以下、好ましくは50重量
部以下、特に好ましくは20重量部以下の割合で配
合することができる。これらの１，２−キノンジ
アジド化合物としては、例えば下記一般式（） ■■■ 亀の甲 ［0028］ ■■■ （式中ｎは１〜３の整数、R5はアルキル基、
アリール基またはアラルキル基を意味する）で表
わされる化合物のヒドロキシル基の全部または一
部に、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スル
ホニルクロリド、１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホニルクロリドまたは１，２−ベンゾ
キノンジアジド−４−スルホニルクロリド等を縮
合反応させて得られる化合物が挙げられる。この
一般式（）で表わされる化合物の具体例として
は、２，３，４−トリヒドロキシフエニルメチル
ケトン、２，３，４−トリヒドロキシフエニルエ
チルケトン、２，３，４−トリヒドロキシフエニ
ルブチルケトン、２，３，４−トリヒドロキシフ
エニル−ｎ−ヘキシルケトン、３，４，５−トリ
ヒドロキシフエニルメチルケトン、３，４，５−
トリヒドロキシフエニルエチルケトン、３，４，
５−トリヒドロキシフエニルブチルケトン、３，
４，５−トリヒドロキシフエニル−ｎ−ヘキシル
ケトン、２，４，６−トリヒドロキシフエニルメ
チルケトン、２，４，６−トリヒドロキシフエニ
ルエチルケトン、２，４，６−トリヒドロキシフ
エニルブチルケトン、２，４，６−トリヒドロキ
シフエニル−ｎ−ヘキシルケトン、２，３，４−
トリヒドロキシフエニルデシルケトン、２，３，
４−トリヒドロキシフエニルドデシルケトン、
２，３，４−トリヒドロキシベンゾフエノン、
２，４，６−トリヒドロキシベンゾフエノン、
２，３，４−トリヒドロキシフエニルベンジルケ
トン、３，４，５−トリヒドロキシベンジルケト
ン、２，４，６−トリヒドロキシフエニルベンジ
ルケトン等が挙げられる（米国特許第3046118号
および特公昭37−18015号明細書）。
ドスルホン酸エステル以外の１，２−キノンジア
ジド化合物を、例えばアルカリ可溶性樹脂100重
量部に対して100重量部以下、好ましくは50重量
部以下、特に好ましくは20重量部以下の割合で配
合することができる。これらの１，２−キノンジ
アジド化合物としては、例えば下記一般式（） ■■■ 亀の甲 ［0028］ ■■■ （式中ｎは１〜３の整数、R5はアルキル基、
アリール基またはアラルキル基を意味する）で表
わされる化合物のヒドロキシル基の全部または一
部に、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スル
ホニルクロリド、１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホニルクロリドまたは１，２−ベンゾ
キノンジアジド−４−スルホニルクロリド等を縮
合反応させて得られる化合物が挙げられる。この
一般式（）で表わされる化合物の具体例として
は、２，３，４−トリヒドロキシフエニルメチル
ケトン、２，３，４−トリヒドロキシフエニルエ
チルケトン、２，３，４−トリヒドロキシフエニ
ルブチルケトン、２，３，４−トリヒドロキシフ
エニル−ｎ−ヘキシルケトン、３，４，５−トリ
ヒドロキシフエニルメチルケトン、３，４，５−
トリヒドロキシフエニルエチルケトン、３，４，
５−トリヒドロキシフエニルブチルケトン、３，
４，５−トリヒドロキシフエニル−ｎ−ヘキシル
ケトン、２，４，６−トリヒドロキシフエニルメ
チルケトン、２，４，６−トリヒドロキシフエニ
ルエチルケトン、２，４，６−トリヒドロキシフ
エニルブチルケトン、２，４，６−トリヒドロキ
シフエニル−ｎ−ヘキシルケトン、２，３，４−
トリヒドロキシフエニルデシルケトン、２，３，
４−トリヒドロキシフエニルドデシルケトン、
２，３，４−トリヒドロキシベンゾフエノン、
２，４，６−トリヒドロキシベンゾフエノン、
２，３，４−トリヒドロキシフエニルベンジルケ
トン、３，４，５−トリヒドロキシベンジルケト
ン、２，４，６−トリヒドロキシフエニルベンジ
ルケトン等が挙げられる（米国特許第3046118号
および特公昭37−18015号明細書）。
また例えば２，４，2′，4′−テトラヒドロキシ
−６，6′−ジメチル−ジフエニルメタン、２，
６，2′，6′−テトラヒドロキシ−３，５，3′，
5′−テトラクロル−ジフエニルメタン、２，2′−
ジヒドロキシ−４，4′−ジメチル−ジフエニルメ
タン−（１，１）、２，2′−ジヒドロキシ−４，
4′−ジメトキシ−ジフエニルエタン−（１，１）、
２，４，2′，4′−テトラヒドロキシ−ジフエニル
エタン−（１，１）、２，2′−ジヒドロキシ−４，
4′−ジメトキシ−トリフエニルメタン、２，2′−
ジヒドロキシ−ジナフチルメタン、２，４，2′，
4′−テトラヒドロキシ−ジフエニルスルフイド、
２，４，2′，4′−テトラヒドロキシ−ジフエニル
スルホキシド、２，４，2′，4′−テトラヒドロキ
シ−６，6′−ジメチル−ジフエニルエタン−（１，
１）、２，４，2′，4′−テトラヒドロキシ−６，
6′−ジカルボメトキシ−ジフエニルメタン、２，
４，2′，4′−テトラヒドロキシ−６，6′−ジメチ
ル−トリフエニルメタン、２，４，2′，4′−テト
ラヒドロキシ−ジフエニルプロパン−（１，１）、
２，４，2′，4′−テトラヒドロキシ−ジフエニル
−ｎ−ブタン−（１，１）、２，４，2′，4′−ペン
タヒドロキシ−トリフエニルメタン、２，４，
2′，4′−テトラヒドロキシ−ジフエニルシクロヘ
キサン−（１，１）、２，2′−ジヒドロキシ−４，
4′−ジメトキシ−ジフエニルメタン、２，４，
2′，4′−テトラヒドロキシ−ジフエニルペンタン
−（１，１）、２，４，2′，4′−テトラヒドロキシ
−ジフエニルプロパン−（２，２）、２，４，2′，
4′−テトラヒドロキシ−トリフエニルメタン、
２，2′−ジヒドロキシ−５，5′−ジブロム−ジフ
エニルメタン、２，2′−ジヒドロキシ−５，5′−
ジクロル−ジフエニルエタン−（１，１）、２，
2′−ジヒドロキシ−５，5′−ジブロム−ジフエニ
ルエタン−（１，１）等を１，２−ナフトキノン
ジアジド−５−スルホニルクロリド、１，２−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホニルクロリドま
たは１，２−ベンゾキノンジアジド−４−スルホ
ニルクロリド等と縮合反応させて得られる１，２
−キノンジアジドスルホン酸エステル（特公昭37
−1953号公報）を配合することもできる。
−６，6′−ジメチル−ジフエニルメタン、２，
６，2′，6′−テトラヒドロキシ−３，５，3′，
5′−テトラクロル−ジフエニルメタン、２，2′−
ジヒドロキシ−４，4′−ジメチル−ジフエニルメ
タン−（１，１）、２，2′−ジヒドロキシ−４，
4′−ジメトキシ−ジフエニルエタン−（１，１）、
２，４，2′，4′−テトラヒドロキシ−ジフエニル
エタン−（１，１）、２，2′−ジヒドロキシ−４，
4′−ジメトキシ−トリフエニルメタン、２，2′−
ジヒドロキシ−ジナフチルメタン、２，４，2′，
4′−テトラヒドロキシ−ジフエニルスルフイド、
２，４，2′，4′−テトラヒドロキシ−ジフエニル
スルホキシド、２，４，2′，4′−テトラヒドロキ
シ−６，6′−ジメチル−ジフエニルエタン−（１，
１）、２，４，2′，4′−テトラヒドロキシ−６，
6′−ジカルボメトキシ−ジフエニルメタン、２，
４，2′，4′−テトラヒドロキシ−６，6′−ジメチ
ル−トリフエニルメタン、２，４，2′，4′−テト
ラヒドロキシ−ジフエニルプロパン−（１，１）、
２，４，2′，4′−テトラヒドロキシ−ジフエニル
−ｎ−ブタン−（１，１）、２，４，2′，4′−ペン
タヒドロキシ−トリフエニルメタン、２，４，
2′，4′−テトラヒドロキシ−ジフエニルシクロヘ
キサン−（１，１）、２，2′−ジヒドロキシ−４，
4′−ジメトキシ−ジフエニルメタン、２，４，
2′，4′−テトラヒドロキシ−ジフエニルペンタン
−（１，１）、２，４，2′，4′−テトラヒドロキシ
−ジフエニルプロパン−（２，２）、２，４，2′，
4′−テトラヒドロキシ−トリフエニルメタン、
２，2′−ジヒドロキシ−５，5′−ジブロム−ジフ
エニルメタン、２，2′−ジヒドロキシ−５，5′−
ジクロル−ジフエニルエタン−（１，１）、２，
2′−ジヒドロキシ−５，5′−ジブロム−ジフエニ
ルエタン−（１，１）等を１，２−ナフトキノン
ジアジド−５−スルホニルクロリド、１，２−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホニルクロリドま
たは１，２−ベンゾキノンジアジド−４−スルホ
ニルクロリド等と縮合反応させて得られる１，２
−キノンジアジドスルホン酸エステル（特公昭37
−1953号公報）を配合することもできる。
さらに、特公昭37−3627号公報、同37−13109
号公報、同40−26126号公報、同40−3801号公報、
同45−5604号公報、同45−27345号公報、同51−
13013号公報、特開昭48−96575号公報、同48−
63802号公報、同48−63803号公報、同58−75149
号公報等に記載された、１，２−キノンジアジド
化合物も使用することができる。
号公報、同40−26126号公報、同40−3801号公報、
同45−5604号公報、同45−27345号公報、同51−
13013号公報、特開昭48−96575号公報、同48−
63802号公報、同48−63803号公報、同58−75149
号公報等に記載された、１，２−キノンジアジド
化合物も使用することができる。
さらに下記一般式（）、
■■■ 亀の甲 ［0029］ ■■■
下記一般式（）、
■■■ 亀の甲 ［0030］ ■■■
（一般式（）および（）において、ａおよ
びｂは同一または異なり、３または４の整数、ｌ
およびｍは同一または異なり、０または１〜３の
整数、ｃは１〜４の整数、ｎは０または１〜３の
整数を意味し、また（ａ−ｌ），（ｂ−ｍ）および
（ｃ−ｎ）はいずれも１以上の整数、R1，R5およ
びR7は同一または異なり、１，２−ナフトキノ
ンジアジド−４−スルホニル基、１，２−ナフト
キノンジアジド−５−スルホニル基または１，２
−ベンゾキノンジアジド−４−スルホニル基、
R2，R6，R8およびR11は同一または異なり、水素
原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、
アラルキル基、アルコキシ基、シアノ基またはニ
トロ基、R3，R4，R9およびR10は同一または異な
り、水素原子、アルキル基、アリール基またはア
ラルキル基を意味し、R3およびR4ならびにR9お
よびR10は炭素−炭素結合またはエーテル結合で
環を形成することができる）下記一般式（）、 ■■■ 亀の甲 ［0031］ ■■■ （一般式（）において、ｎは２〜４の整数、
ｌは０または１〜３の整数、ｍは１〜４の整数、
ｋは１〜４の整数、かつｋ＋ｌ＋ｍ＝５であり、
R1は１，２−ナフトキノンジアジド−４−スル
ホニル基、１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホニル基、または１，２−ベンゾキノンジア
ジド−４−スルホニル基、R2は水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、アリール基、アラルキル
基、アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基、Ｚ
はメタンまたは芳香族化合物の残基を意味する）、 下記一般式（）、 ■■■ 亀の甲 ［0032］ ■■■ または下記一般式（）、 ■■■ 亀の甲 ［0033］ ■■■ （一般式（）および（）において、ａ，ｂ
およびｃは１〜４の整数であつてａとｂは同一ま
たは異なり、ｌ，ｍおよびｎは０または１〜３の
整数であつてｌとｍは同一または異なり、（ａ−
ｌ），（ｂ−ｍ）および（ｃ−ｎ）は１以上の整
数、R1，R2およびR5は１，２−ナフトキノンジ
アジド−４−スルホニル基、１，２−ナフトキノ
ンジアジド−５−スルホニル基または１，２−ベ
ンゾキノンジアジド−４−スルホニル基であつて
R1とR2は同一または異なり、R3，R4およびR5は
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール
基、アラルキル基、アルコキシ基、シアノ基また
はニトロ基であつてR3とR4は同一または異なり、
R7はアルキル基、アリール基またはアラルキル
基、Ｚは置換基を有するかもしくは有しないアル
キレン基またはオキサアルキレン基を意味する）
で表わされる１，２−キノンジアジド化合物も使
用することができる。
びｂは同一または異なり、３または４の整数、ｌ
およびｍは同一または異なり、０または１〜３の
整数、ｃは１〜４の整数、ｎは０または１〜３の
整数を意味し、また（ａ−ｌ），（ｂ−ｍ）および
（ｃ−ｎ）はいずれも１以上の整数、R1，R5およ
びR7は同一または異なり、１，２−ナフトキノ
ンジアジド−４−スルホニル基、１，２−ナフト
キノンジアジド−５−スルホニル基または１，２
−ベンゾキノンジアジド−４−スルホニル基、
R2，R6，R8およびR11は同一または異なり、水素
原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、
アラルキル基、アルコキシ基、シアノ基またはニ
トロ基、R3，R4，R9およびR10は同一または異な
り、水素原子、アルキル基、アリール基またはア
ラルキル基を意味し、R3およびR4ならびにR9お
よびR10は炭素−炭素結合またはエーテル結合で
環を形成することができる）下記一般式（）、 ■■■ 亀の甲 ［0031］ ■■■ （一般式（）において、ｎは２〜４の整数、
ｌは０または１〜３の整数、ｍは１〜４の整数、
ｋは１〜４の整数、かつｋ＋ｌ＋ｍ＝５であり、
R1は１，２−ナフトキノンジアジド−４−スル
ホニル基、１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホニル基、または１，２−ベンゾキノンジア
ジド−４−スルホニル基、R2は水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、アリール基、アラルキル
基、アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基、Ｚ
はメタンまたは芳香族化合物の残基を意味する）、 下記一般式（）、 ■■■ 亀の甲 ［0032］ ■■■ または下記一般式（）、 ■■■ 亀の甲 ［0033］ ■■■ （一般式（）および（）において、ａ，ｂ
およびｃは１〜４の整数であつてａとｂは同一ま
たは異なり、ｌ，ｍおよびｎは０または１〜３の
整数であつてｌとｍは同一または異なり、（ａ−
ｌ），（ｂ−ｍ）および（ｃ−ｎ）は１以上の整
数、R1，R2およびR5は１，２−ナフトキノンジ
アジド−４−スルホニル基、１，２−ナフトキノ
ンジアジド−５−スルホニル基または１，２−ベ
ンゾキノンジアジド−４−スルホニル基であつて
R1とR2は同一または異なり、R3，R4およびR5は
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール
基、アラルキル基、アルコキシ基、シアノ基また
はニトロ基であつてR3とR4は同一または異なり、
R7はアルキル基、アリール基またはアラルキル
基、Ｚは置換基を有するかもしくは有しないアル
キレン基またはオキサアルキレン基を意味する）
で表わされる１，２−キノンジアジド化合物も使
用することができる。
上記一般式（）で表わされる１，２−キノン
ジアジド化合物は、例えばジ（２，３，４−トリ
ヒドロキシフエニル）メタン、１，１−ジ（２，
３，４−トリヒドロキシフエニル）プロパン、
２，２−ジ（２，３，４−トリヒドロキシフエニ
ル）プロパン、１，１−ジ（２，３，４−トリヒ
ドロキシフエニル）ブタン、１，１−ジ（２，
３，４−トリヒドロキシシクロヘキサン、１，１
−ジ（２，３，４−トリヒドロキシ）−４−オキ
サシクロヘキサン、ジ（２，４，６−トリヒドロ
キシフエニル）メタン、１，１−ジ（２，４，６
−トリヒドロキシフエニル）プロパン、２，２−
ジ（２，４，６−トリヒドロキシフエニル）プロ
パン、１，１−ジ（２，４，６−トリヒドロキシ
フエニル）ブタン、１，１−ジ（２，４，６−ト
リヒドロキシフエニル）シクロヘキサン、１，１
−ジ（２，４，６−トリヒドロキシフエニル）−
４−オキサシクロヘキサン、ジ（２，３，４−ト
リヒドロキシ−５−ブロモフエニル）メタン、
２，２−ジ（２，４，６−トリヒドロキシ−３−
クロロフエニル）プロパン、ジ（２，３，４−ト
リヒドロキシ−５−メチルフエニル）メタン、
２，２−（２，４，６−トリヒドロキシ−３−メ
チル）プロパン、ジ（２，３，４−トリヒドロキ
シ−５−シアノフエニル）メタン、２，２−ジ
（２，４，６−トリヒドロキシ−３−ニトロフエ
ニル）プロパン、ジ（１，２，３，４−テトラヒ
ドロキシフエニル）メタン、２，２−ジ（１，
２，３，５−テトラヒドロキシフエニル）プロパ
ン等のポリヒドロキシ化合物と１，２−ナフトキ
ノンジアジド−５−スルホニルクロリド、１，２
−ナフトキノンジアジド−４−スルホニルクロリ
ドまたは１，２−ベンゾキノンジアジド−４−ス
ルホニルクロリドとを当量比0.125〜１で縮合す
ることにより得ることができる。
ジアジド化合物は、例えばジ（２，３，４−トリ
ヒドロキシフエニル）メタン、１，１−ジ（２，
３，４−トリヒドロキシフエニル）プロパン、
２，２−ジ（２，３，４−トリヒドロキシフエニ
ル）プロパン、１，１−ジ（２，３，４−トリヒ
ドロキシフエニル）ブタン、１，１−ジ（２，
３，４−トリヒドロキシシクロヘキサン、１，１
−ジ（２，３，４−トリヒドロキシ）−４−オキ
サシクロヘキサン、ジ（２，４，６−トリヒドロ
キシフエニル）メタン、１，１−ジ（２，４，６
−トリヒドロキシフエニル）プロパン、２，２−
ジ（２，４，６−トリヒドロキシフエニル）プロ
パン、１，１−ジ（２，４，６−トリヒドロキシ
フエニル）ブタン、１，１−ジ（２，４，６−ト
リヒドロキシフエニル）シクロヘキサン、１，１
−ジ（２，４，６−トリヒドロキシフエニル）−
４−オキサシクロヘキサン、ジ（２，３，４−ト
リヒドロキシ−５−ブロモフエニル）メタン、
２，２−ジ（２，４，６−トリヒドロキシ−３−
クロロフエニル）プロパン、ジ（２，３，４−ト
リヒドロキシ−５−メチルフエニル）メタン、
２，２−（２，４，６−トリヒドロキシ−３−メ
チル）プロパン、ジ（２，３，４−トリヒドロキ
シ−５−シアノフエニル）メタン、２，２−ジ
（２，４，６−トリヒドロキシ−３−ニトロフエ
ニル）プロパン、ジ（１，２，３，４−テトラヒ
ドロキシフエニル）メタン、２，２−ジ（１，
２，３，５−テトラヒドロキシフエニル）プロパ
ン等のポリヒドロキシ化合物と１，２−ナフトキ
ノンジアジド−５−スルホニルクロリド、１，２
−ナフトキノンジアジド−４−スルホニルクロリ
ドまたは１，２−ベンゾキノンジアジド−４−ス
ルホニルクロリドとを当量比0.125〜１で縮合す
ることにより得ることができる。
上記一般式（）で表わされる１，２−キノン
ジアジド化合物は、例えば２，３，４−トリヒド
ロキシジフエニルメタン、２，４，６−トリヒド
ロキシジフエニルメタン、２，３，４−トリヒド
ロキシ−５−クロロジフエニルメタン、２，４，
６−トリヒドロキシ−３−ブロモジフエニルメタ
ン、２，３，４−トリヒドロキシ−５−メチルジ
フエニルメタン、２，４，６−トリヒドロキシ−
３−シアノジフエニルメタン、２，３，４−トリ
ヒドロキシ−５−ニトロジフエニルメタン、２，
３，４−トリヒドロキシ−4′−メチルジフエニル
メタン、２，４，６−トリヒドロキシ−4′−メチ
ルジフエニルメタン、２，３，４−トリヒドロキ
シ−4′−ｔ−ブチルジフエニルメタン、２，３，
４，５−テトラヒドロキシジフエニルメタン、
２，３，４，６−テトラヒドロキシジフエニルメ
タン、２，５−ジヒドロキシジフエニルメタン、
２，４−ジヒドロキシジフエニルメタン、２，４
−ジヒドロキシ−4′−メチルジフエニルメタン、
２，５−ジヒドロキシ−4′−ｔ−ブチルジフエニ
ルメタン、２−（２，３，４−トリヒドロキシフ
エニル）−２−フエニルプロパン、２−（２，４，
６−トリヒドロキシフエニル）−２−フエニルプ
ロパン、２−（２，３，４−トリヒドロキシ−５
−クロロフエニル）−２−フエニルプロパン、２
−（２，３，４−トリヒドロキシ−５−メチルフ
エニル）−２−フエニルプロパン、２−（２，４，
６−トリヒドロキシ−３−シアノフエニル）−２
−フエニルプロパン、２−（２，３，４−トリヒ
ドロキシ−５−ニトロフエニル）−２−フエニル
プロパン、２−（２，３，４−トリヒドロキシフ
エニル）−２−（ｐ−トリル）プロパン、２−（２，
４，６−トリヒドロキシフエニル）−２−（４−ｔ
−ブチルフエニル）プロパン、２−（２，３，４，
５−テトラヒドロキシフエニル）−２−フエニル
プロパン、２−（２，３，４，６−テトラヒドロ
キシ）−２−フエニルプロパン、２−（２，５−ジ
ヒドロキシフエニル）−２−フエニルプロパン、
２−（２，４−ジヒドロキシフエニル）−２−フエ
ニルプロパン、２−（２，４−ジヒドロキシフエ
ニル）−２−（ｐ−トリル）プロパン等のポリヒド
ロキシ化合物と１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホニルクロリド、１，２−ナフトキノン
ジアジド−４−スルホニルクロリドまたは１，２
−ベンゾキノンジアジド−４−スルホニルクロリ
ドとを当量比0.25〜１で縮合することにより得る
ことができる。
ジアジド化合物は、例えば２，３，４−トリヒド
ロキシジフエニルメタン、２，４，６−トリヒド
ロキシジフエニルメタン、２，３，４−トリヒド
ロキシ−５−クロロジフエニルメタン、２，４，
６−トリヒドロキシ−３−ブロモジフエニルメタ
ン、２，３，４−トリヒドロキシ−５−メチルジ
フエニルメタン、２，４，６−トリヒドロキシ−
３−シアノジフエニルメタン、２，３，４−トリ
ヒドロキシ−５−ニトロジフエニルメタン、２，
３，４−トリヒドロキシ−4′−メチルジフエニル
メタン、２，４，６−トリヒドロキシ−4′−メチ
ルジフエニルメタン、２，３，４−トリヒドロキ
シ−4′−ｔ−ブチルジフエニルメタン、２，３，
４，５−テトラヒドロキシジフエニルメタン、
２，３，４，６−テトラヒドロキシジフエニルメ
タン、２，５−ジヒドロキシジフエニルメタン、
２，４−ジヒドロキシジフエニルメタン、２，４
−ジヒドロキシ−4′−メチルジフエニルメタン、
２，５−ジヒドロキシ−4′−ｔ−ブチルジフエニ
ルメタン、２−（２，３，４−トリヒドロキシフ
エニル）−２−フエニルプロパン、２−（２，４，
６−トリヒドロキシフエニル）−２−フエニルプ
ロパン、２−（２，３，４−トリヒドロキシ−５
−クロロフエニル）−２−フエニルプロパン、２
−（２，３，４−トリヒドロキシ−５−メチルフ
エニル）−２−フエニルプロパン、２−（２，４，
６−トリヒドロキシ−３−シアノフエニル）−２
−フエニルプロパン、２−（２，３，４−トリヒ
ドロキシ−５−ニトロフエニル）−２−フエニル
プロパン、２−（２，３，４−トリヒドロキシフ
エニル）−２−（ｐ−トリル）プロパン、２−（２，
４，６−トリヒドロキシフエニル）−２−（４−ｔ
−ブチルフエニル）プロパン、２−（２，３，４，
５−テトラヒドロキシフエニル）−２−フエニル
プロパン、２−（２，３，４，６−テトラヒドロ
キシ）−２−フエニルプロパン、２−（２，５−ジ
ヒドロキシフエニル）−２−フエニルプロパン、
２−（２，４−ジヒドロキシフエニル）−２−フエ
ニルプロパン、２−（２，４−ジヒドロキシフエ
ニル）−２−（ｐ−トリル）プロパン等のポリヒド
ロキシ化合物と１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホニルクロリド、１，２−ナフトキノン
ジアジド−４−スルホニルクロリドまたは１，２
−ベンゾキノンジアジド−４−スルホニルクロリ
ドとを当量比0.25〜１で縮合することにより得る
ことができる。
上記一般式（）または（）で表わされる
１，２−キノンジアジド化合物に関する詳細は、
本出願人の昭和58年12月６日付出願に記載されて
いる。
１，２−キノンジアジド化合物に関する詳細は、
本出願人の昭和58年12月６日付出願に記載されて
いる。
上記一般式（）で表わされる１，２−キノン
ジアジド化合物は、例えば、ｐ−ビス（４−ヒド
ロキシベンゾイル）ベンゼン、ｐ−ビス（２，５
−ジヒドロキシベンゾイル）ベンゼン、ｐ−ビス
（２，３，４−トリヒドロキシベンゾイル）ベン
ゼン、ｍ−ビス（２，４，６−トリヒドロキシベ
ンゾイル）ベンゼン、ｐ−ビス（４−ヒドロキシ
−３−クロロベンゾイル）ベンゼン、ｐ−ビス
（２，３，４−トリヒドロキシ−５−メチルベン
ゾイル）ベンゼン、ｐ−ビス（２，４，６−トリ
ヒドロキシ−３−ニトロベンゾイル）ベンゼン、
ｐ−ビス（２，３，４−トリヒドロキシ−５−シ
アノベンゾイル）ベンゼン、１，３，５−トリス
（２，５−ジヒドロキシベンゾイル）ベンゼン、
１，２，３−トリス（２，３，４−トリヒドロキ
シベンゾイル）ベンゼン、１，２，４−トリス
（２，４，６−トリヒドロキシベンゾイル）ベン
ゼン、１，２，４，５−テトラキス（２，３，４
−トリヒドロキシベンゾイル）ベンゼン、α，
α′−ビス（２，３，４−トリヒドロキシベンゾイ
ル）−ｐ−キシレン、α，α′，α′−トリス（２，
３，４−トリヒドロキシベンゾイル）メシチレ
ン、１，２−ビス（２，３，４−トリヒドロキシ
ベンゾイル）ナフタレン等のポリヒドロキシ化合
物と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ニルクロリド、１，２−ナフトキノンジアジド−
４−スルホニルクロリドまたは１，２−ベンゾキ
ノンジアジド−４−スルホニルクロリドとを当量
比0.083〜１で縮合することにより得ることがで
き、詳細は本出願人の特願昭58−243583号（昭和
58年12月23日付出願）に記載されている。
ジアジド化合物は、例えば、ｐ−ビス（４−ヒド
ロキシベンゾイル）ベンゼン、ｐ−ビス（２，５
−ジヒドロキシベンゾイル）ベンゼン、ｐ−ビス
（２，３，４−トリヒドロキシベンゾイル）ベン
ゼン、ｍ−ビス（２，４，６−トリヒドロキシベ
ンゾイル）ベンゼン、ｐ−ビス（４−ヒドロキシ
−３−クロロベンゾイル）ベンゼン、ｐ−ビス
（２，３，４−トリヒドロキシ−５−メチルベン
ゾイル）ベンゼン、ｐ−ビス（２，４，６−トリ
ヒドロキシ−３−ニトロベンゾイル）ベンゼン、
ｐ−ビス（２，３，４−トリヒドロキシ−５−シ
アノベンゾイル）ベンゼン、１，３，５−トリス
（２，５−ジヒドロキシベンゾイル）ベンゼン、
１，２，３−トリス（２，３，４−トリヒドロキ
シベンゾイル）ベンゼン、１，２，４−トリス
（２，４，６−トリヒドロキシベンゾイル）ベン
ゼン、１，２，４，５−テトラキス（２，３，４
−トリヒドロキシベンゾイル）ベンゼン、α，
α′−ビス（２，３，４−トリヒドロキシベンゾイ
ル）−ｐ−キシレン、α，α′，α′−トリス（２，
３，４−トリヒドロキシベンゾイル）メシチレ
ン、１，２−ビス（２，３，４−トリヒドロキシ
ベンゾイル）ナフタレン等のポリヒドロキシ化合
物と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ニルクロリド、１，２−ナフトキノンジアジド−
４−スルホニルクロリドまたは１，２−ベンゾキ
ノンジアジド−４−スルホニルクロリドとを当量
比0.083〜１で縮合することにより得ることがで
き、詳細は本出願人の特願昭58−243583号（昭和
58年12月23日付出願）に記載されている。
上記一般式（）で表わされる１，２−キノン
ジアジド化合物は、例えば、エチレングリコール
−ジ（２−ヒドロキシベンゾエート）、ジエチレ
ングリコール−ジ（２，３−ジヒドロキシベンゾ
エート）、トリエチレングリコール−ジ（２，６
−ジヒドロキシベンゾエート）、エチレングリコ
ール−ジ（３，４，５−トリヒドロキシベンゾエ
ート）、ジエチレングリコール−ジ（２，４，６
−トリヒドロキシベンゾエート）、トリエチレン
グリコール−ジ（２−ヒドロキシ−３−メチルベ
ンゾエート）、エチレングリコール−ジ（４−ク
ロロ−２−ヒドロキシベンゾエート）、ポリエチ
レングリコール−ジ（５−ブロモ−２−ヒドロキ
シベンゾエート）、プロピレングリコール−ジ
（３−クロロ−４−ヒドロキシベンゾエート）、ス
チレングリコール−ジ（２−ヒドロキシ−３−メ
トキシベンゾエート）、ポリプロピレングリコー
ル−ジ（２−ヒドロキシ−５−メトキシベンゾエ
ート）、ポリ−３，３−ビスクロロメチルオキセ
タングリコール−ジ（３−ヒドロキシ−４−メト
キシベンゾエート）、１，３−プロパンジオール
−ジ（３，４，５−トリヒドロキシベンゾエー
ト）、１，４−ブタンジオール−ジ（３−ヒドロ
キシベンゾエート）、ポリテトラヒドロフラング
リコール−ジ（３，４，５−トリヒドロキシベン
ゾエート）等のポリヒドロキシ化合物と１，２−
ナフトキノンジアジド−５−スルホニルクロリ
ド、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホ
ニルクロリドまたは１，２−ベンゾキノンジアジ
ド−４−スルホニルクロリドとを当量比0.17〜１
で縮合することにより得ることができる。
ジアジド化合物は、例えば、エチレングリコール
−ジ（２−ヒドロキシベンゾエート）、ジエチレ
ングリコール−ジ（２，３−ジヒドロキシベンゾ
エート）、トリエチレングリコール−ジ（２，６
−ジヒドロキシベンゾエート）、エチレングリコ
ール−ジ（３，４，５−トリヒドロキシベンゾエ
ート）、ジエチレングリコール−ジ（２，４，６
−トリヒドロキシベンゾエート）、トリエチレン
グリコール−ジ（２−ヒドロキシ−３−メチルベ
ンゾエート）、エチレングリコール−ジ（４−ク
ロロ−２−ヒドロキシベンゾエート）、ポリエチ
レングリコール−ジ（５−ブロモ−２−ヒドロキ
シベンゾエート）、プロピレングリコール−ジ
（３−クロロ−４−ヒドロキシベンゾエート）、ス
チレングリコール−ジ（２−ヒドロキシ−３−メ
トキシベンゾエート）、ポリプロピレングリコー
ル−ジ（２−ヒドロキシ−５−メトキシベンゾエ
ート）、ポリ−３，３−ビスクロロメチルオキセ
タングリコール−ジ（３−ヒドロキシ−４−メト
キシベンゾエート）、１，３−プロパンジオール
−ジ（３，４，５−トリヒドロキシベンゾエー
ト）、１，４−ブタンジオール−ジ（３−ヒドロ
キシベンゾエート）、ポリテトラヒドロフラング
リコール−ジ（３，４，５−トリヒドロキシベン
ゾエート）等のポリヒドロキシ化合物と１，２−
ナフトキノンジアジド−５−スルホニルクロリ
ド、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホ
ニルクロリドまたは１，２−ベンゾキノンジアジ
ド−４−スルホニルクロリドとを当量比0.17〜１
で縮合することにより得ることができる。
上記一般式（）で表わされる１，２−キノン
ジアジド化合物は、例えば、エチレングリコール
−モノメチル−モノ（３，４，５−トリヒドロキ
シベンゾエート）、エチレングリコール−モノエ
チル−モノ（２，４，６−トリヒドロキシベンゾ
エート）、ジエチレングリコール−モノエチル−
モノ（２，３−ジヒドロキシベンゾエート）、ト
リエチレングリコール−モノエチル−モノ（３，
５−ジヒドロキシベンゾエート）、エチレングリ
コール−モノフエニル−モノ（３，４，５−トリ
ヒドロキシベンゾエート）、１，２−ベンゼンジ
メタノール−モノエチル−モノ（３，４，５−ト
リヒドロキシベンゾエート）等のポリヒドロキシ
化合物と１，２−ナフトキノンジアジド−５−ス
ルホニルクロリド、１，２−ナフトキノンジアジ
ド−４−スルホニルクロリドまたは１，２−ベン
ゾキノンジアジド−４−スルホニルクロリドとを
当量比0.3〜１で縮合することにより得ることが
できる。
ジアジド化合物は、例えば、エチレングリコール
−モノメチル−モノ（３，４，５−トリヒドロキ
シベンゾエート）、エチレングリコール−モノエ
チル−モノ（２，４，６−トリヒドロキシベンゾ
エート）、ジエチレングリコール−モノエチル−
モノ（２，３−ジヒドロキシベンゾエート）、ト
リエチレングリコール−モノエチル−モノ（３，
５−ジヒドロキシベンゾエート）、エチレングリ
コール−モノフエニル−モノ（３，４，５−トリ
ヒドロキシベンゾエート）、１，２−ベンゼンジ
メタノール−モノエチル−モノ（３，４，５−ト
リヒドロキシベンゾエート）等のポリヒドロキシ
化合物と１，２−ナフトキノンジアジド−５−ス
ルホニルクロリド、１，２−ナフトキノンジアジ
ド−４−スルホニルクロリドまたは１，２−ベン
ゾキノンジアジド−４−スルホニルクロリドとを
当量比0.3〜１で縮合することにより得ることが
できる。
上記一般式（）または（）で表わされる
１，２−キノンジアジド化合物に関する詳細は、
本出願人の昭和59年１月10日付出願に記載されて
いる。
１，２−キノンジアジド化合物に関する詳細は、
本出願人の昭和59年１月10日付出願に記載されて
いる。
さらに本発明の組成物は必要に応じて、現像
性、組成物の保存安定性等を向上させるために、
例えばロジン、シユラツク等の天然樹脂、スチレ
ンと無水マレイン酸との共重合体、スチレンとア
クリル酸、メタクリル酸またはこれらのアルキル
エステルとの共重合体、アクリル酸エステル重合
体、ビニルアセタール重合体、ビニルエーテル重
合体、酢酸ビニル重合体、ビニルアルコール重合
体、ビニルピロリドン重合体等の合成樹脂を、ア
ルカリ可溶性樹脂100重量部に対して１〜50重量
部、好ましくは５〜30重量部の割合で付加的に配
合含有させることもできる。
性、組成物の保存安定性等を向上させるために、
例えばロジン、シユラツク等の天然樹脂、スチレ
ンと無水マレイン酸との共重合体、スチレンとア
クリル酸、メタクリル酸またはこれらのアルキル
エステルとの共重合体、アクリル酸エステル重合
体、ビニルアセタール重合体、ビニルエーテル重
合体、酢酸ビニル重合体、ビニルアルコール重合
体、ビニルピロリドン重合体等の合成樹脂を、ア
ルカリ可溶性樹脂100重量部に対して１〜50重量
部、好ましくは５〜30重量部の割合で付加的に配
合含有させることもできる。
本発明の組成物は、微細加工すべき基板上に塗
布し、活性光線、例えば紫外線等を部分的に照射
し、現像することによつてパターンを形成するこ
とができる。
布し、活性光線、例えば紫外線等を部分的に照射
し、現像することによつてパターンを形成するこ
とができる。
本発明の組成物を基板に塗布する方法として
は、本発明の組成物を、例えば濃度が５〜50重量
％となるように適当な溶剤に溶解し、これを回転
塗布、流し塗布、ロール塗布等により塗布する方
法が挙げられる。この際に用いられる適当な溶剤
としては、例えばシクロペンタノン、シクロヘキ
サノン、ジアセトンアルコール等のケトン類、ｎ
−ブタノール等のアルコール類、ジオキサン、エ
チレングリコールジメチルエーテル、エチルグリ
コールジエチルエーテル等のエーテル類、エチル
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル等のアルコールエーテル
類、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、メトキ
シエチルアセテート等のエステル類、１，１，２
−トリクロロエチレン等のハロゲン化炭化水素
類、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ−メチルピロリドン等の極性溶媒が、単独
でまたは混合して用いられる。
は、本発明の組成物を、例えば濃度が５〜50重量
％となるように適当な溶剤に溶解し、これを回転
塗布、流し塗布、ロール塗布等により塗布する方
法が挙げられる。この際に用いられる適当な溶剤
としては、例えばシクロペンタノン、シクロヘキ
サノン、ジアセトンアルコール等のケトン類、ｎ
−ブタノール等のアルコール類、ジオキサン、エ
チレングリコールジメチルエーテル、エチルグリ
コールジエチルエーテル等のエーテル類、エチル
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル等のアルコールエーテル
類、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、メトキ
シエチルアセテート等のエステル類、１，１，２
−トリクロロエチレン等のハロゲン化炭化水素
類、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ−メチルピロリドン等の極性溶媒が、単独
でまたは混合して用いられる。
本発明の組成物には、必要に応じて保存安定
剤、色素等を添加配合することもできる。また本
発明の組成物と基板との接着力を向上させるため
に、選定した基板に応じて、例えばヘキサメチル
ジシラザン、クロロメチルシラン等を接着助剤と
して基板に塗布してもよい。
剤、色素等を添加配合することもできる。また本
発明の組成物と基板との接着力を向上させるため
に、選定した基板に応じて、例えばヘキサメチル
ジシラザン、クロロメチルシラン等を接着助剤と
して基板に塗布してもよい。
本発明の組成物に用いられる現像液としては、
例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナト
リウム、リン酸三ナトリウム、リン酸水素ナトリ
ウム等の無機アルカリ類の水溶液、ｎ−プロピル
アミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−ブチ
ルアミン、メチルジエチルアミン、ピロール、
２，２−ジメチルピロール、β−ピコリン、コリ
ジン、ピペリジン、ピペラジン、トリエチレンジ
アミン等のアミン類の水溶液、ジメチルエタノー
ルアミン、トリエタノールアミン、ジエチルヒド
ロキシルアミン等のアルコールアミン類の水溶
液、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テ
トラエチルアンモニウムヒドロキシド等の第４級
アンモニウム塩の水溶液、アンモニア水等が挙げ
られる。
例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナト
リウム、リン酸三ナトリウム、リン酸水素ナトリ
ウム等の無機アルカリ類の水溶液、ｎ−プロピル
アミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−ブチ
ルアミン、メチルジエチルアミン、ピロール、
２，２−ジメチルピロール、β−ピコリン、コリ
ジン、ピペリジン、ピペラジン、トリエチレンジ
アミン等のアミン類の水溶液、ジメチルエタノー
ルアミン、トリエタノールアミン、ジエチルヒド
ロキシルアミン等のアルコールアミン類の水溶
液、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テ
トラエチルアンモニウムヒドロキシド等の第４級
アンモニウム塩の水溶液、アンモニア水等が挙げ
られる。
また前記現像液に、メタノール、エタノール等
のアルコール類、亜硫酸系安定剤または界面活性
剤を適当量添加することもできる。
のアルコール類、亜硫酸系安定剤または界面活性
剤を適当量添加することもできる。
本発明の組成物は、１，２−キノンジアジド化
合物の結晶が析出することなく、高感度、高解像
度および高残膜率を有し、かつ現像性にも優れた
ものであり、集積回路作製用の耐熱性を有するポ
ジ型ホトレジストとして特に有用であるととも
に、マスク製作用のポジ型ホトレジスト等として
も有用なものである。
合物の結晶が析出することなく、高感度、高解像
度および高残膜率を有し、かつ現像性にも優れた
ものであり、集積回路作製用の耐熱性を有するポ
ジ型ホトレジストとして特に有用であるととも
に、マスク製作用のポジ型ホトレジスト等として
も有用なものである。
次に実施例を挙げて本発明を詳述するが、本発
明はこれらの実施例により何ら制約されるもので
はない。
明はこれらの実施例により何ら制約されるもので
はない。
実施例 １
(1) ノボラツク樹脂の合成
500mlの三ツ口セパラブルフラスコに、ｍ−ク
レゾール75ｇおよびｐ−クレゾール25ｇを仕込ん
だ後、37重量％のホルマリン水溶液66mlおよび蓚
酸0.04ｇを添加した。撹拌しながら、セパラブル
フラスコを油浴に浸して反応温度を100℃に調節
し、10時間反応させた。反応終了後、30mmHgに
減圧して水を留去し、さらに内温を130℃に上昇
させて未反応物を除去した。次いで反応生成物で
ある溶融したアルカリ可溶性ノボラツク樹脂を室
温に戻して回収した。
レゾール75ｇおよびｐ−クレゾール25ｇを仕込ん
だ後、37重量％のホルマリン水溶液66mlおよび蓚
酸0.04ｇを添加した。撹拌しながら、セパラブル
フラスコを油浴に浸して反応温度を100℃に調節
し、10時間反応させた。反応終了後、30mmHgに
減圧して水を留去し、さらに内温を130℃に上昇
させて未反応物を除去した。次いで反応生成物で
ある溶融したアルカリ可溶性ノボラツク樹脂を室
温に戻して回収した。
(2) 感光剤の合成
遮光下で２の三ツ口セパラブルフラスコに、
モリン15.11ｇ、１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホニルクロリド67.17ｇおよびジオキ
サン800mlを仕込んで溶解させた。この溶液を撹
拌しながらトリエチルアミン30.36ｇを徐々に添
加し、室温で２時間反応させた。反応終了後、内
容物を多量の１重量％塩酸水に滴下して生成物を
沈殿させ、水洗後40℃で20時間真空乾燥してモリ
ン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ン酸ペンタエステル（以下感光剤Ａと略す）を得
た。
モリン15.11ｇ、１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホニルクロリド67.17ｇおよびジオキ
サン800mlを仕込んで溶解させた。この溶液を撹
拌しながらトリエチルアミン30.36ｇを徐々に添
加し、室温で２時間反応させた。反応終了後、内
容物を多量の１重量％塩酸水に滴下して生成物を
沈殿させ、水洗後40℃で20時間真空乾燥してモリ
ン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ン酸ペンタエステル（以下感光剤Ａと略す）を得
た。
(3) 感光性樹脂組成物の調製と評価
遮光下で(1)で得られたアルカリ可溶性ノボラツ
ク樹脂20ｇおよび(2)で得られた感光剤A5ｇを、
75ｇのジメチルホルムアミドに溶解し、孔径
0.2μmのメンブランフイルターで濾過して感光性
樹脂組成物の溶液を調製した。
ク樹脂20ｇおよび(2)で得られた感光剤A5ｇを、
75ｇのジメチルホルムアミドに溶解し、孔径
0.2μmのメンブランフイルターで濾過して感光性
樹脂組成物の溶液を調製した。
得られた溶液を、シリコン酸化膜ウエハー上
に、スピンナーで塗布した後、オーブン中、90℃
で25分間プレベークして1μm厚の感光性樹脂組成
物膜を得た。凸版印刷(株)製テストパターンマスク
をウエハーに密着し、11.6mJ／cm2の紫外線（オ
プテイカルアソシエート・インコーポレイテツド
製モデル205UVパワーメーターにより測定）を
照射し、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド
2.0重量％水溶液で20℃で60秒間現像したところ、
線幅1.0μmのパターンを解像することができた。
本発明の感光性樹脂組成物が感度および解像度に
優れていることがわかる。また未露光部の残膜率
は91％と高い値を示し、現像残りがなく、パター
ンが鮮明で現像性が極めて優れていた。また現像
後のパターンを160℃で30分間オーブン中でポス
トベークしたが、パターン崩れは観察されず、高
い耐熱性を有していた。
に、スピンナーで塗布した後、オーブン中、90℃
で25分間プレベークして1μm厚の感光性樹脂組成
物膜を得た。凸版印刷(株)製テストパターンマスク
をウエハーに密着し、11.6mJ／cm2の紫外線（オ
プテイカルアソシエート・インコーポレイテツド
製モデル205UVパワーメーターにより測定）を
照射し、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド
2.0重量％水溶液で20℃で60秒間現像したところ、
線幅1.0μmのパターンを解像することができた。
本発明の感光性樹脂組成物が感度および解像度に
優れていることがわかる。また未露光部の残膜率
は91％と高い値を示し、現像残りがなく、パター
ンが鮮明で現像性が極めて優れていた。また現像
後のパターンを160℃で30分間オーブン中でポス
トベークしたが、パターン崩れは観察されず、高
い耐熱性を有していた。
実施例 ２〜８
(1) 感光剤の合成
実施例１(2)と同様に第１表に示した天然色素と
１，２−キノンジアジドスルホニルクロリドとを
縮合反応させることによつて感光剤を合成した。
１，２−キノンジアジドスルホニルクロリドとを
縮合反応させることによつて感光剤を合成した。
■■■ 亀の甲 ［0007］ ■■■
(2) 感光性樹脂組成物の調整と評価
実施例１(1)で得たアルカリ可溶性ノボラツク樹
脂20ｇ、第２表に示す感光剤５ｇおよびジメチル
スルホキシド75ｇを用い、実施例１(3)と同様に感
光性樹脂組成物の溶液を調製し評価した。第２表
に結果を示す。第２表から本発明の感光性樹脂組
成物が感度、解像度および残膜率に優れているこ
とがわかる。またいずれの感光性樹脂組成物も実
施例１のものと同様に現像性および耐熱性が優れ
るものであつた。
脂20ｇ、第２表に示す感光剤５ｇおよびジメチル
スルホキシド75ｇを用い、実施例１(3)と同様に感
光性樹脂組成物の溶液を調製し評価した。第２表
に結果を示す。第２表から本発明の感光性樹脂組
成物が感度、解像度および残膜率に優れているこ
とがわかる。またいずれの感光性樹脂組成物も実
施例１のものと同様に現像性および耐熱性が優れ
るものであつた。
■■■ 亀の甲 ［0008］ ■■■
Claims (1)
- １ アルカリ可溶性樹脂と、１，２−キノンジア
ジド化合物とからなるポジ型感光性樹脂組成物に
おいて、１，２−キノンジアジド化合物がヒドロ
キシル基を有するα−ピロン系天然色素、ヒドロ
キシル基を有するγ−ピロン系天然色素、ヒドロ
キシル基を有するジアジン系天然色素およびヒド
ロキシル基を有するキノン系天然色素からなる群
から選ばれる化合物の１，２−キノンジアジドス
ルホン酸エステルを少なくとも１種含み、該１，
２−キノンジアジドスルホン酸エステルが前記ア
ルカリ可溶性樹脂100重量部に対し５〜100重量部
配合されていることを特徴とするポジ型感光性樹
脂組成物。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1828784A JPS60163043A (ja) | 1984-02-06 | 1984-02-06 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
| EP85300184A EP0148787A3 (en) | 1984-01-10 | 1985-01-10 | Positive type photosensitive resin composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1828784A JPS60163043A (ja) | 1984-02-06 | 1984-02-06 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60163043A JPS60163043A (ja) | 1985-08-24 |
| JPH0342656B2 true JPH0342656B2 (ja) | 1991-06-27 |
Family
ID=11967407
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1828784A Granted JPS60163043A (ja) | 1984-01-10 | 1984-02-06 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60163043A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0654381B2 (ja) * | 1985-12-24 | 1994-07-20 | 日本合成ゴム株式会社 | 集積回路作製用ポジ型レジスト |
| JPS62191848A (ja) * | 1986-02-17 | 1987-08-22 | Nec Corp | ポジレジスト材料 |
| JPS62280843A (ja) * | 1986-05-30 | 1987-12-05 | Nec Corp | 感光剤 |
| JP2639853B2 (ja) * | 1990-05-18 | 1997-08-13 | 富士写真フイルム株式会社 | 新規キノンジアジド化合物及びそれを含有する感光性組成物 |
| JP2944296B2 (ja) | 1992-04-06 | 1999-08-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版の製造方法 |
| JP3503839B2 (ja) | 1994-05-25 | 2004-03-08 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ型感光性組成物 |
| JP3278306B2 (ja) | 1994-10-31 | 2002-04-30 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ型フォトレジスト組成物 |
| JP4588551B2 (ja) * | 2005-06-16 | 2010-12-01 | 富士通株式会社 | レジスト組成物、レジストパターンの形成方法、半導体装置及びその製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE593836A (ja) * | 1959-08-05 | |||
| DE2547905C2 (de) * | 1975-10-25 | 1985-11-21 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial |
-
1984
- 1984-02-06 JP JP1828784A patent/JPS60163043A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60163043A (ja) | 1985-08-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |