JPS60163043A - ポジ型感光性樹脂組成物 - Google Patents
ポジ型感光性樹脂組成物Info
- Publication number
- JPS60163043A JPS60163043A JP1828784A JP1828784A JPS60163043A JP S60163043 A JPS60163043 A JP S60163043A JP 1828784 A JP1828784 A JP 1828784A JP 1828784 A JP1828784 A JP 1828784A JP S60163043 A JPS60163043 A JP S60163043A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- naphthoquinonediazide
- sulfonic acid
- quinonediazide
- hydroxyl group
- group
- Prior art date
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- Granted
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ポジ型感光性樹脂組成物に関し、さらに詳し
くはアルカリ可溶性樹脂と特定の１．２−キノンジアジ
ド化合物とを配合してなる、高感度、高解像度および高
残膜率を有し、かつ現像性に優れ、集積回路作製のため
の耐熱性を有するホトレジストとして好適なポジ型感光
性樹脂組成物に関する。
くはアルカリ可溶性樹脂と特定の１．２−キノンジアジ
ド化合物とを配合してなる、高感度、高解像度および高
残膜率を有し、かつ現像性に優れ、集積回路作製のため
の耐熱性を有するホトレジストとして好適なポジ型感光
性樹脂組成物に関する。
従来、集積回路を作製するためのホトレジストとしては
、環化イソプレンゴムにビスアジド化合物を配合したネ
ガ型ホトレジストが知られている。しかしこのネガ型ホ
トレジストは解像度に限界があるため、集積回路の高集
積化に十分対応できない欠点を有する。一方、このネガ
型ホトレジストに比べ、アルカリ可溶性樹脂に１．２−
キノンジアジド化合物を配合してなるポジ型ホトレジス
トは、解像度が優れているため集積回路の高集積化に十
分対応しうるものと期待されている。
、環化イソプレンゴムにビスアジド化合物を配合したネ
ガ型ホトレジストが知られている。しかしこのネガ型ホ
トレジストは解像度に限界があるため、集積回路の高集
積化に十分対応できない欠点を有する。一方、このネガ
型ホトレジストに比べ、アルカリ可溶性樹脂に１．２−
キノンジアジド化合物を配合してなるポジ型ホトレジス
トは、解像度が優れているため集積回路の高集積化に十
分対応しうるものと期待されている。
しかしながら、従来のポジ型ホトレジストは、感度、解
像度、残膜率等の諸性能において必ずしも満足な結果が
得られていない。
像度、残膜率等の諸性能において必ずしも満足な結果が
得られていない。
また従来のポジ型ホトレジストは、ポストベークあるい
はドライエツチングの工程において、温ｌ負上Ａによる
パターンの変形が起りやすく、温度上昇による変形の少
ないポジ型ホトレジス］・、すなわち耐熱性の優れたポ
ジ型ホトレジストが要求されている。
はドライエツチングの工程において、温ｌ負上Ａによる
パターンの変形が起りやすく、温度上昇による変形の少
ないポジ型ホトレジス］・、すなわち耐熱性の優れたポ
ジ型ホトレジストが要求されている。
本発明の目的は、上記従来技術の欠点を除去し、高感度
、高解像度および高残膜率を有し、かつ現像性に優れた
耐熱性を有するポジ型感光性樹脂組成物を提供すること
にある。
、高解像度および高残膜率を有し、かつ現像性に優れた
耐熱性を有するポジ型感光性樹脂組成物を提供すること
にある。
本発明者らは、この目的を達成するため鋭意研究の結果
、アルカリ可溶性樹脂に、特定の１．２−キノンジアジ
ド化合物を配合することにより、前記欠点が改良される
ことを見出して本発明に到達した。
、アルカリ可溶性樹脂に、特定の１．２−キノンジアジ
ド化合物を配合することにより、前記欠点が改良される
ことを見出して本発明に到達した。
すなわち本発明は、アルカリ可溶性樹脂と １，２−キ
ノンジアジド化合物とからなるポジ型感光性樹脂組成物
において、１，２−キノンジアジド化合物がヒドロキシ
ル基をイー１するα−ピロン系天然色素、ヒドロキシル
基を有するγ−ピロン系天然色素、ヒドロキシル基を有
するジアジン系天然色素およびヒドロキシル基を有する
キノン系天然色素からなる群から選ばれる化合物、好ま
しくはヒドロキシル基を有するγ−ピロン系天然色素の
１．２−キノンジアジドスルホン酸エステルを少なくと
も１種含み、該１．２−キノンジアジドスルホン酸エス
テルが前記アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対し５〜
１００重量部配合されていることを特徴とするポジ型感
光性樹脂組成物を提供するものである。
ノンジアジド化合物とからなるポジ型感光性樹脂組成物
において、１，２−キノンジアジド化合物がヒドロキシ
ル基をイー１するα−ピロン系天然色素、ヒドロキシル
基を有するγ−ピロン系天然色素、ヒドロキシル基を有
するジアジン系天然色素およびヒドロキシル基を有する
キノン系天然色素からなる群から選ばれる化合物、好ま
しくはヒドロキシル基を有するγ−ピロン系天然色素の
１．２−キノンジアジドスルホン酸エステルを少なくと
も１種含み、該１．２−キノンジアジドスルホン酸エス
テルが前記アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対し５〜
１００重量部配合されていることを特徴とするポジ型感
光性樹脂組成物を提供するものである。
本発明の組成物に用いられる１、２−キノンジアジドス
ルホン酸エステルは、例えば前記ヒドロキシル基を有す
るα−ピロン系天然色素、ヒドロキシル基を有するγ−
ピロン系天然色素、ヒドロキシル基を有するジアジン系
天然色素およびヒドロキシル基を有するキノン系天然色
素からなる群から選ばれる化合物のヒドロキシル基の全
部または一部を１．２−ナフトキノンジアジド−４−ス
ルホニルクロリド、１．２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホニルクロリド、１．２−ベンゾキノンジアジド
−４−スルホニルクロリド等の１，２−キノンジアジド
スルホニルクロリドと好ましくは１，２−ナフＩ・キノ
ンジアジド−５−スルホニルクロリドと、塩基性触媒の
存在下で縮合反応させ、精製することによって得ること
ができる。
ルホン酸エステルは、例えば前記ヒドロキシル基を有す
るα−ピロン系天然色素、ヒドロキシル基を有するγ−
ピロン系天然色素、ヒドロキシル基を有するジアジン系
天然色素およびヒドロキシル基を有するキノン系天然色
素からなる群から選ばれる化合物のヒドロキシル基の全
部または一部を１．２−ナフトキノンジアジド−４−ス
ルホニルクロリド、１．２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホニルクロリド、１．２−ベンゾキノンジアジド
−４−スルホニルクロリド等の１，２−キノンジアジド
スルホニルクロリドと好ましくは１，２−ナフＩ・キノ
ンジアジド−５−スルホニルクロリドと、塩基性触媒の
存在下で縮合反応させ、精製することによって得ること
ができる。
前記ヒドロキシル基を有するα−ピロン系天然色素とし
ては、例えばヒスピジン、 ２°、３°−ジオキシ−ジ
ベンズ−α−ピロン、エラグ酸、グルベルジン、オオス
ポラフトン等を挙げることができる。前記ヒドロキシル
基、（を有するγ−ピロン系天然色素としては、例えば
オイゲニン、ブラシリン、ヘマトキシリン、オイキサン
トン、ゲンチミン、クリシン、クリシンの配糖体である
トリンキン、ブリメチン、アビゲニン、アビゲニンの配
糖体であるアビイン、ルテオリン、ケルセチン、ケルセ
チンの配糖体であるケルシトリン、インケルシトリン、
ケルシトリンリン、ルチン、ヒペリン、カランギン、ケ
ンペロール、フィセチン、モリン、ラムネチン、ミリセ
チン、ソテツフラポン、ナリンゲニン、ナリンゲニンの
配糖体であるナリンジン、サクラネチン、ヘスペリチン
、アルピノン、カテキン、ダイゼイン、プルネチン、プ
ルネチンの配糖体であるプルニドリン、イリゲニン、ペ
リゲニンの配糖体であるイリジン、オサジン、ベラルゴ
ニジン、シアニジン、ロイコデルフィニジン等を挙げる
ことができる。前記ヒドロキシル基を有するジアジン系
天然色素としては、例えばキサントプテリン、ロイコプ
テリン、エントロプテリン、クリソプテリン、イオジニ
ン等を挙げることができる。前記ヒドロキシル基を有す
る革ノン系天然色素としては１例えばポリボール酸、ア
トロメンチン、ロイコメロン、ムスカルフィン、オオス
ボレイン、ニゲロン、エキツクロームＡ、スピノンＡ、
スピンクロームＮ、アリザリン、プルプリン、エモジン
、カルミン酸、ケルメス酸、スカイリン、ピロマイシン
等を挙げることができる。
ては、例えばヒスピジン、 ２°、３°−ジオキシ−ジ
ベンズ−α−ピロン、エラグ酸、グルベルジン、オオス
ポラフトン等を挙げることができる。前記ヒドロキシル
基、（を有するγ−ピロン系天然色素としては、例えば
オイゲニン、ブラシリン、ヘマトキシリン、オイキサン
トン、ゲンチミン、クリシン、クリシンの配糖体である
トリンキン、ブリメチン、アビゲニン、アビゲニンの配
糖体であるアビイン、ルテオリン、ケルセチン、ケルセ
チンの配糖体であるケルシトリン、インケルシトリン、
ケルシトリンリン、ルチン、ヒペリン、カランギン、ケ
ンペロール、フィセチン、モリン、ラムネチン、ミリセ
チン、ソテツフラポン、ナリンゲニン、ナリンゲニンの
配糖体であるナリンジン、サクラネチン、ヘスペリチン
、アルピノン、カテキン、ダイゼイン、プルネチン、プ
ルネチンの配糖体であるプルニドリン、イリゲニン、ペ
リゲニンの配糖体であるイリジン、オサジン、ベラルゴ
ニジン、シアニジン、ロイコデルフィニジン等を挙げる
ことができる。前記ヒドロキシル基を有するジアジン系
天然色素としては、例えばキサントプテリン、ロイコプ
テリン、エントロプテリン、クリソプテリン、イオジニ
ン等を挙げることができる。前記ヒドロキシル基を有す
る革ノン系天然色素としては１例えばポリボール酸、ア
トロメンチン、ロイコメロン、ムスカルフィン、オオス
ボレイン、ニゲロン、エキツクロームＡ、スピノンＡ、
スピンクロームＮ、アリザリン、プルプリン、エモジン
、カルミン酸、ケルメス酸、スカイリン、ピロマイシン
等を挙げることができる。
縮合反応における前記天然色素に対する１、２−キノン
ジアジドスルホニルクロリドの使用量は、前記天然色素
の水酸基の数によって適宜調整することができ、通常は
１．２−キノンジアジドスルホニルクロリドを縮合させ
る水酸基数１当量に対して１．２−キノンジアジドスル
ホニルクロリドをｌモル使用する。
ジアジドスルホニルクロリドの使用量は、前記天然色素
の水酸基の数によって適宜調整することができ、通常は
１．２−キノンジアジドスルホニルクロリドを縮合させ
る水酸基数１当量に対して１．２−キノンジアジドスル
ホニルクロリドをｌモル使用する。
縮合反応に使用する塩基性触媒としては、例えば水酸化
すトリウム、水酸化カリウム、炭酸すトリウム等の無機
アルカリ、ジエチルアミン、トリエチルアミン等の有機
アミン類を挙げることができる。これらの塩基性触媒の
使用縫は、使用する１、２−キノンジアジドスルホニル
クロリドに対して、通常１〜２倍モル、好ましくはｌ−
１，３倍モルである。
すトリウム、水酸化カリウム、炭酸すトリウム等の無機
アルカリ、ジエチルアミン、トリエチルアミン等の有機
アミン類を挙げることができる。これらの塩基性触媒の
使用縫は、使用する１、２−キノンジアジドスルホニル
クロリドに対して、通常１〜２倍モル、好ましくはｌ−
１，３倍モルである。
縮合反応は、通常溶媒の存在下において行うが、溶媒と
しては水、ジオキサン、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、アセＩ・ン、メチルエチルケトン等を挙げる
ことができ、前記天然色素１００重都部に対して、通常
１ｏｏ−１０００重量部を使用する。
しては水、ジオキサン、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、アセＩ・ン、メチルエチルケトン等を挙げる
ことができ、前記天然色素１００重都部に対して、通常
１ｏｏ−１０００重量部を使用する。
縮合反応温度は、使用する溶媒によって異なるが、一般
的には一２０〜６０℃、好ましくは０〜４０℃である。
的には一２０〜６０℃、好ましくは０〜４０℃である。
このようにして得られる本発明の組成物に用いる １．
２−キノンジアジドスルホン酸エステルの具体例として
は、次の化合物を挙げることができる。
２−キノンジアジドスルホン酸エステルの具体例として
は、次の化合物を挙げることができる。
ヒスピジンー１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸ジエステル、 ヒスピリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸モノエステル、 ２“３°−ジオキシ−ジベンズ−α−ピロン−１，２−
ナツトキノンジアジド−５−スルホン酸ジエステル、 エラグ酸−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ン酸テトラエステル、 エラグ酸−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ン酸トリエステル、 グルベルジン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−ス
ルホン酸モノエステル、 オオスポラクトン−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸モノエステル、 オイゲニンー１．２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸モノエステル、 ブラシリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸トリエステル、 ヘマトキシリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸ペンタエステル、 ヘマトキシリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸テトラエステル、 ヘマトキシリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸トリエステル、 ヘマトキシリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸ジエステル、 オイキサントンー１．２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸ジエステル、 ダンチミン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸ジエステル、 クリシン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ン酸ジエステル、 トリンギン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸ジエステル、 プリメチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸ジエステル、 アビゲニン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸ｉ・リエステル、 アビイン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ン酸トリエステル、 ルテオリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸トリエステル、 ケルセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸ペンタエステル、 ケルセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸テトラエステル、 ケルセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸トリエステル、 ケルセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸ジエステル、 ケルセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸モノエステル、 ケルセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スル
ホン酸テトラエステル、 ケルセチン−１，２−ベンゾキノンジアジド−４−スル
ホン酸テトラエステル、 ケルシトリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５０ −スルホン酸テトラエステル、 イソケルシトリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸テトラエステル、 ケルシメリトリンー１．２−ナフトキノンジアジド＝５
−スルホン酸テトラエステル、 ルチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン
酸ジエステル、 ピペリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ン酸テトラエステル、 カランギン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸トリエステル、 ケンベロールー １．２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸トリエステル、 クイセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸トリエステル、 モリンー １．２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ン酸テトラエステル、 モリソー１．２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン
酸ペンタエステル、 ラムネチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−１ スルホン酸トリエステル、 ミリセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸ペンタエステル、 ソテツフラポンー１．２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸テトラエステル、 ナリンゲニンー１．２−ナフトキノンジアジド−５−ス
ルホン酸トリエステル、 ナリンジンー１．２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸ジエステル、 ザクラネチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５＝ス
ルホン酸ジエステル、 ヘスペリチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−ス
ルホン酸ジエステル、 アルビノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸ジエステル、 カテキン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ン酸テトラエステル、 グイゼイン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸モノエステル、 プルネチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−２ スルホン酸ジエステル、 プルニドリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−ス
ルホン酸ジエステル、 ペリゲニンー１．２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸ジエステル。
ホン酸ジエステル、 ヒスピリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸モノエステル、 ２“３°−ジオキシ−ジベンズ−α−ピロン−１，２−
ナツトキノンジアジド−５−スルホン酸ジエステル、 エラグ酸−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ン酸テトラエステル、 エラグ酸−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ン酸トリエステル、 グルベルジン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−ス
ルホン酸モノエステル、 オオスポラクトン−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸モノエステル、 オイゲニンー１．２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸モノエステル、 ブラシリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸トリエステル、 ヘマトキシリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸ペンタエステル、 ヘマトキシリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸テトラエステル、 ヘマトキシリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸トリエステル、 ヘマトキシリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸ジエステル、 オイキサントンー１．２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸ジエステル、 ダンチミン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸ジエステル、 クリシン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ン酸ジエステル、 トリンギン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸ジエステル、 プリメチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸ジエステル、 アビゲニン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸ｉ・リエステル、 アビイン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ン酸トリエステル、 ルテオリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸トリエステル、 ケルセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸ペンタエステル、 ケルセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸テトラエステル、 ケルセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸トリエステル、 ケルセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸ジエステル、 ケルセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸モノエステル、 ケルセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スル
ホン酸テトラエステル、 ケルセチン−１，２−ベンゾキノンジアジド−４−スル
ホン酸テトラエステル、 ケルシトリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５０ −スルホン酸テトラエステル、 イソケルシトリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸テトラエステル、 ケルシメリトリンー１．２−ナフトキノンジアジド＝５
−スルホン酸テトラエステル、 ルチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン
酸ジエステル、 ピペリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ン酸テトラエステル、 カランギン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸トリエステル、 ケンベロールー １．２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸トリエステル、 クイセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸トリエステル、 モリンー １．２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ン酸テトラエステル、 モリソー１．２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン
酸ペンタエステル、 ラムネチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−１ スルホン酸トリエステル、 ミリセチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸ペンタエステル、 ソテツフラポンー１．２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸テトラエステル、 ナリンゲニンー１．２−ナフトキノンジアジド−５−ス
ルホン酸トリエステル、 ナリンジンー１．２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸ジエステル、 ザクラネチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５＝ス
ルホン酸ジエステル、 ヘスペリチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−ス
ルホン酸ジエステル、 アルビノン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸ジエステル、 カテキン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ン酸テトラエステル、 グイゼイン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸モノエステル、 プルネチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−２ スルホン酸ジエステル、 プルニドリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−ス
ルホン酸ジエステル、 ペリゲニンー１．２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸ジエステル。
イリジン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ン酸ジエステル、 オサジン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ン酸ジエステル、 ベラルゴニジンー１．２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸トリエステル、 シアニジン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸テトラエステル、 ロイコデルフィニジンー１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸ペンタエステル、キサントプテリン−
１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸ジエス
テル、 ロイコプテリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸トリエステル、 エントロプテリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸トリエステル、 クリソプテリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸ジエステル、 イオジニンー１．２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸ジエステル、 ポリボール酸−１，２−ナフトキノンジアジド−５−ス
ルホン酸ジエステル、 アトロメンチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸トリエステル、 ロイコメロン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−ス
ルホン酸トリエステル、 ムスカルフィンー１．２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸ジエステル、 オオスボレインー１．２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸トリエステル、 ニゲロン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ン酸モノエステル、 エキツクロームＡ−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸テトラエステル。
ン酸ジエステル、 オサジン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ン酸ジエステル、 ベラルゴニジンー１．２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸トリエステル、 シアニジン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸テトラエステル、 ロイコデルフィニジンー１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸ペンタエステル、キサントプテリン−
１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸ジエス
テル、 ロイコプテリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸トリエステル、 エントロプテリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸トリエステル、 クリソプテリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸ジエステル、 イオジニンー１．２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸ジエステル、 ポリボール酸−１，２−ナフトキノンジアジド−５−ス
ルホン酸ジエステル、 アトロメンチン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸トリエステル、 ロイコメロン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−ス
ルホン酸トリエステル、 ムスカルフィンー１．２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸ジエステル、 オオスボレインー１．２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸トリエステル、 ニゲロン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ン酸モノエステル、 エキツクロームＡ−１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸テトラエステル。
スビノンＡ−１，２−ナフトキノンジアジド−５−４
スルホン酸テトラエステル、
スピノクロームＮ−１，２−す７トギノンジアジ］・＝
５−スルホン酸トリエステル、 アリザリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸ジエステル、 プルプリン−１，２−す７トキノンジアジドー５−スル
ホン酸ジエステル、 エモジンー１，２−ナフＩ・キノンジアジド−５−スル
ホン酸ジエステル、 カルミン酸−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸トリエステル、 ケルメス酸−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸トリエステル、 スカイリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸へキサエステル、 ピロマイシン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−ス
ルホン酸トリエステル、 これらの１．２−キノンジアジドスルホン酸エステルは
、１種単独でも２種以−にの組合せででも本発明の組成
物に用いることができる。
５−スルホン酸トリエステル、 アリザリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸ジエステル、 プルプリン−１，２−す７トキノンジアジドー５−スル
ホン酸ジエステル、 エモジンー１，２−ナフＩ・キノンジアジド−５−スル
ホン酸ジエステル、 カルミン酸−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸トリエステル、 ケルメス酸−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸トリエステル、 スカイリン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸へキサエステル、 ピロマイシン−１，２−ナフトキノンジアジド−５−ス
ルホン酸トリエステル、 これらの１．２−キノンジアジドスルホン酸エステルは
、１種単独でも２種以−にの組合せででも本発明の組成
物に用いることができる。
５
本発明の組成物において、前記の１，２−キノンジアジ
ドスルホン酸エステルが添加されるアルカリ可溶性樹脂
は、特に限定されないが、例えばフェノール、クレゾー
ル、キシレノール、フェニルフェノール等のフェノール
類とホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、フルフ
ラール、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド等のアル
デヒド類とから得られるノボラック樹脂、ヒドロキシス
チレン系重合体、アミノスチレン系重合体、千ジオレフ
ィン化合物およびエチレン性不飽和カルボン酸の共重合
体等が挙げられる。
ドスルホン酸エステルが添加されるアルカリ可溶性樹脂
は、特に限定されないが、例えばフェノール、クレゾー
ル、キシレノール、フェニルフェノール等のフェノール
類とホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、フルフ
ラール、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド等のアル
デヒド類とから得られるノボラック樹脂、ヒドロキシス
チレン系重合体、アミノスチレン系重合体、千ジオレフ
ィン化合物およびエチレン性不飽和カルボン酸の共重合
体等が挙げられる。
本発明の組成物における前記１．２−キノンジアジドス
ルホン酸エステルの配合量は、アルカリ可溶性樹脂１０
０重着部に対して５〜１００重量部、好ましくは１０〜
５０重級部である。この配合量が５重量部未満の場合に
は、得られる組成物の解像度が悪く、また現像後の残膜
率が不十分で、かつ耐熱性が悪くなるために得られるパ
ターンが熱で変形しやすくなる。一方この配合量が１０
０重量部を超える場合には、高感度の組成物を得ること
ができ６ ない。
ルホン酸エステルの配合量は、アルカリ可溶性樹脂１０
０重着部に対して５〜１００重量部、好ましくは１０〜
５０重級部である。この配合量が５重量部未満の場合に
は、得られる組成物の解像度が悪く、また現像後の残膜
率が不十分で、かつ耐熱性が悪くなるために得られるパ
ターンが熱で変形しやすくなる。一方この配合量が１０
０重量部を超える場合には、高感度の組成物を得ること
ができ６ ない。
本発明の組成物は、前記１，２−キノンジアジドスルホ
ン酸エステル以外の１．２−キノンジアジド化合物を、
例えばアルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して１００
重星部具下、好ましくは５０重置部以下、特に好ましく
は２０重縦部以下の割合で配合することができる。これ
らの１．２−キノンジアジド化合物としては、例えば下
記一般式（Ｉ）（式中ｎは１〜３の整数、凡はアルキル
基、アリール基またはアラルキル基を意味する）で表わ
される化合物のヒドロキシル基の全部または一部に、
１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホニルクロリ
ド、 １．２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニル
クロリドまたは１．２−ベンゾキノンジアジド−４−ス
ルホニルクロリド等を縮合反応させて得られる化合物が
挙げられる。この一般式（Ｉ）で表わされる化合物の其
体例としては、２゜３．４−トリヒドロキシフェニルメ
チルケトン、２゜３．４−１リヒドロキシフエニルエチ
ルケトン、２゜３．４−１リヒドロキシフエニルブチル
ケトン、２゜３．４−トリヒドロキシフェニル−ｎ−へ
キシルケトン、３，４．５−トリヒドロキシフェニルメ
チルケトン、３，４．５−トリヒドロキシフェニルエチ
ルケトン、３，４．５− トリヒドロキシフェニルブチ
ルケトン、３，４．５− トリヒドロキシフェニル−ｎ
−へキシルケトン、２，４．８− ）リヒドロキシフェ
ニルメチルケトン、２，４．８−１リヒドロキシフエニ
ルエチルケトン、２，４．８− ）リヒドロキシフェニ
ルブチルケトン、２，４．６−トリヒドロキシフエニル
ーｎ−へキシルケトン、 ２，３．４− トリヒドロキ
シフェニルデシルケトン、２，３．４− ）リヒドロキ
シフェニルドデシルケトン、２，３．４− トリヒドロ
キシベンゾフェノン、２，４．８− ） ！Ｊヒドロキ
シヘンシフエノン、 ２，３．４− トリヒドロキシフ
ェニルへンジルケトン、３，４．５− トリヒドロキシ
へンジルケトン、 ２，４．８− ）リヒドロキシフェ
ニルベンジルケトン等が挙げられる（米国特許第３０４
８１１８号および特公昭３７−１８０１５号明細書）。
ン酸エステル以外の１．２−キノンジアジド化合物を、
例えばアルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して１００
重星部具下、好ましくは５０重置部以下、特に好ましく
は２０重縦部以下の割合で配合することができる。これ
らの１．２−キノンジアジド化合物としては、例えば下
記一般式（Ｉ）（式中ｎは１〜３の整数、凡はアルキル
基、アリール基またはアラルキル基を意味する）で表わ
される化合物のヒドロキシル基の全部または一部に、
１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホニルクロリ
ド、 １．２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニル
クロリドまたは１．２−ベンゾキノンジアジド−４−ス
ルホニルクロリド等を縮合反応させて得られる化合物が
挙げられる。この一般式（Ｉ）で表わされる化合物の其
体例としては、２゜３．４−トリヒドロキシフェニルメ
チルケトン、２゜３．４−１リヒドロキシフエニルエチ
ルケトン、２゜３．４−１リヒドロキシフエニルブチル
ケトン、２゜３．４−トリヒドロキシフェニル−ｎ−へ
キシルケトン、３，４．５−トリヒドロキシフェニルメ
チルケトン、３，４．５−トリヒドロキシフェニルエチ
ルケトン、３，４．５− トリヒドロキシフェニルブチ
ルケトン、３，４．５− トリヒドロキシフェニル−ｎ
−へキシルケトン、２，４．８− ）リヒドロキシフェ
ニルメチルケトン、２，４．８−１リヒドロキシフエニ
ルエチルケトン、２，４．８− ）リヒドロキシフェニ
ルブチルケトン、２，４．６−トリヒドロキシフエニル
ーｎ−へキシルケトン、 ２，３．４− トリヒドロキ
シフェニルデシルケトン、２，３．４− ）リヒドロキ
シフェニルドデシルケトン、２，３．４− トリヒドロ
キシベンゾフェノン、２，４．８− ） ！Ｊヒドロキ
シヘンシフエノン、 ２，３．４− トリヒドロキシフ
ェニルへンジルケトン、３，４．５− トリヒドロキシ
へンジルケトン、 ２，４．８− ）リヒドロキシフェ
ニルベンジルケトン等が挙げられる（米国特許第３０４
８１１８号および特公昭３７−１８０１５号明細書）。
また例えば２，４．２’、４’−テトラヒドロキシ−６
゜６゛−ジメチル−ジフェニルメタン、 ２，８．２’
、θ゛−テトラヒドロキシー３．５，３°、５゛−テ
トラクロル−ジフェニルメタン、２，２゛−ジヒドロキ
シ−４，４’−ジメチル−ジフェニルメタン−（１，１
） 、 ２．２’−ジヒドロキシ−４，４′−ジメＩ・
キシ−ジフェニルエタン−（１，１）、 ２，４．２′
、４′−テトラヒドロギシージフェニルエタンー（１，
１） 、 ２，２°−ジヒドロキシ−４，４“−ジメト
キシ−トリフェニルメタン、２，２°−ジヒドロキシ−
ジナフチルメタン、 ２，４．２’ 、４“−テトラヒ
ドロキシ−ジフェニルスルフィド、 ２゜４．２’、４
°−テトラヒドロキシ−ジフェニルスルホキシド、２，
４．２’ 、４°−テｉ・ラヒドロキシー８，８’−ジ
メチル−ジフェニルエタン−（１，１）、 ２，４．２
′。
゜６゛−ジメチル−ジフェニルメタン、 ２，８．２’
、θ゛−テトラヒドロキシー３．５，３°、５゛−テ
トラクロル−ジフェニルメタン、２，２゛−ジヒドロキ
シ−４，４’−ジメチル−ジフェニルメタン−（１，１
） 、 ２．２’−ジヒドロキシ−４，４′−ジメＩ・
キシ−ジフェニルエタン−（１，１）、 ２，４．２′
、４′−テトラヒドロギシージフェニルエタンー（１，
１） 、 ２，２°−ジヒドロキシ−４，４“−ジメト
キシ−トリフェニルメタン、２，２°−ジヒドロキシ−
ジナフチルメタン、 ２，４．２’ 、４“−テトラヒ
ドロキシ−ジフェニルスルフィド、 ２゜４．２’、４
°−テトラヒドロキシ−ジフェニルスルホキシド、２，
４．２’ 、４°−テｉ・ラヒドロキシー８，８’−ジ
メチル−ジフェニルエタン−（１，１）、 ２，４．２
′。
４°−テトラヒドロキシ−６，６゛−ジカルポメトキシ
ージフェニルメタン、２，４．２’ 、４°−テトラヒ
ドロキシ−６，６°−ジメチル−トリフェニルメタン、
２゜４．２’、４’ −テトラヒドロキシ−ジフェニル
プロパ９ ンー（１，１） 、２，４，２°、４′ −テトラヒド
ロキシ−ジフェニル−ｎ−ブタ７−（１，１）、２，４
，２°、４°−ペンタヒドロキシ−トリフェニルメタン
、 ２＋４１２’１４′−テトラヒドロキシ−ジフェニ
ルシクロヘキサン−（１，１） 、 ２，２°−ジヒド
ロキシ−４，４°−ジメトキシ−ジフェニルメタン、２
，４．２°、４°−テトラヒドロキシ−ジフェニルペン
タン−（１，１）、 ２，４゜２°、４′ −テトラヒ
ドロキシ−ジフェニルプロパン−（２，２） 、 ２，
４．２°、４′−テトラヒドロキシ−トリフェニルメタ
ン、２，２°−ジヒドロキシ−５，５°−ジブロム−ジ
フェニルメタン、２，２°−ジヒドロキシ−５，５°−
ジクロル−ジフェニルエタン−（１，１）、２．２°−
ジヒドロキシ−５，５′−ジブロム−ジフェニルエタン
−（１，１）等を１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホニルクロリド、１，２−ナフトキノンジアジド−
４−スルホニルクロリドまたは１，２−ベンゾキノンジ
アジド−４−スルホニルクロリド等と縮合反応させて得
られる１、２−キノンジアジドスルホン酸エステル（特
公昭３７−１９５３号公報）を配合することもできる。
ージフェニルメタン、２，４．２’ 、４°−テトラヒ
ドロキシ−６，６°−ジメチル−トリフェニルメタン、
２゜４．２’、４’ −テトラヒドロキシ−ジフェニル
プロパ９ ンー（１，１） 、２，４，２°、４′ −テトラヒド
ロキシ−ジフェニル−ｎ−ブタ７−（１，１）、２，４
，２°、４°−ペンタヒドロキシ−トリフェニルメタン
、 ２＋４１２’１４′−テトラヒドロキシ−ジフェニ
ルシクロヘキサン−（１，１） 、 ２，２°−ジヒド
ロキシ−４，４°−ジメトキシ−ジフェニルメタン、２
，４．２°、４°−テトラヒドロキシ−ジフェニルペン
タン−（１，１）、 ２，４゜２°、４′ −テトラヒ
ドロキシ−ジフェニルプロパン−（２，２） 、 ２，
４．２°、４′−テトラヒドロキシ−トリフェニルメタ
ン、２，２°−ジヒドロキシ−５，５°−ジブロム−ジ
フェニルメタン、２，２°−ジヒドロキシ−５，５°−
ジクロル−ジフェニルエタン−（１，１）、２．２°−
ジヒドロキシ−５，５′−ジブロム−ジフェニルエタン
−（１，１）等を１，２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホニルクロリド、１，２−ナフトキノンジアジド−
４−スルホニルクロリドまたは１，２−ベンゾキノンジ
アジド−４−スルホニルクロリド等と縮合反応させて得
られる１、２−キノンジアジドスルホン酸エステル（特
公昭３７−１９５３号公報）を配合することもできる。
０
さらに、特公昭３７−３８２７号公報、同３７−１３１
０９号公報、同４０−２６１２６号公報、同４０−３８
０１号公報、同４５−５８０４号公報、同４５−２７３
４５号公報、同５１−１３０１３号公報、特開昭４８−
９８５７５号公報、同４８−Ｅ１３８０２号公報、同４
８−ｆ１３８０３号公報、同５８−７５１４９号公報等
に記載された、 １．２−キノンジアジド化合物も使用
することができる。
０９号公報、同４０−２６１２６号公報、同４０−３８
０１号公報、同４５−５８０４号公報、同４５−２７３
４５号公報、同５１−１３０１３号公報、特開昭４８−
９８５７５号公報、同４８−Ｅ１３８０２号公報、同４
８−ｆ１３８０３号公報、同５８−７５１４９号公報等
に記載された、 １．２−キノンジアジド化合物も使用
することができる。
さらに下記一般式（ＩＴ）、
下記一般式（ｍ）、
（一般式（ＩＩ）および（ｍ）において、ａおよびｂは
同一または異なり、３または４の整数、見およびｍは同
一または異なり、Ｏまたは１〜３の整数、Ｃは１〜４の
整数、ｎは０または１〜３の整数を意味し、また（ａ−
楚） 、 （ｂ−ｍ）および（ｃ−ｎ）はいずれもｌ以
」−の整数、Ｒ，、Ｒｓおよび山は同一または異なり、
１．２−ナフトキノンジアジド−４−スルホニル基、１
，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニル基または
１，２−ベンゾキノンジアジド−４−スルホニル基、Ｒ
２，Ｒ，、Ｒ，およびＲ１は同一または異なり、水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラルキ
ル基、アルコキシ基、シアン基またはニトロ基、ｆＬ、
Ｌ、Ｒ，および亀は同一または異なり、水素原子、アル
キル基、アリール基またはアラルキル基を意味し、烏お
よびＲ４ならびに九および＆は炭素−炭素結合またはエ
ーテル結合で環を形成することができる）下記一般式（
ｒＩｒ）、 （一般式（ＩＶ）において、ｎは２〜４の整数、文はＯ
または１〜３の整数、ｍは１〜４の整数、ｋは１〜４の
整数、かつに十見十ｍ＝５であり、＆は １，２−ナフ
トキノンジアジド−４−スルホニル基、１，２−ナフト
キノンジアジド−５−スルホニル基、または１．２−ベ
ンゾキノンジアジド−４−スルホニル基、ルは水素原子
、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラルキル
基、アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基、Ｚはメタ
ンまたは芳香族化合物の残基を意味する）、 下記一般式（Ｖ）、 または下記一般式（ＶＩ）、 （一般式（Ｖ）および（Ｖｌ）において、ａ、ｂおよび
Ｃは１〜４の整数であってａとｂは同一または異なり、
ｌ、ｒｍおよびｎはＯまたは１〜３の整数であって文と
ｍは同一または異なり、 （ａ−４１）、 （ｂ−鵬）
および（ｃ−ｎ）は】以］−の整数、Ｒ１，Ｒ２および
亀は１．２−ナフトキノンジアジド−４−スルホニル３ 基、１．２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニル基
または１．２−ベンゾキノンジアジド−４−スルホニル
基であって民と烏は同一または異なり、Ｒ３＋Ｒ４およ
びＲ，は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリー
ル基、アラルキル基、アルコキシ基、シアノ基またはニ
トロ基であって山と艮は同一または異なり、Ｒ７はアル
キル基、アリール基またはアラルギル基、Ｚは置換基を
有するかもしくは有しないアルキレン基またはオギサア
ルキレン基を意味する）で表わされる１、２−キノンジ
アジド化合物も使用することができる。
同一または異なり、３または４の整数、見およびｍは同
一または異なり、Ｏまたは１〜３の整数、Ｃは１〜４の
整数、ｎは０または１〜３の整数を意味し、また（ａ−
楚） 、 （ｂ−ｍ）および（ｃ−ｎ）はいずれもｌ以
」−の整数、Ｒ，、Ｒｓおよび山は同一または異なり、
１．２−ナフトキノンジアジド−４−スルホニル基、１
，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニル基または
１，２−ベンゾキノンジアジド−４−スルホニル基、Ｒ
２，Ｒ，、Ｒ，およびＲ１は同一または異なり、水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラルキ
ル基、アルコキシ基、シアン基またはニトロ基、ｆＬ、
Ｌ、Ｒ，および亀は同一または異なり、水素原子、アル
キル基、アリール基またはアラルキル基を意味し、烏お
よびＲ４ならびに九および＆は炭素−炭素結合またはエ
ーテル結合で環を形成することができる）下記一般式（
ｒＩｒ）、 （一般式（ＩＶ）において、ｎは２〜４の整数、文はＯ
または１〜３の整数、ｍは１〜４の整数、ｋは１〜４の
整数、かつに十見十ｍ＝５であり、＆は １，２−ナフ
トキノンジアジド−４−スルホニル基、１，２−ナフト
キノンジアジド−５−スルホニル基、または１．２−ベ
ンゾキノンジアジド−４−スルホニル基、ルは水素原子
、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラルキル
基、アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基、Ｚはメタ
ンまたは芳香族化合物の残基を意味する）、 下記一般式（Ｖ）、 または下記一般式（ＶＩ）、 （一般式（Ｖ）および（Ｖｌ）において、ａ、ｂおよび
Ｃは１〜４の整数であってａとｂは同一または異なり、
ｌ、ｒｍおよびｎはＯまたは１〜３の整数であって文と
ｍは同一または異なり、 （ａ−４１）、 （ｂ−鵬）
および（ｃ−ｎ）は】以］−の整数、Ｒ１，Ｒ２および
亀は１．２−ナフトキノンジアジド−４−スルホニル３ 基、１．２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニル基
または１．２−ベンゾキノンジアジド−４−スルホニル
基であって民と烏は同一または異なり、Ｒ３＋Ｒ４およ
びＲ，は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリー
ル基、アラルキル基、アルコキシ基、シアノ基またはニ
トロ基であって山と艮は同一または異なり、Ｒ７はアル
キル基、アリール基またはアラルギル基、Ｚは置換基を
有するかもしくは有しないアルキレン基またはオギサア
ルキレン基を意味する）で表わされる１、２−キノンジ
アジド化合物も使用することができる。
に記一般式（ＩＩ）で表わされる１、２−キノンジアジ
ド化合物は、例えばジ（２，３，４−トリヒドロキシフ
ェニル）メタン、 １．１−ジ（２，３，４−トリヒド
ロキシフェニル）プロパン、２，２−ジ（２，３，４−
トリヒドロキシフェニル）プロパン、ｌ、１−ジ（２゜
３．４−１−ジヒドロキシフェニル）ブタン、 １．１
−ジ（２，３，４−１−ジヒドロキシシクロヘキサン、
ｌ、１−ジ（２，３，４−）ジヒドロキシ）−４−オギ
サシクロヘキサン、ジ（２，４，８−）リヒドロキシフ
ェニ４ ル）メタン、 １．１−ジ（２，４，６−１−ジヒドロ
キシフェニル）プロパン、 ２．２−ジ（２，４，６−
トリヒドロキシフェニル）プロパン、 １．１−ジ（２
，４，６−トリヒドロキシフェニル）ブタン、 １．１
−ジ（２，４，ｆｌ−トリヒドロキシフェニル）シクロ
ヘキサン、 １．１−ジ（２，４，６−トリヒドロキシ
フェニル）−４−オギサシクロヘキサン、ジ（２，３，
４−）リヒドロキシ＝５−ブロモフェニル）メタン、
２，２−ジ（２，４，Ｂ−トリヒドロキシ−３−クロロ
フェニル）プロパン、ジ（２，３，４−）ジヒドロキシ
−５−メチルフェニル）メタン、２．２−（２，４，６
−トリヒドロキシ−３−） チｊｌｚ）プロパン、ジ（
２，３，４−）ジヒドロキシ−５−シアノフェニル）メ
タン、２．２−ジ（２゜４．８−）ジヒドロキシ−３−
二トロフエニル）フロパン、ジ（１，２，３，４−テト
ラヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ジ（１，２，
３，５−テトラヒドロキシフェニル）プロパン等のポリ
ヒドロキシ化合物と １．２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホニルクロリド、 １．２−ナフトキノンシア
シト−４−スルホニルクロリドまたは１．２−ベンゾキ
ノンジアジド−４−スルホニルクロリドとを当量比０．
１２５〜１で縮合することにより得ることができる。
ド化合物は、例えばジ（２，３，４−トリヒドロキシフ
ェニル）メタン、 １．１−ジ（２，３，４−トリヒド
ロキシフェニル）プロパン、２，２−ジ（２，３，４−
トリヒドロキシフェニル）プロパン、ｌ、１−ジ（２゜
３．４−１−ジヒドロキシフェニル）ブタン、 １．１
−ジ（２，３，４−１−ジヒドロキシシクロヘキサン、
ｌ、１−ジ（２，３，４−）ジヒドロキシ）−４−オギ
サシクロヘキサン、ジ（２，４，８−）リヒドロキシフ
ェニ４ ル）メタン、 １．１−ジ（２，４，６−１−ジヒドロ
キシフェニル）プロパン、 ２．２−ジ（２，４，６−
トリヒドロキシフェニル）プロパン、 １．１−ジ（２
，４，６−トリヒドロキシフェニル）ブタン、 １．１
−ジ（２，４，ｆｌ−トリヒドロキシフェニル）シクロ
ヘキサン、 １．１−ジ（２，４，６−トリヒドロキシ
フェニル）−４−オギサシクロヘキサン、ジ（２，３，
４−）リヒドロキシ＝５−ブロモフェニル）メタン、
２，２−ジ（２，４，Ｂ−トリヒドロキシ−３−クロロ
フェニル）プロパン、ジ（２，３，４−）ジヒドロキシ
−５−メチルフェニル）メタン、２．２−（２，４，６
−トリヒドロキシ−３−） チｊｌｚ）プロパン、ジ（
２，３，４−）ジヒドロキシ−５−シアノフェニル）メ
タン、２．２−ジ（２゜４．８−）ジヒドロキシ−３−
二トロフエニル）フロパン、ジ（１，２，３，４−テト
ラヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ジ（１，２，
３，５−テトラヒドロキシフェニル）プロパン等のポリ
ヒドロキシ化合物と １．２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホニルクロリド、 １．２−ナフトキノンシア
シト−４−スルホニルクロリドまたは１．２−ベンゾキ
ノンジアジド−４−スルホニルクロリドとを当量比０．
１２５〜１で縮合することにより得ることができる。
」二記一般式（ｍ）で表わされる１、２−キノンジアジ
ド化合物は、例えば２，３．４− トリヒドロキシジフ
ェニルメタン、 ２，４．８−１−ジヒドロキシジフェ
ニルメタン、２，３．４− ）ジヒドロキシ−５−クロ
ロジフェニルメタン、２，４．Ｂ−）ジヒドロキシ−３
−ブロモジフェニルメタン、２，３．４−）ジヒドロキ
シ−５−メチルジフェニルメタン、２，４゜６−ドリヒ
ドロキシー３−シアノジフェニルメタン、 ２，３．４
− トリヒドロキシ−５−ニトロジフェニルメタン、
２，３．４− ）ジヒドロキシ−４°−メチルジフエニ
ルメタン、２，４．６− トリヒドロキシ−４゛−メチ
ルジフェニルメタン、２，３．４− ）ジヒドロキシ−
４°−ｔ−ブチルジフエニルメタン、２，３゜４．５−
テトラヒドロキシジフェニルメタン、２，３゜４．６−
テＩ・ラヒドロキシジフェニルメタン、 ２，５−ジヒ
ドロキシジフェニルメタン、２，４−ジヒドロキシジフ
ェニルメタン、２．４−ジヒドロキシ−４°−メチルジ
フェニルメタン、 ２．５−ジヒドロキシー４′−ｔ−
ブチルジフェニルメタン、 ２−（２゜３．４−）ジヒ
ドロキシフェニル）−２−フェニルプロパン、 ２−
（２，４，６−）ジヒドロキシフェニル）−２−フェニ
ルプロパン、 ２−（２，３，４−トリヒドロキシ−５
−クロロフェニル）−２−フェニルプロパン、２−（２
，３，４４リヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２−
フェニルプロパン、 ２−（２，４，８−トリヒドロキ
シ−３−シアノフェニル）−２−フェニルプロパン、２
−（２，３，４−）リヒドロキシー５−二トロフェニル
）−２−フェニルプロパン、２−（２，３，４−）ジヒ
ドロキシフェニル）−２−（ｐ−トリル）プロパン、
２−（２，４，６−）ジヒドロキシフェニル）−２−（
４−ｔ−ブチルフェニル）プロパン、２−（２，３，４
，５〜テトラヒドロキシフエニル）−２−フェニルプロ
パン、 ２−（２，３，４，８−テトラヒドロキシ）−
２−フェニルプロパン、２−（２，５−ジヒドロキシフ
ェニル）−２−フェニルプロパン、２−（２，４−ジヒ
ドロキシフェニル）−２−フェニルプロパン、２−（２
，４−ジヒドロキシフェニル）−２−（ｐ−１リル）フ
ロ７ パン等のポリヒドロキシ化合物と１．２−ナフトキノン
ジアジド−５−スルホニルクロリド、 １，２−ナ７ト
キノンジアジド−４−スルホニルクロリドまたは１．２
−ベンゾキノンジアジド−４−スルホニルクロリドとを
当量比０．２５〜ｌで縮合することによりｌ）ることか
できる。
ド化合物は、例えば２，３．４− トリヒドロキシジフ
ェニルメタン、 ２，４．８−１−ジヒドロキシジフェ
ニルメタン、２，３．４− ）ジヒドロキシ−５−クロ
ロジフェニルメタン、２，４．Ｂ−）ジヒドロキシ−３
−ブロモジフェニルメタン、２，３．４−）ジヒドロキ
シ−５−メチルジフェニルメタン、２，４゜６−ドリヒ
ドロキシー３−シアノジフェニルメタン、 ２，３．４
− トリヒドロキシ−５−ニトロジフェニルメタン、
２，３．４− ）ジヒドロキシ−４°−メチルジフエニ
ルメタン、２，４．６− トリヒドロキシ−４゛−メチ
ルジフェニルメタン、２，３．４− ）ジヒドロキシ−
４°−ｔ−ブチルジフエニルメタン、２，３゜４．５−
テトラヒドロキシジフェニルメタン、２，３゜４．６−
テＩ・ラヒドロキシジフェニルメタン、 ２，５−ジヒ
ドロキシジフェニルメタン、２，４−ジヒドロキシジフ
ェニルメタン、２．４−ジヒドロキシ−４°−メチルジ
フェニルメタン、 ２．５−ジヒドロキシー４′−ｔ−
ブチルジフェニルメタン、 ２−（２゜３．４−）ジヒ
ドロキシフェニル）−２−フェニルプロパン、 ２−
（２，４，６−）ジヒドロキシフェニル）−２−フェニ
ルプロパン、 ２−（２，３，４−トリヒドロキシ−５
−クロロフェニル）−２−フェニルプロパン、２−（２
，３，４４リヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２−
フェニルプロパン、 ２−（２，４，８−トリヒドロキ
シ−３−シアノフェニル）−２−フェニルプロパン、２
−（２，３，４−）リヒドロキシー５−二トロフェニル
）−２−フェニルプロパン、２−（２，３，４−）ジヒ
ドロキシフェニル）−２−（ｐ−トリル）プロパン、
２−（２，４，６−）ジヒドロキシフェニル）−２−（
４−ｔ−ブチルフェニル）プロパン、２−（２，３，４
，５〜テトラヒドロキシフエニル）−２−フェニルプロ
パン、 ２−（２，３，４，８−テトラヒドロキシ）−
２−フェニルプロパン、２−（２，５−ジヒドロキシフ
ェニル）−２−フェニルプロパン、２−（２，４−ジヒ
ドロキシフェニル）−２−フェニルプロパン、２−（２
，４−ジヒドロキシフェニル）−２−（ｐ−１リル）フ
ロ７ パン等のポリヒドロキシ化合物と１．２−ナフトキノン
ジアジド−５−スルホニルクロリド、 １，２−ナ７ト
キノンジアジド−４−スルホニルクロリドまたは１．２
−ベンゾキノンジアジド−４−スルホニルクロリドとを
当量比０．２５〜ｌで縮合することによりｌ）ることか
できる。
１：記一般式（ＩＴ）または（ｍ）で表わされる１、２
−キノンジアジド化合物に関する詳細は、本出願人の昭
和５８年１２月６日付出願に記載されている。
−キノンジアジド化合物に関する詳細は、本出願人の昭
和５８年１２月６日付出願に記載されている。
上記一般式（ＩＶ）で表わされる１、２−キノンジアジ
ド化合物は、例えば、ｐ−ビス（４−ヒドロキシベンゾ
イル）ベンゼン、ｐ−ビス（２，５−ジヒドロキシベン
ゾイル）ベンゼン、ｐ−ビス（２，３，４−トリヒドロ
キシベンゾイル）ベンゼン、ｍ−ビス（２，４，８−ト
リヒドロキシベンゾイル）ベンゼン、ｐ−ビス（４−ヒ
ドロキシ−３−クロロベンゾイル）ベンゼン、ｐ−ビス
（２，３，４−）リヒドロキシー５−メチルベンゾイル
）ベンゼン、ｐ−ビス（２，４，８−トリヒドロキシ−
３−ニトロベンシイ８ ル）ベンゼン、ｐ−ビス（２，３，４−トリヒドロキシ
−５−シアノベンゾイル）ベンゼン、 １，３．５−１
−リス（２，５−ジヒドロキシベンゾイル）ベンゼン、
１．２．３− トリス（２，３，４−トリヒドロキシへ
ンゾイル）ベンゼン、 １，２．４− トリス（２，４
，Ｂ−１−ジヒドロキシベンゾイル）ベンゼン、 １，
２，４．５−テトラキス（２，３，４−トリヒドロキシ
ベンゾイル）ベンゼン、α、α１−ビス（２，３，４−
トリヒドロキシベンゾイル）−ｐ−キシレン、α、α１
．α゛−トリス（２，３，４−トリヒドロキシベンゾイ
ル）メシチレン、 １．２−ビス（２，３，４−トリヒ
ドロキシベンゾイル）ナフタレン等のポリヒドロキシ化
合物と １．２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニ
ルクロリド、 １．２−ナフトキノンジアジド−４−ス
ルホニルクロリドまたは１，２−ベンゾキノンジアジド
−４−スルホニルクロリドとを当量比０．０８３〜ｌで
縮合することにより得ることができ、詳細は本出願人の
特願昭５８−２４３５８３号（昭和５８年１２月２３日
付出願）に記載されている。
ド化合物は、例えば、ｐ−ビス（４−ヒドロキシベンゾ
イル）ベンゼン、ｐ−ビス（２，５−ジヒドロキシベン
ゾイル）ベンゼン、ｐ−ビス（２，３，４−トリヒドロ
キシベンゾイル）ベンゼン、ｍ−ビス（２，４，８−ト
リヒドロキシベンゾイル）ベンゼン、ｐ−ビス（４−ヒ
ドロキシ−３−クロロベンゾイル）ベンゼン、ｐ−ビス
（２，３，４−）リヒドロキシー５−メチルベンゾイル
）ベンゼン、ｐ−ビス（２，４，８−トリヒドロキシ−
３−ニトロベンシイ８ ル）ベンゼン、ｐ−ビス（２，３，４−トリヒドロキシ
−５−シアノベンゾイル）ベンゼン、 １，３．５−１
−リス（２，５−ジヒドロキシベンゾイル）ベンゼン、
１．２．３− トリス（２，３，４−トリヒドロキシへ
ンゾイル）ベンゼン、 １，２．４− トリス（２，４
，Ｂ−１−ジヒドロキシベンゾイル）ベンゼン、 １，
２，４．５−テトラキス（２，３，４−トリヒドロキシ
ベンゾイル）ベンゼン、α、α１−ビス（２，３，４−
トリヒドロキシベンゾイル）−ｐ−キシレン、α、α１
．α゛−トリス（２，３，４−トリヒドロキシベンゾイ
ル）メシチレン、 １．２−ビス（２，３，４−トリヒ
ドロキシベンゾイル）ナフタレン等のポリヒドロキシ化
合物と １．２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニ
ルクロリド、 １．２−ナフトキノンジアジド−４−ス
ルホニルクロリドまたは１，２−ベンゾキノンジアジド
−４−スルホニルクロリドとを当量比０．０８３〜ｌで
縮合することにより得ることができ、詳細は本出願人の
特願昭５８−２４３５８３号（昭和５８年１２月２３日
付出願）に記載されている。
上記一般式（Ｖ）で表わされる１、２−キノンジアジド
化合物は、例えば、エチレングリコールージ（２−ヒド
ロキシベンゾエート）、ジエチレングリコールージ（２
，３−ジヒドロキシベンゾエート）、ｉリエチレングリ
コールージ（２，８−ジヒドロキシベンゾエート）、エ
チレングリコールージ（３，４，５−トリヒドロキシへ
ンゾエート）、ジェチレングリコールージ（２，４，８
−１−リヒドロキシベンゾエーＩ・）、トリエチレング
リコールージ（２−ヒドロキシ−３−メチルベンゾエー
ト）、エチレングリコールージ（４−クロロ−２−ヒド
ロキシベンゾエート）、ポリエチレングリコールージ（
５−ブロモ−２−ヒドロキシベンゾエート）、プロビレ
ングリコールージ（３−クロロ−４−ヒドロキシベンゾ
エート）、スチレングリコールージ（２−ヒドロキシ−
３−メトキシベンゾエート）、ポリプロピレングリコー
ルージ（２−ヒドロキシ−５−メトキシベンゾエート）
、ポリ−３，３−ビスクロロメチルオキセタングリコー
ルージ（３−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾエート）
、 １．３−プロパンジオールーシ（３，４，５−トリ
ヒドロキシベンゾエート）、 １．４−ブタンジオール
ージ（３−ヒドロキシベンゾエート）、ポリテトラヒド
ロフラングリコールージ（３，４，５−トリヒドロキシ
ベンゾエート）等のポリヒドロキシ化合物と１．２−ナ
フトキノンジアジド−５−スルホニルクロリド、 ｌ、
２−ナフトキノンジアジド−４−スルホニルクロリドま
たは１，２−ベンゾキノンジアジド−４−スルホニルク
ロリドとを当量比０．１７〜１で縮合することにより得
ることができる。
化合物は、例えば、エチレングリコールージ（２−ヒド
ロキシベンゾエート）、ジエチレングリコールージ（２
，３−ジヒドロキシベンゾエート）、ｉリエチレングリ
コールージ（２，８−ジヒドロキシベンゾエート）、エ
チレングリコールージ（３，４，５−トリヒドロキシへ
ンゾエート）、ジェチレングリコールージ（２，４，８
−１−リヒドロキシベンゾエーＩ・）、トリエチレング
リコールージ（２−ヒドロキシ−３−メチルベンゾエー
ト）、エチレングリコールージ（４−クロロ−２−ヒド
ロキシベンゾエート）、ポリエチレングリコールージ（
５−ブロモ−２−ヒドロキシベンゾエート）、プロビレ
ングリコールージ（３−クロロ−４−ヒドロキシベンゾ
エート）、スチレングリコールージ（２−ヒドロキシ−
３−メトキシベンゾエート）、ポリプロピレングリコー
ルージ（２−ヒドロキシ−５−メトキシベンゾエート）
、ポリ−３，３−ビスクロロメチルオキセタングリコー
ルージ（３−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾエート）
、 １．３−プロパンジオールーシ（３，４，５−トリ
ヒドロキシベンゾエート）、 １．４−ブタンジオール
ージ（３−ヒドロキシベンゾエート）、ポリテトラヒド
ロフラングリコールージ（３，４，５−トリヒドロキシ
ベンゾエート）等のポリヒドロキシ化合物と１．２−ナ
フトキノンジアジド−５−スルホニルクロリド、 ｌ、
２−ナフトキノンジアジド−４−スルホニルクロリドま
たは１，２−ベンゾキノンジアジド−４−スルホニルク
ロリドとを当量比０．１７〜１で縮合することにより得
ることができる。
上記一般式（Ｖｌ）で表わされる１、２−キノンジアジ
ド化合物は、例えば、エチレングリコール−モノメチル
−モノ（３，４，５−トリヒドロキシベンゾエート）、
エチレングリコールーモノエチルーモ／（２，４，Ｂ−
）ジヒドロキシベンゾエート）、ジエチレングリコール
−モノエチル−モノ（２，３−ジヒドロキシベンゾエー
ト）、トリエチレングリコール−モノエチル−モノ（３
，５−ジヒドロキシベンゾエート）、エチレングリコー
ル−モノフェニル−モノ（３，４，５−トリヒドロキシ
ベンゾエート）、１．２−ベンゼンジメタノ−ルーモノ
エチル−モノ１ （３，４，５−トリヒドロキシベンゾエート）等のポリ
ヒドロキシ化合物と１．２−ナフＩ・キノンジアジド−
５−スルホニルクロリド、 １．２−ナフトキノンジア
ジド−４−スルホニルクロリドまたは１．２−ベンゾキ
ノンジアジド−４−スルホニルクロリドとを当量比０．
３〜ｌで縮合することにより得ることができる。
ド化合物は、例えば、エチレングリコール−モノメチル
−モノ（３，４，５−トリヒドロキシベンゾエート）、
エチレングリコールーモノエチルーモ／（２，４，Ｂ−
）ジヒドロキシベンゾエート）、ジエチレングリコール
−モノエチル−モノ（２，３−ジヒドロキシベンゾエー
ト）、トリエチレングリコール−モノエチル−モノ（３
，５−ジヒドロキシベンゾエート）、エチレングリコー
ル−モノフェニル−モノ（３，４，５−トリヒドロキシ
ベンゾエート）、１．２−ベンゼンジメタノ−ルーモノ
エチル−モノ１ （３，４，５−トリヒドロキシベンゾエート）等のポリ
ヒドロキシ化合物と１．２−ナフＩ・キノンジアジド−
５−スルホニルクロリド、 １．２−ナフトキノンジア
ジド−４−スルホニルクロリドまたは１．２−ベンゾキ
ノンジアジド−４−スルホニルクロリドとを当量比０．
３〜ｌで縮合することにより得ることができる。
、Ｉ−記一般式（Ｖ）または（Ｖｌ）で表わされる１、
２−キノンジアジド化合物に関する詳細は、本出願人の
昭和５８年１月ｌＯ日付出願に記載されている。
２−キノンジアジド化合物に関する詳細は、本出願人の
昭和５８年１月ｌＯ日付出願に記載されている。
さらに本発明の組成物は必要に応じて、現像性、組成物
の保存安定性等を向」ニさせるために、例えばロジン、
シュラツク等の天然樹脂、スチレンと無水マレイン酸と
の共重合体、スチレンとアクリル酸、メタクリル酸また
はこれらのアルキルエステルとの共重合体、アクリル酸
エステル重合体、ビニルアセタール重合体、ビニルエー
テル重合体、酢酸ビニル重合体、ビニルアルコール重合
体、ビニルピロリドン重合体等の合成樹脂を、ア２ ルカリＩＩｆ溶性樹脂１００部具部に対して１〜５０重
量部、好ましくは５〜３０重量部の割合で伺加的に配合
含有させることもできる。
の保存安定性等を向」ニさせるために、例えばロジン、
シュラツク等の天然樹脂、スチレンと無水マレイン酸と
の共重合体、スチレンとアクリル酸、メタクリル酸また
はこれらのアルキルエステルとの共重合体、アクリル酸
エステル重合体、ビニルアセタール重合体、ビニルエー
テル重合体、酢酸ビニル重合体、ビニルアルコール重合
体、ビニルピロリドン重合体等の合成樹脂を、ア２ ルカリＩＩｆ溶性樹脂１００部具部に対して１〜５０重
量部、好ましくは５〜３０重量部の割合で伺加的に配合
含有させることもできる。
本発明の組成物は、微細加工すべき基板」二に塗布し、
活性光線、例えば紫外線等を部分的に照射し、現像する
ことによってパターンを形成することができる。
活性光線、例えば紫外線等を部分的に照射し、現像する
ことによってパターンを形成することができる。
本発明の組成物を基板に塗布する方法としては、本発明
の組成物を、例えば濃度が５〜５０重績％となるように
適当な溶剤に溶解し、これを回転塗布、流し塗布、ロー
ル塗布等により塗布する方法が挙げられる。この際に用
いられる適当な溶剤としては、例えばシクロペンタノン
、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等のケトン
類、ｎ−ブタノール等のアルコール類、ジオキサン、エ
チレングリコールジメチルエーテル、エチルグリコール
ジエチルエーテル等のエーテル類、エチルグリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエー
テル等のアルコールエーテル類、酢酸ブチル、セロソル
ブアセテート、メトキシエチルアセテート等のエステル
類、１，１．２−トリクロロエチレン等のハロゲン化炭
化水素類、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ−メチルピロリドン等の極性溶媒が、単独でまた
は混合して用いられる。
の組成物を、例えば濃度が５〜５０重績％となるように
適当な溶剤に溶解し、これを回転塗布、流し塗布、ロー
ル塗布等により塗布する方法が挙げられる。この際に用
いられる適当な溶剤としては、例えばシクロペンタノン
、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等のケトン
類、ｎ−ブタノール等のアルコール類、ジオキサン、エ
チレングリコールジメチルエーテル、エチルグリコール
ジエチルエーテル等のエーテル類、エチルグリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエー
テル等のアルコールエーテル類、酢酸ブチル、セロソル
ブアセテート、メトキシエチルアセテート等のエステル
類、１，１．２−トリクロロエチレン等のハロゲン化炭
化水素類、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ−メチルピロリドン等の極性溶媒が、単独でまた
は混合して用いられる。
本発明の組成物には、必要に応じて保存安定剤、色素等
を添加配合することもできる。また本発明の組成物と基
板との接着力を向上させるために、選定した基板に応じ
て、例えばへ午サメチルジシラザン、クロロメチルシラ
ン等を接着助剤として基板に塗布してもよい。
を添加配合することもできる。また本発明の組成物と基
板との接着力を向上させるために、選定した基板に応じ
て、例えばへ午サメチルジシラザン、クロロメチルシラ
ン等を接着助剤として基板に塗布してもよい。
本発明の組成物に用いられる現像液としては、例えば水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケ
イ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、リン酸三ナト
リウム、リン酸水素ナトリウム等の無機アルカリ類の水
溶液、ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、
ジ−ｎ−ブチルアミン、メチルジエチルアミン、ビロー
ル、２．５−ジメチルピロール、β−ピコリン、コリジ
ン、ピペリジン、ピペラジン、トリエチレンジアミン等
のアミン類の水溶液、ジメチルエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、ジエチルヒドロキシルアミン等のア
ルコールアミン類の水溶液、テトラメチルアンモニウム
ヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド
等の第４級アンモニウム塩の水溶液、アンモニア水等が
挙げられる。
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケ
イ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、リン酸三ナト
リウム、リン酸水素ナトリウム等の無機アルカリ類の水
溶液、ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、
ジ−ｎ−ブチルアミン、メチルジエチルアミン、ビロー
ル、２．５−ジメチルピロール、β−ピコリン、コリジ
ン、ピペリジン、ピペラジン、トリエチレンジアミン等
のアミン類の水溶液、ジメチルエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、ジエチルヒドロキシルアミン等のア
ルコールアミン類の水溶液、テトラメチルアンモニウム
ヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド
等の第４級アンモニウム塩の水溶液、アンモニア水等が
挙げられる。
また前記現像液に、メタノール、エタノール等のアルコ
ール類、亜硫酸系安定剤または界面活性剤を適当量添加
することもできる。
ール類、亜硫酸系安定剤または界面活性剤を適当量添加
することもできる。
本発明の組成物は、１．２−キノンジアジド化合物の結
晶が析出することなく、高感度、高解像度および高残膜
率を有し、かつ現像性にも優れたものであり、集積回路
作製用の耐熱性を有するポジ型ホトレジストとして特に
有用であるとともに、マスク製作用のポジ型ホトレジス
ト等としても有用なものである。
晶が析出することなく、高感度、高解像度および高残膜
率を有し、かつ現像性にも優れたものであり、集積回路
作製用の耐熱性を有するポジ型ホトレジストとして特に
有用であるとともに、マスク製作用のポジ型ホトレジス
ト等としても有用なものである。
次に実施例を挙げて本発明を詳述するが、本発明はこれ
らの実施例により何ら制約されるものではない。
らの実施例により何ら制約されるものではない。
５
実施例１
（１）ノボラック樹脂の合成
５００１の三ツロセバラブルフラスコに、ｍ−クレゾー
ル７５ｇおよびｐ−クレゾール２５ｇを仕込んだ後、３
７重量％のホルマリン水溶液６６１および蓚酸０．０４
ｇを添加した。撹拌しながら、セパラブルフラスコな油
浴に浸して反応温度を１００℃に調節し、１０時間反応
させた。反応終了後、３０腸鵬Ｈｇに減圧して水を留去
し、さらに内温を１３０℃に上昇させて未反応物を除去
した０次いで反応生成物である溶融したアルカリ可溶性
ノボラック樹脂を室温に戻して回収した。
ル７５ｇおよびｐ−クレゾール２５ｇを仕込んだ後、３
７重量％のホルマリン水溶液６６１および蓚酸０．０４
ｇを添加した。撹拌しながら、セパラブルフラスコな油
浴に浸して反応温度を１００℃に調節し、１０時間反応
させた。反応終了後、３０腸鵬Ｈｇに減圧して水を留去
し、さらに内温を１３０℃に上昇させて未反応物を除去
した０次いで反応生成物である溶融したアルカリ可溶性
ノボラック樹脂を室温に戻して回収した。
（２）感光剤の合成
遮光下で２文の三ツロセパラブルフラスコに、モリン１
５．１１ｇ、１．２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホニルクロリド８７．１７ ｇおよびジオキサン８００
１を仕込んで溶解させた。この溶液を撹拌りながらトリ
エチルアミン３０．３８ ｇを徐々に添加し、室温で２
時間反応させた。反応終了後、内容物を多着の１重量％
塩酸水に滴下して生成物を沈６ 殿させ、水洗後４０℃で２０時間真空乾燥してモリソー
１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸ペンタ
エステル（以下感光剤Ａと略す）を得た。
５．１１ｇ、１．２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホニルクロリド８７．１７ ｇおよびジオキサン８００
１を仕込んで溶解させた。この溶液を撹拌りながらトリ
エチルアミン３０．３８ ｇを徐々に添加し、室温で２
時間反応させた。反応終了後、内容物を多着の１重量％
塩酸水に滴下して生成物を沈６ 殿させ、水洗後４０℃で２０時間真空乾燥してモリソー
１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸ペンタ
エステル（以下感光剤Ａと略す）を得た。
（３）感光性樹脂組成物の調製と評価
遮光下で（１）で得られたアルカリ可溶性ノボラック樹
脂２０ｇおよび（２）で得られた感光剤Ａ５ｇを、７５
ｇのジメチルホルムアミドに溶解し、孔径０．２に■の
メンブランフィルタ−で濾過して感光性樹脂組成物の溶
液を調製した。
脂２０ｇおよび（２）で得られた感光剤Ａ５ｇを、７５
ｇのジメチルホルムアミドに溶解し、孔径０．２に■の
メンブランフィルタ−で濾過して感光性樹脂組成物の溶
液を調製した。
得られた溶液を、シリコン酸化膜ウェハー上に、スピン
ナーで塗布した後、オーブン中、９０℃で２５分間プレ
ベークしてｌＩＬ鵬厚の感光性樹脂組成物膜を得た。凸
版印刷■製テストパターンマスクをウェハーに密着し、
１１．８鵬Ｊ／ｃｒｎ”の紫外線（オプティカルアソシ
エート・インコーホレイテッド製モデル２０５ＵＶパワ
ーメーターにより測定）を照射し、テトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド２．０重量％水溶液で２０℃で８０
秒間現像したところ、線幅１．０％鵬のパターンを解像
することができた０本発明の感光性樹脂組成物が感度お
よび解像度に優れていることがわかる。また未露光部の
残膜率は９１％と高い値を示し、現像残りがなく、パタ
ーンが鮮明で現像性が極めて優れていた。また現像後の
パターンを１６０℃で３０分間オーブン中でボストベー
クしたが、パターン崩れは観察されず、高い耐熱性を有
していた。
ナーで塗布した後、オーブン中、９０℃で２５分間プレ
ベークしてｌＩＬ鵬厚の感光性樹脂組成物膜を得た。凸
版印刷■製テストパターンマスクをウェハーに密着し、
１１．８鵬Ｊ／ｃｒｎ”の紫外線（オプティカルアソシ
エート・インコーホレイテッド製モデル２０５ＵＶパワ
ーメーターにより測定）を照射し、テトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド２．０重量％水溶液で２０℃で８０
秒間現像したところ、線幅１．０％鵬のパターンを解像
することができた０本発明の感光性樹脂組成物が感度お
よび解像度に優れていることがわかる。また未露光部の
残膜率は９１％と高い値を示し、現像残りがなく、パタ
ーンが鮮明で現像性が極めて優れていた。また現像後の
パターンを１６０℃で３０分間オーブン中でボストベー
クしたが、パターン崩れは観察されず、高い耐熱性を有
していた。
災巌１ヱ：Ｊ
（１）感光剤の合成
実施例１（２）と同様に第１表に示した天然色素と １
．２−キノンジアジドスルホニルクロリドとを縮合反応
させることによって感光剤を合成した。
．２−キノンジアジドスルホニルクロリドとを縮合反応
させることによって感光剤を合成した。
３９
（２）感光性樹脂組成物の調整と評価
実施例１（１）で得たアルカリ可溶性ノボラック樹脂２
０ｇ、第２表に示す感光剤５ｇおよびジメチルスルホキ
シド７５ｇを用い、実施例１（３）と同様に感光性樹脂
組成物の溶液を調製し評価した。第２表に結果を示す。
０ｇ、第２表に示す感光剤５ｇおよびジメチルスルホキ
シド７５ｇを用い、実施例１（３）と同様に感光性樹脂
組成物の溶液を調製し評価した。第２表に結果を示す。
第２表から本発明の感光性樹脂組成物が感度、解像度お
よび残膜率に優れていることがわかる。またいずれの感
光性樹脂組成物も実施例１のものと同様に現像性および
耐熱性が優れるものであった。
よび残膜率に優れていることがわかる。またいずれの感
光性樹脂組成物も実施例１のものと同様に現像性および
耐熱性が優れるものであった。
第２表
特許出願人 日本合成ゴム株式会社
代 理 人 弁理士 岩見谷 周志
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 アルカリ可溶性樹脂と１．２−キノンジアジド化合物と
からなるポジ型感光性樹脂組成物において。 １．２−キノンジアジド化合物がヒドロキシル基を有す
るα−ピロン系天然色素、ヒドロキシル基を有するγ−
ピロン系天然色素、ヒドロキシル基を有するジアジン系
天然色素およびヒドロキシル基を有するキノン系天然色
素からなる群から選ばれる化合物の１．２−キノンジア
ジドスルホン酸エステルを少なくとも１種含み、該１．
２−キノンジアジドスルホン酸エステルが前記アルカリ
可溶性樹脂１００重量部に対し５〜１００重量部配合さ
れていることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1828784A JPS60163043A (ja) | 1984-02-06 | 1984-02-06 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
| EP85300184A EP0148787A3 (en) | 1984-01-10 | 1985-01-10 | Positive type photosensitive resin composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1828784A JPS60163043A (ja) | 1984-02-06 | 1984-02-06 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60163043A true JPS60163043A (ja) | 1985-08-24 |
| JPH0342656B2 JPH0342656B2 (ja) | 1991-06-27 |
Family
ID=11967407
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1828784A Granted JPS60163043A (ja) | 1984-01-10 | 1984-02-06 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60163043A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62150245A (ja) * | 1985-12-24 | 1987-07-04 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 集積回路作製用ポジ型レジスト |
| JPS62191848A (ja) * | 1986-02-17 | 1987-08-22 | Nec Corp | ポジレジスト材料 |
| JPS62280843A (ja) * | 1986-05-30 | 1987-12-05 | Nec Corp | 感光剤 |
| JPH0422955A (ja) * | 1990-05-18 | 1992-01-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 新規キノンジアジド化合物及びそれを含有する感光性組成物 |
| EP0565006A2 (en) | 1992-04-06 | 1993-10-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for preparing PS plate |
| EP0684521A1 (en) | 1994-05-25 | 1995-11-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive working photosensitive compositions |
| EP0710886A1 (en) | 1994-10-31 | 1996-05-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive photoresist composition |
| JP2006350039A (ja) * | 2005-06-16 | 2006-12-28 | Fujitsu Ltd | レジスト組成物、レジストパターンの形成方法、半導体装置及びその製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3102809A (en) * | 1959-08-05 | 1963-09-03 | Azoplate Corp | Naphthoquinone-(1,2)-diozides and printing plates made therewith |
| JPS5254503A (en) * | 1975-10-25 | 1977-05-04 | Hoechst Ag | Photoosensitive copying material |
-
1984
- 1984-02-06 JP JP1828784A patent/JPS60163043A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3102809A (en) * | 1959-08-05 | 1963-09-03 | Azoplate Corp | Naphthoquinone-(1,2)-diozides and printing plates made therewith |
| JPS5254503A (en) * | 1975-10-25 | 1977-05-04 | Hoechst Ag | Photoosensitive copying material |
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|---|---|---|---|---|
| JPS62150245A (ja) * | 1985-12-24 | 1987-07-04 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 集積回路作製用ポジ型レジスト |
| JPS62191848A (ja) * | 1986-02-17 | 1987-08-22 | Nec Corp | ポジレジスト材料 |
| JPS62280843A (ja) * | 1986-05-30 | 1987-12-05 | Nec Corp | 感光剤 |
| JPH0422955A (ja) * | 1990-05-18 | 1992-01-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 新規キノンジアジド化合物及びそれを含有する感光性組成物 |
| EP0565006A2 (en) | 1992-04-06 | 1993-10-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for preparing PS plate |
| EP0684521A1 (en) | 1994-05-25 | 1995-11-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive working photosensitive compositions |
| EP0710886A1 (en) | 1994-10-31 | 1996-05-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive photoresist composition |
| JP2006350039A (ja) * | 2005-06-16 | 2006-12-28 | Fujitsu Ltd | レジスト組成物、レジストパターンの形成方法、半導体装置及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0342656B2 (ja) | 1991-06-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |