JPH0343412A - 高耐熱、低吸水性樹脂組成物 - Google Patents

高耐熱、低吸水性樹脂組成物

Info

Publication number
JPH0343412A
JPH0343412A JP1177967A JP17796789A JPH0343412A JP H0343412 A JPH0343412 A JP H0343412A JP 1177967 A JP1177967 A JP 1177967A JP 17796789 A JP17796789 A JP 17796789A JP H0343412 A JPH0343412 A JP H0343412A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
weight
low water
water absorption
phenolic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1177967A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2732126B2 (ja
Inventor
Hiromi Morita
博美 森田
Kazuyuki Murata
和幸 村田
Ichiro Kimura
一郎 木村
Susumu Nagao
長尾 晋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP17796789A priority Critical patent/JP2732126B2/ja
Application filed by Nippon Kayaku Co Ltd filed Critical Nippon Kayaku Co Ltd
Priority to DE69008122T priority patent/DE69008122T2/de
Priority to EP90909184A priority patent/EP0429667B1/en
Priority to PCT/JP1990/000798 priority patent/WO1990015832A1/ja
Priority to US07/651,361 priority patent/US5155202A/en
Priority to CA002033978A priority patent/CA2033978C/en
Priority to KR1019910700191A priority patent/KR940010010B1/ko
Publication of JPH0343412A publication Critical patent/JPH0343412A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2732126B2 publication Critical patent/JP2732126B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電子部品の封止又は積層用の材料として有用
な高耐熱、低吸水性樹脂組成物に関する。
〔従来の技術〕
従来から電気電子部品等の分野で、エポキシ樹脂、フェ
ノールノボラック樹脂、硬化促進剤を成分とした樹脂組
成物が特にICの封止剤として広く用いられている。し
かし、近年の電子材料の発展にともなう高密度・高集積
化は、特に封止剤に対して、高耐熱、低吸水化を要求す
ることにkった。とりわけ高密度実装におけるハンダ浴
浸漬という苛酷な条件は、硬化物に対して、高耐熱・低
吸水率化という要求を増々強めている。しかし、従来の
組成物において、エポキシ樹脂として一般的に使用され
ているクレゾールノボラック型エポキシ樹脂では、耐熱
性において、ノ・/ダ浴浸漬という苛酷な条件では不充
分であり、又、耐熱性を有するとして提案されている特
開昭63−264622号公報記載のフェノール性水酸
基を有する芳香族アルデヒドとフェノール類を縮合して
得られるポリフェノールをエポキシ化したポリエポキシ
化合物などでは吸水率の面でクレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂には及ばない。
一方、硬化剤として一般的に使用されているフェノール
ノボラック樹脂は耐熱性の面で未だ不充分であり、低分
子量体(2核体フェノールノボラックなど)を少々くす
ることにより耐熱性を向上させようとする試みなどがな
されているものの、より苛酷になっていく条件(たとえ
ばハンダ浴浸漬)には満足な結果をもたらしていない。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明は、このように苛酷になっていく条件にも耐え得
る、高耐熱でしかも低吸水率化を実現する硬化物を与え
る樹脂組成物を提供するものである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者らは、従来から知られているナフトール環をエ
ポキシ樹脂及び硬化剤に導入することにより高い耐熱性
と、低吸水率化を実現することができることを見い出し
本発明を完成させるに至った。
即ち、本発明は (1)  (at−股木〔■〕 (式中、nの平均値は2〜10である。)で表わされる
フェノール類ノボラック型エポキシ樹脂、 (b)硬化剤として、−股木(11〕 (式中、nの平均値は2〜10である。)で表わされる
フェノール類ノボラック、及び (c)硬化促進剤 を含有する高耐熱、低吸水性樹脂組成物。
(21エポキシ樹脂(alのエポキシ基1当量に対して
硬化剤(blを0.5〜1.5当量含み、(c)の硬化
物促進剤をエポキシ樹脂(a) 100重量部に対して
0.0l−1o重量部配合してなる第1項言己載の高耐
熱、低吸水性樹脂組成物。
(3)  一般式〔I〕で表わされるエポキシ樹脂(a
lのフェノール類ノボラック型エポキシ樹脂力;n =
 2のフェノール類ノボラック型エポキシ樹脂を30%
以上含む第1項記載の高耐熱、低吸水性樹脂組成物。
(4)  −股木〔ll)で表わされる硬化剤(b)の
フェノール類ノボラックf)’h n = 2のフェノ
ール類ノボラックを300重量部上含む第1項言己載の
高耐熱、低吸水性樹脂゛組戚物に関する。
本発明による組成物より得られる硬化物をま高い耐熱性
を有し、しかも吸水率を低く抑えることができる。
本発明はナフトール環をエポキシ樹月旨及び硬化剤に導
入したものを使用することにより前記の高密度化にとも
むう表面実装時のハンダ浴浸漬等の条件にも耐え得る高
い耐熱性を付与することができ、しかも驚くべきことに
は、従来のフェノールノボラックで硬化した場合に較べ
て吸水率を低く抑えることができる。
又、本発明者らにとっても意外なことに、ナフトール環
をO−クレゾールの多核体を介して両末端に導入したこ
とにより、軟化点が従来の樹脂と同程度にすることがで
き、組成物を混練する等の作業性の面でも従来通りの手
法が可能である。
従って、本発明の組成物は、近年の耐熱性、吸水性の面
での厳しい要求に対して、高い耐熱性能、低吸水率化を
実現した硬化物を提供することができる。
本発明に使用するフェノール類ノボラック型エポキシ樹
脂は前記一般式〔I〕で表わされるが、好ましくはn=
2であるフェノール類ノボラック型エポキシ樹脂を30
重量多以上含み、より好ましくは35重量多以上である
又、本発明に使用するフェノール類ノボラック型エポキ
シ樹脂中には製造のさい2核体フェノール類ノボラック
型エポキシm JAW カ含まれるがその量は、好まし
くは15重量多以下であるが、より好ましくは10重量
%坦下であり、特に好ましくは5重量多以下である。
これら2核体フェノール類ノボラック型エポキシ樹脂と
しては、式(1) で表わされるオルトクレゾールの2核体エポキシ樹脂が
挙げられる。
2核体フェノール類ノボラック型エポキシ樹脂の量が多
すぎると得られる硬化物の耐熱性に影響を及ぼす恐れが
ある。
本発明に使用するフェノール類ノボランクは前記−股木
([3で表わされるが、好ましくはn = 2であるフ
ェノール類ノボラックを30重量多以上含み、より好ま
しくは35重量多以上である。
又、本発明に使用するフェノール類ノボラック中には製
造のさい2核体フェノール類ノボラックが含まれるが、
その量は好ましくは15重t%以下であるが、より好ま
しくは10重量多以下であり、荷に好ましくは5重9%
以下である。これら2核1本フェノール知ノボラックと
しては、式〔1ν〕 で表わされるオルトクレゾールの2核体が挙げられる。
2核体フェノール類ノボラックの量が多すぎると得られ
る硬化物の耐熱性に影響を及ぼす恐れがある。
又、本発明の組成中に、本発明により得られる硬化物の
耐熱性を損わ々い程度に難燃化剤として臭素化フェノー
ルノボラック型エポキシ樹脂、四臭素化ビスフェノール
A型エポキシ樹脂を配合することができるが、臭素化フ
ェノールノボラック型エポキシ樹脂が耐熱性の面で有利
であり、耐熱性を損わない程度の配合量として、本発明
に使用するエポキシ樹脂100重量部に対して30重量
部以下が適当である。
本発明に使用する硬化剤(b)の量は、組成物中のエポ
キシ樹脂(alのエポキシ基1当量に対して0.5〜1
.5当量が好ましい。0.5当量より小さい場合、逆に
1.5当量より大きい場合のいづれも耐熱性の低下をも
たらす場合がある。
又、硬化促進剤としては、2−メチルイミダゾール、2
−エチルイミダゾール等のイミダゾール系化合物、2−
(ジメチルアミノメチル)フェノール等の第3アミン系
化合物、トリフェニルホスフィン等のホスフィ7化合物
等が挙げられ、特に限定されるものではないが、促進剤
の量は組成物中のエポキシ樹脂(a) 100重量部に
対して0.01〜10重量部配合されるのが好ましい。
0.01重量部以下でも、10重量部以上でも耐熱性の
低下をもたらす場合がある。
又、本発明の組成物には任意成分として公知の添加物を
配合することができる。例えば、シリカ、アルミナ、タ
ルク、ガラス繊維等の無機充填剤、シランカップリング
剤のような充填剤の表面処理剤、離型剤、顔料等が挙げ
られる。
本発明の組成物より得られる硬化物は、高い耐熱性を有
し、しかも吸水率を低く抑えた電気・電子部品材料とし
て工業的価値が大である。
〔実施例〕
以下に実施例を挙げて説明する。
合成例1゜ 0−クレゾール162g(1,5モル)、パラホルムア
ルデヒド9og(3モル)及び水100 mlを温度計
、冷却管、滴下ロート及び攪拌機を付けたlaのフラス
コに仕込み、窒素を吹込みながら攪拌した。
室温下、15%水酸化ナトリウム水溶液50g(水酸化
ナトリウムとして0.19モル)を発熱に注意しながら
液温が50°Cを越えないようにゆっくり滴下した。
まで冷却し発熱に注意しながら10%塩酸水溶液で中和
し、その後、析出した結晶をf取した。
F液のpHが6〜7になるまで洗浄し、減圧下(10m
mHg) 50°Cで乾燥し、白色結晶(A) 197
gを得た。
こうして寿られた白色結晶(A)197gを温度計、攪
拌機を付けたガラス容器に仕込み、さらにα−ナフトー
ル995g及びメチルイソブチルケト71500m/を
加えて窒素雰囲気下で室温で攪拌した。そして、p−ト
ルエンスルホン酸2gを発熱に注意し、液温が50°C
を越えないよう徐々に添加した。
添加後、油浴上で50°Cまで加温し2時間反水が中性
を示すまで水洗後、有機層を減圧下濃縮し、本発明に使
用するフェノール類ノボラック(AI)330gを得た
。生成物(AI、:1の軟化温度(JIS  K242
5環球法)は105°Cで水酸基当量(g/mol)は
135であった。
合成例2゜ 合成例1においてα−ナフトール 400gを用いた以
外は合成例1と同様の操作により生成物(A2)328
gを得た。生成物(A2)の軟化温度は118°Cで水
酸基当量は134であった。
合成例3゜ 合成例1においてα−ナフトール 300gを用いた以
外は合成例1と同様の操作により生成物(A3)332
gを得た。生成物(A3)の軟化温度は125°Cで水
酸基当量は134であった。
合成例4゜ 合成例1においてα−ナフトールの代わりにβ−ナフト
ール 995gを使用した以外は合成例1と同様の操作
により生成物(A4)331gを得た。生成物(A4)
の軟化温度は107°Cで水酸基当量は135であった
合成例1〜4で得られた生成物(A1)〜(A4)をG
PCで分析した結果、−股木〔■〕で表わされるn =
 2のフェノール類ノボラック、及び一般式〔Iv〕で
表わされるオルソクレゾールの2核体の含有量は次のと
おりであった。
(AI)        82      0.5  
   2.4(A2)        48     
 1.5     3.2(A3)        3
7      1,3     3,7(A4)   
     81      0.7     2.5な
お分析条件は次のとおり。
GPC装置 : 島津製作所 (カラム: TSK−G−3000XL(1本)+TS
K−G−2 o o oXL (2本))溶  媒 :
 テトラヒドロフラン l mt /分検   出  
:   vv(2s4nm)また、生成物(A1)、(
A4)のマススペクトル(FAB−MS)でM+540
が優られたことにより次の構造を有する成分が主成分で
あることを確認した。
(分子量540) 合成例5 温度計、攪拌装置、滴下ロート及び生成水分離装置のつ
いた14の反応器に、合成例1で碍た生成物(AI) 
(水酸基当量(g / mol) 135)135g及
びエビクロルヒドリ:、y 460gを仕込み窒素置換
を行った後、48%水酸化ナトリウム水溶液85gを5
時間かげて滴下した。滴下中は反応温度60°C1圧力
100〜150mmHgの条件下で生成水及び水酸化ナ
トリウム水溶液の水をエビクロルヒドリ/との共沸によ
り連続的に反応系外に除去し、エピクロルヒドリンは系
内に戻した。
ついで過剰の未反応エビクロルヒドリ/を減圧下に回収
した後、メチルイソブチルケトン500 miを加え1
00 mtの水で水層が中性を示すまで洗浄した。メチ
ルイソブチルケトン層を減圧下濃縮し、淡黄色の固体(
Bl)165gを得た。
生成物(B1)の軟化温度(JIS  K2425)7
3°Cでエポキシ当量(g/mol)は211であった
又、生成物(B1)をGPC分析したところ一般式[1
)で表わされるn = 2のフェノール類ノボラック型
エポキシ樹脂の組成量は57重量秀であった。
生成物(B1)のマススペクトル(FAB−MS)でM
+764が得られたことにより次の構造を有する成分が
主成分であることを確認した。
(分子量764) 又、オルトクレゾールの2核体エポキシ樹脂は、GPC
分析より1.5重i%であった。
合成例6゜ 生成物(A1)の代りに合成例2で得た生成物(A2)
C水酸基当It(g/mol)134)134gを用い
た以外は合成例5と同様に反応して生成物(B2)16
’7gを碍た。
生成物(B2)の軟化過度は87°Cでエポキシ当Fr
 (g/not)は214であった。
又、合成例5と同様の分析の結果、生成物(B2)の一
般式〔I〕で表わされるn = 2のフェノール顯ノボ
ラック型エポキシ樹脂の組成量は37重量多、オルトク
レゾールの2核体エポキシ樹脂は、1.2重量多であっ
た。
合成例7゜ 生成物(A1)の代りに合成例3で得た生成物(A3)
 (水酸基当t (g/mol) 134gを用いた以
外は合成例5と同様に反応して生成物(B3)165g
を得た。生成物(B3)の軟化温度は91℃でエポキシ
当量(g/mol)は211であった。
又、合成例5と同様の分析の結果、生成物(B3)の一
般式〔1〕で表わされるn = 2のフェノール類ノボ
ラック型エポキシ樹脂の組成量は32重量優、オルトク
レゾールの2核体エポキシ樹脂は1,1重量僑であった
合成例8゜ 生成物(A1)の代りに合成例4で得た生成物(A4)
 (水酸基当量(g/mol)135)135gを用い
た以外は合成例5と同様に反応して生成物(B4.)1
67gを碍た。生成物(B4)の軟化温度は75°Cで
エポキシ当量(g/mol )は212であった。
又、合成例5と同様の分析の結果、生成物(B4)の一
般式〔I〕で表わされるn = 2のフェノール知ノボ
ラック型エポキシ樹脂の組成量は55重量多、オルトク
レゾールの2核体エポキシ樹脂は1.4重量多であった
〇 実施例1〜6 第1表に示す割合で合成例1〜4で優られた生成物(A
1)〜(A4)を硬化剤とし、合或例5〜8で得られた
生成物(B1)〜(B4)をエポキシ樹脂とし、硬化促
進剤に2−メチルイミダゾールを配合して硬化物のガラ
ス転移温度、熱変形温度、吸水率を測定した。
尚、測定試料は第1表に示す配合量の組成物を70°C
〜80°Cで15分間ロール混線後、冷却、粉砕しタブ
レット化し、更にトランスファー成形機により成形後、
ボストキュアを行なって作成した。
ガラス転移温度測定条件、熱変形温度測定条件、吸水率
測定条件およびボストキュアの条件は以下の通り。
ガラス転移温度 熱機械測定装置(TMA):真空理工■TM−7000 昇温速度:2°C/min 熱変形温度 JIS  K7207 吸  水  率 試験片 直径 50101 厚す  3問 円板 条 件 100℃の水中で50時間煮 沸した後の重量増加量によ る吸水率(重量%) ボストキュアの条件 温  度= 180°C 時 間=8時間 評価結果を第1表に示した。
比較例1〜3 第1表に示す割合で硬化剤としてフェノールノボラック
樹脂(H−1)を、エポキシ樹脂としてクレゾールノボ
ラック型エポキシ樹脂(EOCN1020)、または芳
香族アルデヒドとフェノールを縮合して得られるポリフ
ェノールのポリエポキシ化合物(EPPN502)を、
硬化促進剤として2−メチルイミダゾールを配合して、
実施例1〜6と同様に硬化物の評価を行なった。
評価結果を第1表に示した。
尚、上記(H−1) 、、(EOCN1020) 、 
(EPPN502)の性状は以下の通り。
日本化薬■製、フェノールノボ ラック樹脂 軟化温度 85°C 水酸基当量(g/mol)   106EOCN−10
20:日本化薬■製、クレゾールノボラック型エポキシ
樹脂 軟化温度 67°C エポキシ当量(g/mol)  200:日本化薬(掬
製、ポリエポキシ 化合物 軟化温度 70°C エポキシ当量(g/mol)  16 s−1 EPPN502 〔発明の効果〕 第1表から明らかなように、本発明の組成物より得られ
る硬化物は耐熱性の指標であるガラス転移温度、熱変形
温度が高く、しかも吸水率が従来の組成物より得られる
硬化物に較べて低くすることができる。
従って、本発明の組成物は、近年の耐熱、低吸水の要求
に応えることができる。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(a)一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 (式中、nの平均値は2〜10である。) で表わされるフェノール類ノボラック型エ ポキシ樹脂、 (b)硬化剤として、一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 (式中、nの平均値は2〜10である。) で表わされるフェノール類ノボラック、及 び (c)硬化促進剤 を含有することを特徴とする高耐熱、低 吸水性樹脂組成物。
  2. (2)エポキシ樹脂(a)のエポキシ基1当量に対して
    硬化剤(b)を0.5〜1.5当量含み、(c)の硬化
    促進剤をエポキシ樹脂(a)100重量部に対して0.
    01〜10重量部配合してなる特許請求の範囲第1項記
    載の高耐熱、低吸水性樹脂組成物。
  3. (3)一般式〔 I 〕で表わされるエポキシ樹脂(a)
    のフェノール類ノボラック型エポキシ樹脂が n=2のフェノール類ノボラック型エポキシ樹脂を30
    重量%以上含む特許請求の範囲第1項記載の高耐熱、低
    吸水性樹脂組成物。
  4. (4)一般式〔II〕で表わされる硬化剤(b)のフェノ
    ール類ノボラックがn=2のフェノール類ノボラックを
    30重量%以上含む特許請求の範囲第1項記載の高耐熱
    、低吸水性樹脂組成物。
JP17796789A 1989-06-20 1989-07-12 高耐熱、低吸水性樹脂組成物 Expired - Fee Related JP2732126B2 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17796789A JP2732126B2 (ja) 1989-07-12 1989-07-12 高耐熱、低吸水性樹脂組成物
EP90909184A EP0429667B1 (en) 1989-06-20 1990-06-19 Phenolic novolac resin, product of curing thereof, and method of production thereof
PCT/JP1990/000798 WO1990015832A1 (en) 1989-06-20 1990-06-19 Phenolic novolac resin, product of curing thereof, and method of production thereof
US07/651,361 US5155202A (en) 1989-06-20 1990-06-19 Phenolic novolak resins, cured substances therefrom and method for production thereof
DE69008122T DE69008122T2 (de) 1989-06-20 1990-06-19 Phenolnovolakharz, dessen härtungsprodukt und verfahren zur herstellung.
CA002033978A CA2033978C (en) 1989-06-20 1990-06-19 Phenolic novolak resins, cured substances therefrom and method for production thereof
KR1019910700191A KR940010010B1 (ko) 1989-06-20 1990-06-19 페놀류 노볼락형 수지, 그 경화물 및 그 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17796789A JP2732126B2 (ja) 1989-07-12 1989-07-12 高耐熱、低吸水性樹脂組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0343412A true JPH0343412A (ja) 1991-02-25
JP2732126B2 JP2732126B2 (ja) 1998-03-25

Family

ID=16040209

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17796789A Expired - Fee Related JP2732126B2 (ja) 1989-06-20 1989-07-12 高耐熱、低吸水性樹脂組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2732126B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0450223A (ja) * 1990-06-18 1992-02-19 Shin Etsu Chem Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
US5312878A (en) * 1991-10-07 1994-05-17 Shin-Etsu Chemical Company, Limited Naphthalene containing epoxy resin cured with a dicyclopentadiene phenolic resin
US5358980A (en) * 1991-10-03 1994-10-25 Shin-Etsu Chemical Company, Limited Naphthol novolac epoxy resin compositions and semiconductor devices encapsulated therewith

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0450223A (ja) * 1990-06-18 1992-02-19 Shin Etsu Chem Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
US5358980A (en) * 1991-10-03 1994-10-25 Shin-Etsu Chemical Company, Limited Naphthol novolac epoxy resin compositions and semiconductor devices encapsulated therewith
US5312878A (en) * 1991-10-07 1994-05-17 Shin-Etsu Chemical Company, Limited Naphthalene containing epoxy resin cured with a dicyclopentadiene phenolic resin

Also Published As

Publication number Publication date
JP2732126B2 (ja) 1998-03-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
GB2316407A (en) Epoxy resins and compositions containing them
KR940010010B1 (ko) 페놀류 노볼락형 수지, 그 경화물 및 그 제조방법
JP2001055425A (ja) レゾルシンノボラック樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物
JPH0948839A (ja) エポキシ樹脂組成物及び半導体封止材料
JP2732125B2 (ja) 高耐熱性樹脂組成物
JPH0343412A (ja) 高耐熱、低吸水性樹脂組成物
JP2741075B2 (ja) エポキシ樹脂組成物
JP3636409B2 (ja) フェノール類樹脂、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物
JPH04304225A (ja) 樹脂の製造方法
JP2870709B2 (ja) 新規化合物、樹脂、樹脂組成物及び硬化物
JPH07173235A (ja) アリルナフトール共縮合物およびエポキシ樹脂組成物
JPS6377915A (ja) フェノール類ノボラック組成物の製造法
JP2726483B2 (ja) 高耐熱難燃性樹脂組成物
JP2001151856A (ja) 電子部品封止用エポキシ樹脂組成物
JP3955199B2 (ja) フェノール樹脂、エポキシ樹脂、その製造方法及び半導体封止材用樹脂組成物
JPH07173234A (ja) アリルナフトール共縮合物およびエポキシ樹脂組成物
JP3721319B2 (ja) フェノール樹脂及びエポキシ樹脂の製造方法
JP2870710B2 (ja) 新規化合物、樹脂、樹脂組成物及び硬化物
JP3063322B2 (ja) ビスフェノール類、エポキシ樹脂及びその組成物
JPH07216052A (ja) エポキシ樹脂及びエポキシ樹脂組成物
JPH11209584A (ja) エポキシ樹脂組成物及び半導体封止材料
JPH04337314A (ja) 新規エポキシ樹脂、樹脂組成物及びその硬化物
JPH07173236A (ja) アリルナフトール共縮合物およびエポキシ樹脂組成物
JPH07173238A (ja) アリルナフトール共縮合物およびエポキシ樹脂組成物
JPH07165852A (ja) アリルナフトール・α−ナフトール共縮合物およびエポキシ樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees