JPH0345112Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0345112Y2 JPH0345112Y2 JP18451187U JP18451187U JPH0345112Y2 JP H0345112 Y2 JPH0345112 Y2 JP H0345112Y2 JP 18451187 U JP18451187 U JP 18451187U JP 18451187 U JP18451187 U JP 18451187U JP H0345112 Y2 JPH0345112 Y2 JP H0345112Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- furnace
- hot air
- damper
- circulation type
- cold air
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 18
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 18
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 10
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
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Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Tunnel Furnaces (AREA)
- Processes Specially Adapted For Manufacturing Cables (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本考案は熱風循環式エナメル線焼付炉に関する
ものである。
ものである。
[従来の技術]
電気機気の巻線等に使用されるエナメル線は、
導体にエナメルワニスを塗布した後、焼付炉中を
走行させて、先ず該エナメルワニス中の溶剤成分
を蒸発させ、更に樹脂を架橋、硬化させる事を繰
返して製造されている。
導体にエナメルワニスを塗布した後、焼付炉中を
走行させて、先ず該エナメルワニス中の溶剤成分
を蒸発させ、更に樹脂を架橋、硬化させる事を繰
返して製造されている。
従来前記エナメル線焼付炉は、ワークチヤンバ
ー内のヒーターによる輻射伝熱を利用した輻射炉
が主流でああつたが、近年焼付スピードの高速化
を図る為。ワークチヤンバー内に加熱された熱風
を送り込み、輻射伝熱と強制対流熱伝達を利用す
る熱風循環炉が一般的になつている。
ー内のヒーターによる輻射伝熱を利用した輻射炉
が主流でああつたが、近年焼付スピードの高速化
を図る為。ワークチヤンバー内に加熱された熱風
を送り込み、輻射伝熱と強制対流熱伝達を利用す
る熱風循環炉が一般的になつている。
第5図は、前記熱風循環式エナメル線焼付炉の
構造を示す説明図である。焼付炉はバーナー1、
触媒2、循環フアン3、蒸発帯4、硬化帯5より
構成されており、バーナー1により加熱した空気
を循環フアン3により循環させて、走行する線6
に塗布されたエナメルワニスの乾燥焼付を行なつ
ている。即ち入口10Aより炉内に導入された線
6は、蒸発帯4で該エナメルワニス中の溶剤成分
を蒸発させ、次に高温加熱領域である硬化帯5で
樹脂を架橋、硬化させた後出口10Bより炉外に
導出される。一方前記硬化帯5及び蒸発帯4で走
行する線6を加熱した循環風及び入口10A及び
出口10Bより炉内に流入した冷風は、バーナー
1により加熱され、触媒2でエナメルワニスより
蒸発した溶剤成分の燃焼が行なわれた後、循環フ
アン3により再び硬化帯5へと送られ、この際一
部は排気口11より炉外へと排出される。
構造を示す説明図である。焼付炉はバーナー1、
触媒2、循環フアン3、蒸発帯4、硬化帯5より
構成されており、バーナー1により加熱した空気
を循環フアン3により循環させて、走行する線6
に塗布されたエナメルワニスの乾燥焼付を行なつ
ている。即ち入口10Aより炉内に導入された線
6は、蒸発帯4で該エナメルワニス中の溶剤成分
を蒸発させ、次に高温加熱領域である硬化帯5で
樹脂を架橋、硬化させた後出口10Bより炉外に
導出される。一方前記硬化帯5及び蒸発帯4で走
行する線6を加熱した循環風及び入口10A及び
出口10Bより炉内に流入した冷風は、バーナー
1により加熱され、触媒2でエナメルワニスより
蒸発した溶剤成分の燃焼が行なわれた後、循環フ
アン3により再び硬化帯5へと送られ、この際一
部は排気口11より炉外へと排出される。
[考案が解決しようとする問題点]
エナメル線の最も重要な品質特性の一つに表面
外観性状があるが、表面外観不良のほとんどは前
記蒸発帯での焼付過程中に発生するものであり、
この様な表面外観不良を防止する為には、使用し
ようとするエナメルワニス中の樹脂成分に対応し
て、風速、温度分布等最適な焼付条件を選定する
必要がある。しかるに前記熱風循環式エナメル線
焼付炉においては、硬化帯中に吹出す熱風の風
速、温度のみが制御可能であつて、輻射炉の場合
の様に蒸発帯での温度分布を硬化帯から独立し
て、任意の値に設定する事は困難であつた。この
ため蒸発帯での加熱過程が原因で発生する表面外
観不良に対して適切な処処置とる事が難しく、ユ
ーザーが希望する多品種のエナメルワニスに対し
て充分に対応する事が出来なかつた。
外観性状があるが、表面外観不良のほとんどは前
記蒸発帯での焼付過程中に発生するものであり、
この様な表面外観不良を防止する為には、使用し
ようとするエナメルワニス中の樹脂成分に対応し
て、風速、温度分布等最適な焼付条件を選定する
必要がある。しかるに前記熱風循環式エナメル線
焼付炉においては、硬化帯中に吹出す熱風の風
速、温度のみが制御可能であつて、輻射炉の場合
の様に蒸発帯での温度分布を硬化帯から独立し
て、任意の値に設定する事は困難であつた。この
ため蒸発帯での加熱過程が原因で発生する表面外
観不良に対して適切な処処置とる事が難しく、ユ
ーザーが希望する多品種のエナメルワニスに対し
て充分に対応する事が出来なかつた。
[問題点を解決する為の手段]
本考案は上記の点に鑑み鋭意検討の結果なされ
たものであり、その目的とするところは、多品種
のエナメル線に対して、蒸発帯域での加熱過程が
原因で発生する表面外観不良を防止する事が可能
な熱風循環式横型エナメル線焼付炉を提供する事
である。
たものであり、その目的とするところは、多品種
のエナメル線に対して、蒸発帯域での加熱過程が
原因で発生する表面外観不良を防止する事が可能
な熱風循環式横型エナメル線焼付炉を提供する事
である。
即ち本考案は、熱風循環式横型エナメル線焼付
炉において、炉入口部に炉外より流入する冷風の
バイパス路及び前記冷風の風量調整用ダンパが設
けられている事を特徴とする熱風循環式横型エナ
メル線焼付炉である。
炉において、炉入口部に炉外より流入する冷風の
バイパス路及び前記冷風の風量調整用ダンパが設
けられている事を特徴とする熱風循環式横型エナ
メル線焼付炉である。
本考案に用いる風量調整用ダンパとしては、バ
イパス路開口部にその位置を調整する事が可能な
スライド式ダンパを設けても良く、或いはバイパ
ス路中の炉内循環風吸込口部に炉外より風量調整
用を行う事が可能なバタフライ式ダンパを設けて
も差し支えない。後者の場合は炉内へ流入する冷
風量の調整を簡易に実施出来るという利点を有し
ている。
イパス路開口部にその位置を調整する事が可能な
スライド式ダンパを設けても良く、或いはバイパ
ス路中の炉内循環風吸込口部に炉外より風量調整
用を行う事が可能なバタフライ式ダンパを設けて
も差し支えない。後者の場合は炉内へ流入する冷
風量の調整を簡易に実施出来るという利点を有し
ている。
又、前記炉入口部に炉外より流入する冷風のバ
イパス路を設ける方法としては、簡易的には既存
の従来型熱風循環式エナメル線焼付炉の入口部に
仕切板を装着し、該仕切板によつて冷風のバイパ
ス路を設ける事も可能である。
イパス路を設ける方法としては、簡易的には既存
の従来型熱風循環式エナメル線焼付炉の入口部に
仕切板を装着し、該仕切板によつて冷風のバイパ
ス路を設ける事も可能である。
[作用]
本考案の焼付炉においては、炉入口部に炉外よ
り流入する冷風のバイパス路及び前記冷風の風量
調整用ダンパが設けられているので、使用するエ
ナメルワニスの種類に応じて、蒸発帯での風速、
温度分布等を最適な焼付条件に設定する事が出
来、蒸発帯域での加熱過程が原因で発生するエナ
メル線の表面外観不良を防止する事が可能であ
る。
り流入する冷風のバイパス路及び前記冷風の風量
調整用ダンパが設けられているので、使用するエ
ナメルワニスの種類に応じて、蒸発帯での風速、
温度分布等を最適な焼付条件に設定する事が出
来、蒸発帯域での加熱過程が原因で発生するエナ
メル線の表面外観不良を防止する事が可能であ
る。
[実施例]
次に本考案を実施例により更に具体的に説明す
る。第1図は本考案による熱風循環式横型エナメ
ル線焼付炉の構造の一例を示す説明図であつて、
1はバーナー、2は触媒、3は循環フアン、4は
蒸発帯、後は硬化帯、6は走行線、7は仕切板、
8はスライド式ダンパ、9は冷風吸込バイパス
路、10Aは炉入口部、10Bは炉出口部、11
は排気口である。
る。第1図は本考案による熱風循環式横型エナメ
ル線焼付炉の構造の一例を示す説明図であつて、
1はバーナー、2は触媒、3は循環フアン、4は
蒸発帯、後は硬化帯、6は走行線、7は仕切板、
8はスライド式ダンパ、9は冷風吸込バイパス
路、10Aは炉入口部、10Bは炉出口部、11
は排気口である。
炉入口部10Aに装着された仕切板7により、
冷風吸込バイパス路9が設けられており、該冷風
吸込バイパス9路に吹込まれる風量を、スライド
式ダンパ8を上下方向に移動させて調整する事に
より、炉入口部10Aから蒸発帯4に流入する冷
風の量を調整する事が出来、蒸発帯4における風
速及び温度分布を所望の焼付条件が得られる様に
設定する事が可能である。
冷風吸込バイパス路9が設けられており、該冷風
吸込バイパス9路に吹込まれる風量を、スライド
式ダンパ8を上下方向に移動させて調整する事に
より、炉入口部10Aから蒸発帯4に流入する冷
風の量を調整する事が出来、蒸発帯4における風
速及び温度分布を所望の焼付条件が得られる様に
設定する事が可能である。
従来の熱風循環式横型エナメル線焼付炉の炉入
口部10A付近を改造して、前記構造のエナメル
線焼付炉を製作し、スライド式ダンパ8の開度を
変えてバイパス路9に吸込まれる風量を調整しな
がら、エステルイミド線を製造した。この際、各
開度において製造したエナメル線の表面外観性状
を観察比較し、同時に蒸発帯4における風速及び
温度分布を測定した。これらの結果の一部を第2
図a〜c及び第3図a,bに示した。即ち第2図
a〜cはダンパ8の開度をそれぞれ0、50及び
100%とした場合の蒸発帯4における炉外から流
入する冷風及び炉内循環風の流れの変化を示す説
明図であつて、ダンパ8の開度によつて前記冷風
及び炉内循環風の流れのパターンが大きく変化し
ている。第3図bはダンパの開度を同様に変えた
場合の蒸発帯4内の温度分布及び得られたエナメ
ル線の表面外観性状を示す説明図であちつて、ダ
ンパ開度によつて蒸発帯4における温度分布及び
エナメル線の表面性状が大きく変化し、エナメル
ワニスの種類に応じてダンパ開度を適宜調整する
事により、常に良好な表面品質のエナメル線が得
られる事が分かつた。尚第3図aは第3図bにお
ける温度測定位置(TC0〜TC6)を示したもので
ある。
口部10A付近を改造して、前記構造のエナメル
線焼付炉を製作し、スライド式ダンパ8の開度を
変えてバイパス路9に吸込まれる風量を調整しな
がら、エステルイミド線を製造した。この際、各
開度において製造したエナメル線の表面外観性状
を観察比較し、同時に蒸発帯4における風速及び
温度分布を測定した。これらの結果の一部を第2
図a〜c及び第3図a,bに示した。即ち第2図
a〜cはダンパ8の開度をそれぞれ0、50及び
100%とした場合の蒸発帯4における炉外から流
入する冷風及び炉内循環風の流れの変化を示す説
明図であつて、ダンパ8の開度によつて前記冷風
及び炉内循環風の流れのパターンが大きく変化し
ている。第3図bはダンパの開度を同様に変えた
場合の蒸発帯4内の温度分布及び得られたエナメ
ル線の表面外観性状を示す説明図であちつて、ダ
ンパ開度によつて蒸発帯4における温度分布及び
エナメル線の表面性状が大きく変化し、エナメル
ワニスの種類に応じてダンパ開度を適宜調整する
事により、常に良好な表面品質のエナメル線が得
られる事が分かつた。尚第3図aは第3図bにお
ける温度測定位置(TC0〜TC6)を示したもので
ある。
第4図は炉外より流入する冷風の風量調整用ダ
ンパとしてバタフライ式ダンパ12を用いた、本
考案の他の実施例を示す説明図であつて、該バタ
フライ式ダンパ12は炉外より流入する冷風量を
炉外よりの操作によつて調整する事が可能であ
り、前記冷風量の調整をより簡易に行なう事が出
来る。
ンパとしてバタフライ式ダンパ12を用いた、本
考案の他の実施例を示す説明図であつて、該バタ
フライ式ダンパ12は炉外より流入する冷風量を
炉外よりの操作によつて調整する事が可能であ
り、前記冷風量の調整をより簡易に行なう事が出
来る。
[考案の効果]
本考案の焼付炉によれば、使用するエナメルワ
ニスの種類に応じて、蒸発帯での風速、温度分布
等を、良好な表面品質が得られる様な最適な焼付
条件に設定する事が出来、ユーザーの希望に応じ
て多品種のエナメル線を製造する事が出来る等工
業上顕著な効果を奏するものである。
ニスの種類に応じて、蒸発帯での風速、温度分布
等を、良好な表面品質が得られる様な最適な焼付
条件に設定する事が出来、ユーザーの希望に応じ
て多品種のエナメル線を製造する事が出来る等工
業上顕著な効果を奏するものである。
第1図は本考案による熱風循環式横型エナメル
線焼付炉の一実施例を示す説明図、第2図a〜c
は前記エナメル線焼付炉におけるダンパの開度
が、炉内循環風の蒸発帯内における流れに及ぼす
影響を示す説明図、第3図bはダンパの開度が蒸
発帯内の温度分布及び得られたエナメル線の表面
外観性状に及ぼす影響を示す説明図、第3図aは
第3図bにおける温度測定位置を示す説明図、第
4図は本考案による熱風循環式エナメル線焼付炉
の他の実施例を示す説明図、第5図は従来の熱風
循環式エナメル線焼付炉の構造を示す説明図であ
る。 1……バーナー、2……媒体、3……循環フア
ン、4……蒸発帯、5……硬化帯、6……走行
線、7……仕切板、8……スライド式ダンパ、9
……冷風吸込バイパス路、10A……炉入口部、
10B……炉出口部、11……排気口、12……
バタフライ式ダンパ。
線焼付炉の一実施例を示す説明図、第2図a〜c
は前記エナメル線焼付炉におけるダンパの開度
が、炉内循環風の蒸発帯内における流れに及ぼす
影響を示す説明図、第3図bはダンパの開度が蒸
発帯内の温度分布及び得られたエナメル線の表面
外観性状に及ぼす影響を示す説明図、第3図aは
第3図bにおける温度測定位置を示す説明図、第
4図は本考案による熱風循環式エナメル線焼付炉
の他の実施例を示す説明図、第5図は従来の熱風
循環式エナメル線焼付炉の構造を示す説明図であ
る。 1……バーナー、2……媒体、3……循環フア
ン、4……蒸発帯、5……硬化帯、6……走行
線、7……仕切板、8……スライド式ダンパ、9
……冷風吸込バイパス路、10A……炉入口部、
10B……炉出口部、11……排気口、12……
バタフライ式ダンパ。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 熱風循環式横型エナメル線焼付炉において、
炉入口部に炉外より流入する冷風のバイパス路
及び前記冷風の風量調整用ダンパが設けられて
いる事を特徴とする熱風循環式エナメル線焼付
炉。 (2) バイパス路開口部にスライド式ダンパが設け
られている事を特徴とする実用新案登録請求の
範囲第1項記載の熱風循環式エナメル線焼付
炉。 (3) バイパス路中の炉内循環風吸込口部にバタフ
ライ式ダンパが設けられている事を特徴とする
実用新案登録請求の範囲第1項記載の熱風循環
式エナメル線焼付炉。 (4) 炉入口部に装着された仕切板により、冷風の
バイパス路が設けられている事を特徴とする実
用新案登録請求の範囲第1項記載の熱風循環式
エナメル線焼付炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18451187U JPH0345112Y2 (ja) | 1987-12-03 | 1987-12-03 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18451187U JPH0345112Y2 (ja) | 1987-12-03 | 1987-12-03 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0188395U JPH0188395U (ja) | 1989-06-12 |
| JPH0345112Y2 true JPH0345112Y2 (ja) | 1991-09-24 |
Family
ID=31475866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18451187U Expired JPH0345112Y2 (ja) | 1987-12-03 | 1987-12-03 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0345112Y2 (ja) |
-
1987
- 1987-12-03 JP JP18451187U patent/JPH0345112Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0188395U (ja) | 1989-06-12 |
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