JPH0347985A - クロムめっき方法 - Google Patents
クロムめっき方法Info
- Publication number
- JPH0347985A JPH0347985A JP18227789A JP18227789A JPH0347985A JP H0347985 A JPH0347985 A JP H0347985A JP 18227789 A JP18227789 A JP 18227789A JP 18227789 A JP18227789 A JP 18227789A JP H0347985 A JPH0347985 A JP H0347985A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lead
- plating
- bath
- anode
- chromium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 71
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 25
- 239000011651 chromium Substances 0.000 title claims description 22
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 title claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 12
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910001430 chromium ion Inorganic materials 0.000 claims description 18
- HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N dioxoiridium Chemical group O=[Ir]=O HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910000457 iridium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N lead chromate Chemical compound [Pb+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910000004 White lead Inorganic materials 0.000 claims description 4
- RYZCLUQMCYZBJQ-UHFFFAOYSA-H lead(2+);dicarbonate;dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Pb+2].[Pb+2].[Pb+2].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O RYZCLUQMCYZBJQ-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims description 4
- 229910001924 platinum group oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- MFEVGQHCNVXMER-UHFFFAOYSA-L 1,3,2$l^{2}-dioxaplumbetan-4-one Chemical compound [Pb+2].[O-]C([O-])=O MFEVGQHCNVXMER-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 229910000003 Lead carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940046892 lead acetate Drugs 0.000 claims description 2
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910021514 lead(II) hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N lead oxide Chemical compound [O-2].[Pb+2] HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 2
- 241001417521 Pomacentridae Species 0.000 abstract 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 abstract 1
- YADSGOSSYOOKMP-UHFFFAOYSA-N dioxolead Chemical compound O=[Pb]=O YADSGOSSYOOKMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000010408 film Substances 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 4
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- LLABTCPIBSAMGS-UHFFFAOYSA-L lead(2+);methanesulfonate Chemical compound [Pb+2].CS([O-])(=O)=O.CS([O-])(=O)=O LLABTCPIBSAMGS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229910000978 Pb alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M ethanesulfonate Chemical compound CCS([O-])(=O)=O CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000002611 lead compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 lead acetate Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910000487 osmium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIWAALDUIFCBLV-UHFFFAOYSA-N oxoosmium Chemical compound [Os]=O JIWAALDUIFCBLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003445 palladium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- JQPTYAILLJKUCY-UHFFFAOYSA-N palladium(ii) oxide Chemical compound [O-2].[Pd+2] JQPTYAILLJKUCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、単独の不溶性電極を陽極として安定な均質鍍
膜を形成することができるクロムめっき方法に関する。
膜を形成することができるクロムめっき方法に関する。
クロム電気めっき浴においては、従来から陽極として鉛
またはその合金が汎用されている。しかしながら、鉛、
鉛合金などで構成された陽極は三価クロムイオンの濃度
を適性に保持する反面、使用中にめっき液に溶解してク
ロム酸鉛の黄色沈澱を生成し、スラッジや粗いめっき膜
の形成化を招く原因となる。とくに触媒としてフッ化物
あるいは有機酸を使用したクロムめっき浴では溶解の進
行が速く、陽極の寿命は約３〜１２ケ月と短期化するほ
か多量のスラッジが生成することに伴う維持管理費の負
担も大きい。
またはその合金が汎用されている。しかしながら、鉛、
鉛合金などで構成された陽極は三価クロムイオンの濃度
を適性に保持する反面、使用中にめっき液に溶解してク
ロム酸鉛の黄色沈澱を生成し、スラッジや粗いめっき膜
の形成化を招く原因となる。とくに触媒としてフッ化物
あるいは有機酸を使用したクロムめっき浴では溶解の進
行が速く、陽極の寿命は約３〜１２ケ月と短期化するほ
か多量のスラッジが生成することに伴う維持管理費の負
担も大きい。
このような鉛系電極の問題点を解消するために、イリジ
ウム酸化物で被覆したチタン、ニオブなどの金属、ある
いはフェライトなどで構成した不溶性電極の使用が試み
られている。ところが、不溶性電極は酸化機能に乏しい
ため、浴中の三価クロムイオン濃度が上昇して浴電圧の
上昇、電流効率の低下、めっき不良などのトラブルを生
じる原因となる。
ウム酸化物で被覆したチタン、ニオブなどの金属、ある
いはフェライトなどで構成した不溶性電極の使用が試み
られている。ところが、不溶性電極は酸化機能に乏しい
ため、浴中の三価クロムイオン濃度が上昇して浴電圧の
上昇、電流効率の低下、めっき不良などのトラブルを生
じる原因となる。
近時、クロムめっき用陽極として二酸化鉛被覆電極が試
用されている。この二酸化鉛被覆電極は鉛または鉛合金
の電極と異なり、スラッジの発生は少なく、そのうえ電
極としての酸化力も大きい。
用されている。この二酸化鉛被覆電極は鉛または鉛合金
の電極と異なり、スラッジの発生は少なく、そのうえ電
極としての酸化力も大きい。
また、上述した不溶性電極の欠点を補うため、不溶性電
極と二酸化鉛被覆電極とを組み合わせて使用する方法（
特開昭６３−２７０４９０号公報、同６３−２９３１９
７号公報）が提案されている。
極と二酸化鉛被覆電極とを組み合わせて使用する方法（
特開昭６３−２７０４９０号公報、同６３−２９３１９
７号公報）が提案されている。
これらの方法によると、めっき浴中の三価クロムイオン
濃度を１．５〜８ｇ／Ｉ！範囲の低いレベルに保持する
ことが可能となるが、二酸化鉛被覆電極の寿命が短いこ
と、高価であること、のほかに不溶性電極部分と二酸化
鉛被覆電極部分に流れる電流密度が異なってめっきの膜
厚にバラツキが生じるといった技術的な問題点がある。
濃度を１．５〜８ｇ／Ｉ！範囲の低いレベルに保持する
ことが可能となるが、二酸化鉛被覆電極の寿命が短いこ
と、高価であること、のほかに不溶性電極部分と二酸化
鉛被覆電極部分に流れる電流密度が異なってめっきの膜
厚にバラツキが生じるといった技術的な問題点がある。
本発明は上記した従来技術の問題点を解消する目的でな
されたもので、単独の不溶性電極の使用によってもめっ
き浴中の三価クロムイオンを一定の低濃度レベルに保持
することができ、多量のスラッジ生成を伴うことなしに
均一な膜厚と良質のめっき皮膜を形成することができる
クロムめっき方法を提供するものである。
されたもので、単独の不溶性電極の使用によってもめっ
き浴中の三価クロムイオンを一定の低濃度レベルに保持
することができ、多量のスラッジ生成を伴うことなしに
均一な膜厚と良質のめっき皮膜を形成することができる
クロムめっき方法を提供するものである。
これらの目的を達成するための本発明によるクロムめっ
き方法は、白金族酸化物の被覆を施した不溶性金属電極
もしくはフェライト電極を陽極としてサージェント浴、
フッ化浴、あるいは有機酸を含有する類似の浴を用いて
クロムめっきをおこなうにあたり、該めっき液に鉛塩類
を添加してめっき溶中の三価クロムイオンを１〜８ｇ／
！の濃度範囲に保持することを構成上の特徴とする。
き方法は、白金族酸化物の被覆を施した不溶性金属電極
もしくはフェライト電極を陽極としてサージェント浴、
フッ化浴、あるいは有機酸を含有する類似の浴を用いて
クロムめっきをおこなうにあたり、該めっき液に鉛塩類
を添加してめっき溶中の三価クロムイオンを１〜８ｇ／
！の濃度範囲に保持することを構成上の特徴とする。
上記金属電極やフェライト電極に被覆する白金族酸化物
としては、酸化ルテニウム、酸化パラジウム、酸化オス
ミウム、酸化イリジウム等が使用の対象となるが、実用
的に最も好ましい物質は酸化イリジウムである。
としては、酸化ルテニウム、酸化パラジウム、酸化オス
ミウム、酸化イリジウム等が使用の対象となるが、実用
的に最も好ましい物質は酸化イリジウムである。
かかる電極を陽性としてクロムめっきする場合、本発明
が対象とするめっき浴としては、サージェント浴（代表
的浴組成； Ｃｒｙｓ ： ２５０ｇ／ ｌ 、、 Ｈ
ｇＳＯ４： ２．５ｇ／ ＩＬ ） 、フッ化浴（代表
的浴組成； ＣｒＯ３：２５０ｇ／ ｊ！ 、 Ｈｚ
ＳＯａ ：１ｇ／ ｌ 、Ｆ ：０．６ｇ／ ｌ又は
５ｉＦａ ： ２．５ｇ／ｌ ｊり 、あるいは有機酸
を含有する類似のめっき浴（代表的浴組成； ＣｒＯ＋
： ２５０ｇ／ ４２．１１２ｓＯ４： ２．５ｇ／
ＩＩ！、メタ低級アルカンスルホン酸：５ｇ／１４２
）が挙げられる。しかし、鉛イオンの溶解度は、浴種に
よって若干の相違はあるものの概して２０〜４０ｍｇ／
ｊ２と非常に小さいために、前述のとおり、めっき操
作において次第に三価クロムイオンの濃度レベルが高く
なってくる。
が対象とするめっき浴としては、サージェント浴（代表
的浴組成； Ｃｒｙｓ ： ２５０ｇ／ ｌ 、、 Ｈ
ｇＳＯ４： ２．５ｇ／ ＩＬ ） 、フッ化浴（代表
的浴組成； ＣｒＯ３：２５０ｇ／ ｊ！ 、 Ｈｚ
ＳＯａ ：１ｇ／ ｌ 、Ｆ ：０．６ｇ／ ｌ又は
５ｉＦａ ： ２．５ｇ／ｌ ｊり 、あるいは有機酸
を含有する類似のめっき浴（代表的浴組成； ＣｒＯ＋
： ２５０ｇ／ ４２．１１２ｓＯ４： ２．５ｇ／
ＩＩ！、メタ低級アルカンスルホン酸：５ｇ／１４２
）が挙げられる。しかし、鉛イオンの溶解度は、浴種に
よって若干の相違はあるものの概して２０〜４０ｍｇ／
ｊ２と非常に小さいために、前述のとおり、めっき操
作において次第に三価クロムイオンの濃度レベルが高く
なってくる。
従って、本発明はめっき溶中に積極的に鉛塩類を添加し
て溶解した鉛イオンがめつき溶中の三価クロムイオン濃
度を結果的に制御することにあり、この三価クロムイオ
ンの濃度レベルを１〜８ｇ／！に保持することを特徴と
する。
て溶解した鉛イオンがめつき溶中の三価クロムイオン濃
度を結果的に制御することにあり、この三価クロムイオ
ンの濃度レベルを１〜８ｇ／！に保持することを特徴と
する。
このような目的で、めっき液に添加する鉛塩類としては
、塩基性炭酸鉛、炭酸鉛、酸化鉛、水酸化鉛、ホウフッ
化鉛、クロム酸鉛のような無機鉛化合物、あるいはシュ
ウ酸鉛、酢酸鉛、メタンスルホン酸鉛、エタンスルホン
酸鉛のような有機鉛化合物を挙げることができ、これら
塩類から選ばれた１種または２種以上が使用される。
、塩基性炭酸鉛、炭酸鉛、酸化鉛、水酸化鉛、ホウフッ
化鉛、クロム酸鉛のような無機鉛化合物、あるいはシュ
ウ酸鉛、酢酸鉛、メタンスルホン酸鉛、エタンスルホン
酸鉛のような有機鉛化合物を挙げることができ、これら
塩類から選ばれた１種または２種以上が使用される。
また、本発明で必要とする鉛塩類の添加量は塩類の種類
やめっき条件等によって一様ではないが、めっき浴中に
鉛として５０〜５００ｍｇ／ ｌの範囲となるように加
える。
やめっき条件等によって一様ではないが、めっき浴中に
鉛として５０〜５００ｍｇ／ ｌの範囲となるように加
える。
この理由は、鉛の濃度が５０ｍｇ／ １未満であると不
溶性電極の表面に二酸化鉛の被膜が均一に生成せずに酸
化力が不足となり、また５００ｍｇ／ １を越える量を
添加しても三価クロムイオン濃度は１〜８ｇ／ｌの低レ
ベルに保持することが可能であるが、過剰の鉛塩類によ
りクロム酸鉛の沈澱が生成し、浴の汚染や粗いめっき皮
膜形成の原因となる等の傾向となるからである。
溶性電極の表面に二酸化鉛の被膜が均一に生成せずに酸
化力が不足となり、また５００ｍｇ／ １を越える量を
添加しても三価クロムイオン濃度は１〜８ｇ／ｌの低レ
ベルに保持することが可能であるが、過剰の鉛塩類によ
りクロム酸鉛の沈澱が生成し、浴の汚染や粗いめっき皮
膜形成の原因となる等の傾向となるからである。
なお、本発明に係るクロムめっき方法において、前記の
特徴を除くほか、特に他の操作条件において、通常の電
気クロムめっき方法と異なることはない。
特徴を除くほか、特に他の操作条件において、通常の電
気クロムめっき方法と異なることはない。
本発明によれば、不溶性電極を陽極とすることによる酸
化力の不足はめっき液に添加した鉛塩類によって円滑に
補充される。すなわち、めっき液に溶解している鉛イオ
ンが陽極で酸化されて不溶性電極の表面に二酸化鉛の薄
い皮膜を形成し、この皮膜が酸化作用を営んでめっき液
中の三価クロムイオン濃度を一定の低レベル範囲に保持
するために機能する。鉛塩類を鉛として５０〜５００ｆ
ｌ１ｇ／Ｉｌの濃度になるような添加量とすることによ
り、保持される三価クロムイオンの濃度は、常に良質な
めっき膜が形成される１〜８ ｇ／ｆｆｉの低しベｔＬ
、範囲に制御され、クロム酸鉛の沈澱も極く僅かしか発
生しない。
化力の不足はめっき液に添加した鉛塩類によって円滑に
補充される。すなわち、めっき液に溶解している鉛イオ
ンが陽極で酸化されて不溶性電極の表面に二酸化鉛の薄
い皮膜を形成し、この皮膜が酸化作用を営んでめっき液
中の三価クロムイオン濃度を一定の低レベル範囲に保持
するために機能する。鉛塩類を鉛として５０〜５００ｆ
ｌ１ｇ／Ｉｌの濃度になるような添加量とすることによ
り、保持される三価クロムイオンの濃度は、常に良質な
めっき膜が形成される１〜８ ｇ／ｆｆｉの低しベｔＬ
、範囲に制御され、クロム酸鉛の沈澱も極く僅かしか発
生しない。
このような一連の作用を介して均質で表面肌の美麗なり
ロムめっき層が形成される。
ロムめっき層が形成される。
以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
実施例１
無水クロム酸（Ｃｒ（ｈ）２５０ｇ／ ｌ、硫酸（ｏｚ
ｓｏａ）２．５ｇｅｌからなるサージェント浴組成のメ
ツキ液に塩基性炭酸鉛１２５■／！（鉛として１００■
／ｌ）を添加した。 陽極にフェライト電極（ＴＤＫ■
製〕をセットし、下記の条件でクロムめっきをおこなっ
た。
ｓｏａ）２．５ｇｅｌからなるサージェント浴組成のメ
ツキ液に塩基性炭酸鉛１２５■／！（鉛として１００■
／ｌ）を添加した。 陽極にフェライト電極（ＴＤＫ■
製〕をセットし、下記の条件でクロムめっきをおこなっ
た。
浴温度 ５５°Ｃ
陰極電流密度 ５０ Ａ／ｄｍ２陽極電流密度
８ Ａ／ｄｎ＋”電流濃度 ２八
／ｌ めっき時間 １２０Ｈｒ このめっき浴は三価クロムイオンが５．０ｇ／ ｉｔで
平衡となり、良質なりロムめっきが得られた。また不溶
性電極の陽極面に褐色の二酸化鉛の皮膜が生成している
ことが確認された。
８ Ａ／ｄｎ＋”電流濃度 ２八
／ｌ めっき時間 １２０Ｈｒ このめっき浴は三価クロムイオンが５．０ｇ／ ｉｔで
平衡となり、良質なりロムめっきが得られた。また不溶
性電極の陽極面に褐色の二酸化鉛の皮膜が生成している
ことが確認された。
なお、比較のために塩基性炭酸鉛を添加しないほかは全
て上記と同条件でクロムめっきをおこなったところ、三
価クロムイオンの濃度が１８ｇ／ ｌとなり良質なめっ
きを得ることができなかった。
て上記と同条件でクロムめっきをおこなったところ、三
価クロムイオンの濃度が１８ｇ／ ｌとなり良質なめっ
きを得ることができなかった。
実施例２
無水クロム酸（ＣｒＯｓ）２５０ｇ／ Ｉ！、、硫ＭＣ
Ｈ２Ｓ０４）１．０ｇ／ｌ、ケイフッ化ナトリウム（Ｎ
ａｚＳｉＦ６）４．０ｇ／ ｌ−からなるフッ化浴組成
のめっき液に、ホウフッ化鉛水溶液（４０％）２３０■
／１ （鉛として５０ｍｇ／／りを添加した。陽極にニ
オブ面に酸化インジウムを約６μ鋼の厚さに被覆した不
溶性電極を使用し、下記の条件でクロムめっきをおこな
った。
Ｈ２Ｓ０４）１．０ｇ／ｌ、ケイフッ化ナトリウム（Ｎ
ａｚＳｉＦ６）４．０ｇ／ ｌ−からなるフッ化浴組成
のめっき液に、ホウフッ化鉛水溶液（４０％）２３０■
／１ （鉛として５０ｍｇ／／りを添加した。陽極にニ
オブ面に酸化インジウムを約６μ鋼の厚さに被覆した不
溶性電極を使用し、下記の条件でクロムめっきをおこな
った。
浴温度 ５５°Ｃ
陰極電流密度 ４５＾／ｄｍ”
陽極電流密度 ４５Ａ／ｄ＋ｎ”電流濃度
２Ａ／Ｉ！。
２Ａ／Ｉ！。
めっき時間 １２０Ｈｒ
このめっき浴では三価クロムイオン濃度が４．５ｇ／ｌ
で平衡に達し、良質のクロムめっきが得られた。 また
、陽極面には褐色皮膜が生成していることが確認された
。
で平衡に達し、良質のクロムめっきが得られた。 また
、陽極面には褐色皮膜が生成していることが確認された
。
比較のために、ホウフッ化鉛を添加しないほかは同一条
件でクロムめっきをおこなったところ、三価クロムイオ
ン濃度が１５ｇ／ ｌと高く、良質のめっき膜は得られ
なかった。
件でクロムめっきをおこなったところ、三価クロムイオ
ン濃度が１５ｇ／ ｌと高く、良質のめっき膜は得られ
なかった。
実施例３
無水クロム酸（Ｃｒ０３）２５０ｇ／ ｌ、硫酸（ｌｈ
ｓＯ４）２．５ｇｅｌ、エタンスルホン酸５．０ｇ／
４２からなる有機酸含有組成のめっき液に、メタンスル
ホン酸鉛１９２■／２（鉛として１００■／ｌ）を添加
した。陽極としてチタン面に酸化イリジウムを約６μｍ
の厚さに被覆した不溶性電極を用いて、下記の条件によ
りクロムめっきをおこなった。
ｓＯ４）２．５ｇｅｌ、エタンスルホン酸５．０ｇ／
４２からなる有機酸含有組成のめっき液に、メタンスル
ホン酸鉛１９２■／２（鉛として１００■／ｌ）を添加
した。陽極としてチタン面に酸化イリジウムを約６μｍ
の厚さに被覆した不溶性電極を用いて、下記の条件によ
りクロムめっきをおこなった。
浴温度 ６０°Ｃ
陰極電流密度 ４５Ａ／ｄｍ２
陽極電流密度 ４５Ａ／ｄが
電流濃度 ２Ａ＃２
めっき時間 １２０Ｈｒ
このメツキ浴では三価クロムイオン濃度は４．６ｇ／ｌ
で平衡に達し、良質のクロムめっき膜が得られた。また
、陽極の表面には褐色の二酸化鉛の皮膜が形成されてい
た。
で平衡に達し、良質のクロムめっき膜が得られた。また
、陽極の表面には褐色の二酸化鉛の皮膜が形成されてい
た。
比較のために、メタンスルホン酸鉛を添加しないほかは
全て上記と同一条件でクロムめっきをおこなったところ
、三価クロムイオン濃度が１５ｇ＃！となって良質なめ
っき膜は得られなかった。
全て上記と同一条件でクロムめっきをおこなったところ
、三価クロムイオン濃度が１５ｇ＃！となって良質なめ
っき膜は得られなかった。
以上のとおり、本発明によれば不溶性電極の単独使用に
おいても三価クロムイオン濃度を常に１〜８ｇ／ ｌの
範囲に保持することができるから、電極の消耗を伴わず
に常にバラツキのない均一で良質のクロムめっき膜の形
成が保証される。
おいても三価クロムイオン濃度を常に１〜８ｇ／ ｌの
範囲に保持することができるから、電極の消耗を伴わず
に常にバラツキのない均一で良質のクロムめっき膜の形
成が保証される。
そのうえ、鉛塩類の添加が少量であるため浴液の汚染が
少なく維持管理が楽になる、同種類の不溶性電極を使用
することが可能となるため電流分布が均一となる、陽極
を同一のブスバーに接続することができるため設備の小
型化が図れる、等の多様な効果がもたらされる。
少なく維持管理が楽になる、同種類の不溶性電極を使用
することが可能となるため電流分布が均一となる、陽極
を同一のブスバーに接続することができるため設備の小
型化が図れる、等の多様な効果がもたらされる。
手続補正書
平成１年８月２１日
１、事件の表示
平成１年特許願第１８２２７７号
２、発明の名称
クロムめっき方法
３、補正をする者
事件との関係
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、白金族酸化物の被覆を施した不溶性金属電極もしく
はフェライト電極を陽極として、サージェント浴、フッ
化浴、あるいは有機酸を含有する類似の浴を用いてクロ
ムめっきをおこなうにあたり、該めっき液に鉛塩類を添
加してめっき溶中の三価クロムイオンを１〜８ｇ／ｌの
濃度範囲に保持することを特徴とするクロムめっき方法
。 ２、白金族酸化物が、酸化イリジウムである請求項１記
載のクロムめっき方法。 ３、鉛塩類が、塩基性炭酸鉛、炭酸鉛、酸化鉛、水酸化
鉛、ホウフッ化鉛、クロム酸鉛、シュウ酸鉛、酢酸鉛お
よび低級アルカンスルホン酸鉛から選ばれた１種または
２種以上のものである請求項１記載のクロムめっき方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18227789A JPH0347985A (ja) | 1989-07-13 | 1989-07-13 | クロムめっき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18227789A JPH0347985A (ja) | 1989-07-13 | 1989-07-13 | クロムめっき方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0347985A true JPH0347985A (ja) | 1991-02-28 |
Family
ID=16115457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18227789A Pending JPH0347985A (ja) | 1989-07-13 | 1989-07-13 | クロムめっき方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0347985A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04350193A (ja) * | 1991-05-29 | 1992-12-04 | Teikoku Kuromu Kk | 工業用クロムめっき方法 |
| JP2016519219A (ja) * | 2013-04-17 | 2016-06-30 | アトテツク・ドイチユラント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツングＡｔｏｔｅｃｈ Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ ＧｍｂＨ | 改善した耐腐食性を有する機能性クロム層 |
-
1989
- 1989-07-13 JP JP18227789A patent/JPH0347985A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04350193A (ja) * | 1991-05-29 | 1992-12-04 | Teikoku Kuromu Kk | 工業用クロムめっき方法 |
| JP2016519219A (ja) * | 2013-04-17 | 2016-06-30 | アトテツク・ドイチユラント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツングＡｔｏｔｅｃｈ Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ ＧｍｂＨ | 改善した耐腐食性を有する機能性クロム層 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4092226A (en) | Process for the treatment of metal surfaces by electro-deposition of metal coatings at high current densities | |
| JP3302949B2 (ja) | 黒色ルテニウムめっき液 | |
| JP5732721B2 (ja) | クロムめっき方法 | |
| JPS6365758B2 (ja) | ||
| DE2017204C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Titan oder Titanlegierungen durch elektgrochemische Abscheidung | |
| US2693444A (en) | Electrodeposition of chromium and alloys thereof | |
| US4249999A (en) | Electrolytic zinc-nickel alloy plating | |
| KR900000283B1 (ko) | Zn-Ni합금도금 강판의 제조방법 | |
| JP3124848B2 (ja) | 金属箔の電解による製造方法 | |
| US4936965A (en) | Method for continuously electro-tinplating metallic material | |
| JPH0347985A (ja) | クロムめっき方法 | |
| JPH0424440B2 (ja) | ||
| JPS5887291A (ja) | クロム電気メツキ液 | |
| JP3171646B2 (ja) | 白金合金めっき浴及びそれを用いた白金合金めっき品の製造方法 | |
| JP3081567B2 (ja) | クロムめっき用不溶性電極 | |
| JPS6141799A (ja) | 電気錫メツキ浴への錫イオン補給法 | |
| KR100419659B1 (ko) | 아연-니켈 흑색도금강판제조용 도금용액조성물 및 이를이용한 아연-니켈계강판의 전기도금방법 | |
| JPH09111492A (ja) | 金属板の連続電気メッキ法 | |
| JPS63270490A (ja) | クロムメツキ法 | |
| WO2004027120A1 (de) | Dunkle schichten | |
| JPH01100291A (ja) | クロムメッキ方法 | |
| JPS6344837B2 (ja) | ||
| JPH0125398B2 (ja) | ||
| RU2814771C1 (ru) | Способ электроосаждения хромовых покрытий из электролита на основе гексагидрата сульфата хрома (III) и формиата натрия | |
| JP3007207B2 (ja) | Ｓｎスラッジ発生の少ない酸性Ｓｎめっき浴 |