JPH09111492A - 金属板の連続電気メッキ法 - Google Patents
金属板の連続電気メッキ法Info
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- JPH09111492A JPH09111492A JP8291064A JP29106496A JPH09111492A JP H09111492 A JPH09111492 A JP H09111492A JP 8291064 A JP8291064 A JP 8291064A JP 29106496 A JP29106496 A JP 29106496A JP H09111492 A JPH09111492 A JP H09111492A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 塩化物をベースとした電解液の浴を含む槽中
に複数の陽極を有し、少なくとも１つの陽極は不溶性と
し、金属板を陰極とし、少なくとも１つの陽極と金属板
との間に電流を流して金属板、特に鋼板上に亜鉛または
亜鉛合金を連続的に電気メッキする方法。 【解決方法】 浴中の塩素に対して還元作用を有し且つ
浴中の金属板付近にある亜鉛および合金元素に対して還
元作用のない化合物を電気メッキ中に溶液状態で浴に添
加する。陽極での塩素の放出が防止され、少なくとも 1
00Ａ/cm3の電流密度で操作できる。
に複数の陽極を有し、少なくとも１つの陽極は不溶性と
し、金属板を陰極とし、少なくとも１つの陽極と金属板
との間に電流を流して金属板、特に鋼板上に亜鉛または
亜鉛合金を連続的に電気メッキする方法。 【解決方法】 浴中の塩素に対して還元作用を有し且つ
浴中の金属板付近にある亜鉛および合金元素に対して還
元作用のない化合物を電気メッキ中に溶液状態で浴に添
加する。陽極での塩素の放出が防止され、少なくとも 1
00Ａ/cm3の電流密度で操作できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は金属板の連続電気メ
ッキ法、特に、不溶性陽極を有し且つ塩化物を主成分と
する電解質水溶液を収容した電気メッキ槽内で金属板を
陰極として用いて鋼板に亜鉛または亜鉛合金を連続電気
メッキする方法に関するものである。
ッキ法、特に、不溶性陽極を有し且つ塩化物を主成分と
する電解質水溶液を収容した電気メッキ槽内で金属板を
陰極として用いて鋼板に亜鉛または亜鉛合金を連続電気
メッキする方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】この種の電気メッキ法としては亜鉛（Zn
2+イオン）が溶解した硫酸塩をベースとした電解浴を用
いる方法は既に公知であり、亜鉛が陰極上に析出すると
同時に陽極では酸素が発生する。
2+イオン）が溶解した硫酸塩をベースとした電解浴を用
いる方法は既に公知であり、亜鉛が陰極上に析出すると
同時に陽極では酸素が発生する。
【０００３】しかし、塩化物をベースとした電解液は伝
導率が高く、電解槽内での抵抗損失(ohmic loss)が小さ
く、電流密度が高くなり、多くの場合 100Ａ／dm2 以上
になるので、一般には塩化物をベースとした電解液を用
いるのが好ましい。事実、可溶性陽極式の電気メッキ槽
で一般に用いられている塩化物ベースの浴と同様な高い
亜鉛（Zn2+イオン）濃度、場合によっては亜鉛合金濃度
且つ高い電流密度を用いて析出速度を極めて速くするこ
とができる。一般に、浴中の亜鉛濃度は１リットル当り
の亜鉛量で 100ｇ以上になる。水酸化物の沈澱を生じさ
せずに溶液濃度をこのような高い値にするには酸性浴を
用いるのが好ましく、浴のｐＨは通常４〜5.5 である。
しかし、塩化物の媒体中で不溶性陽極を用いた場合には
陽極からは酸素の代わりに塩素が発生する。これは工場
プラントでは許されないことである。
導率が高く、電解槽内での抵抗損失(ohmic loss)が小さ
く、電流密度が高くなり、多くの場合 100Ａ／dm2 以上
になるので、一般には塩化物をベースとした電解液を用
いるのが好ましい。事実、可溶性陽極式の電気メッキ槽
で一般に用いられている塩化物ベースの浴と同様な高い
亜鉛（Zn2+イオン）濃度、場合によっては亜鉛合金濃度
且つ高い電流密度を用いて析出速度を極めて速くするこ
とができる。一般に、浴中の亜鉛濃度は１リットル当り
の亜鉛量で 100ｇ以上になる。水酸化物の沈澱を生じさ
せずに溶液濃度をこのような高い値にするには酸性浴を
用いるのが好ましく、浴のｐＨは通常４〜5.5 である。
しかし、塩化物の媒体中で不溶性陽極を用いた場合には
陽極からは酸素の代わりに塩素が発生する。これは工場
プラントでは許されないことである。
【０００４】欧州特許第0,501,547 号に記載の上記問題
の解決方法では多孔質陽極を用いて孔から電解液中に水
素を噴射する。これによって陽極でと塩化物イオンが酸
化されて塩素となる代わりに水素が酸化されてＨ+ イオ
ンになる。この特許の方法の欠点は、上記の多孔性陽極
の付近では水素が噴射されるため高い電流密度で操作で
きないという点にある。すなわち、塩化物をベースとし
た電解液を用いた他の形式の工業的プロセス（例えば可
溶性陽極槽を用いる方法）では電流密度を一般に 100Ａ
/dm2以上にできるが、上記方法の電流密度は実際には約
50Ａ/dm2に制限される。従って、塩素の発生を防ぐため
の解決策によって塩化物ベースをベースとした電解溶液
を用いたことによる重要な利点の１つが失われてしま
う。
の解決方法では多孔質陽極を用いて孔から電解液中に水
素を噴射する。これによって陽極でと塩化物イオンが酸
化されて塩素となる代わりに水素が酸化されてＨ+ イオ
ンになる。この特許の方法の欠点は、上記の多孔性陽極
の付近では水素が噴射されるため高い電流密度で操作で
きないという点にある。すなわち、塩化物をベースとし
た電解液を用いた他の形式の工業的プロセス（例えば可
溶性陽極槽を用いる方法）では電流密度を一般に 100Ａ
/dm2以上にできるが、上記方法の電流密度は実際には約
50Ａ/dm2に制限される。従って、塩素の発生を防ぐため
の解決策によって塩化物ベースをベースとした電解溶液
を用いたことによる重要な利点の１つが失われてしま
う。
【０００５】英国特許第 1,123,005号には、不溶性陽極
槽を用いて鋼基板上に亜鉛をメッキするための化学的且
つ電気化学的な方法が記載されている。この特許に記載
されている浴は例えば硫酸塩、酢酸塩または蟻酸塩ベー
スのもので、塩化物をベースとした浴は記載されてはい
ない。この浴の亜鉛濃度は低い（酸化亜鉛の量で例えば
20ｇ/l、46ｇ/l）のでほぼ中性のｐＨ (５〜８、好まし
くは７）で操作しても水酸化物が沈澱する危険はない。
化学的析出を行わせるために陰極で亜鉛（Zn2+）を還元
させる物質としてヒドラジンが提案されている。この化
合物は高濃度（例えば１リットル当り20 cm3のヒドラジ
ン水和物）で且つｐＨ７付近で使用され、（分極した）
陰極の付近で亜鉛を還元する物質として機能する。この
浴では約1.3 Ａ/dm2の電流密度で操作することによって
５分間で224 mg/dm2すなわち厚さ約３μｍのメッキ層が
得られる。すなわち、この方法のメッキ速度はかなり遅
い。
槽を用いて鋼基板上に亜鉛をメッキするための化学的且
つ電気化学的な方法が記載されている。この特許に記載
されている浴は例えば硫酸塩、酢酸塩または蟻酸塩ベー
スのもので、塩化物をベースとした浴は記載されてはい
ない。この浴の亜鉛濃度は低い（酸化亜鉛の量で例えば
20ｇ/l、46ｇ/l）のでほぼ中性のｐＨ (５〜８、好まし
くは７）で操作しても水酸化物が沈澱する危険はない。
化学的析出を行わせるために陰極で亜鉛（Zn2+）を還元
させる物質としてヒドラジンが提案されている。この化
合物は高濃度（例えば１リットル当り20 cm3のヒドラジ
ン水和物）で且つｐＨ７付近で使用され、（分極した）
陰極の付近で亜鉛を還元する物質として機能する。この
浴では約1.3 Ａ/dm2の電流密度で操作することによって
５分間で224 mg/dm2すなわち厚さ約３μｍのメッキ層が
得られる。すなわち、この方法のメッキ速度はかなり遅
い。
【０００６】メッキ速度を上げるには少なくとも亜鉛濃
度の高い媒体中で操作する必要があるが、そのためには
酸性ｐＨにする必要がある。しかし、酸性ｐＨでは、ヒ
ドラジンの還元力が低下（これはＮ2 Ｈ4 ＋Zn2+→Ｎ2
＋Zn＋４Ｈ+ の反応による）してヒドラジンの化学的析
出機能が失われる。従って、英国特許第 1,123,005号に
記載の方法では亜鉛濃度の高い酸性浴を用いることは適
当でないとされており、そのため高い電流密度で操作す
ることはできず、メッキ速度が制限される。
度の高い媒体中で操作する必要があるが、そのためには
酸性ｐＨにする必要がある。しかし、酸性ｐＨでは、ヒ
ドラジンの還元力が低下（これはＮ2 Ｈ4 ＋Zn2+→Ｎ2
＋Zn＋４Ｈ+ の反応による）してヒドラジンの化学的析
出機能が失われる。従って、英国特許第 1,123,005号に
記載の方法では亜鉛濃度の高い酸性浴を用いることは適
当でないとされており、そのため高い電流密度で操作す
ることはできず、メッキ速度が制限される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は陽極か
ら塩素を発生させずに塩化物をベースとした媒体中で電
流密度を高くすることにある。
ら塩素を発生させずに塩化物をベースとした媒体中で電
流密度を高くすることにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、塩化物をベー
スとした電解液の浴を含む槽中に複数の陽極を有し、少
なくとも１つの陽極は不溶性とし、金属板を陰極とし、
少なくとも１つの陽極と金属板との間に電流を流して金
属板、特に鋼板上に亜鉛または亜鉛合金を連続的に電気
メッキする方法において、浴中の塩素に対して還元作用
を有し且つ浴中の金属板付近にある亜鉛および合金元素
に対して還元作用のない化合物を電気メッキ中に溶液状
態で浴に添加することを特徴とする方法を提供する。
スとした電解液の浴を含む槽中に複数の陽極を有し、少
なくとも１つの陽極は不溶性とし、金属板を陰極とし、
少なくとも１つの陽極と金属板との間に電流を流して金
属板、特に鋼板上に亜鉛または亜鉛合金を連続的に電気
メッキする方法において、浴中の塩素に対して還元作用
を有し且つ浴中の金属板付近にある亜鉛および合金元素
に対して還元作用のない化合物を電気メッキ中に溶液状
態で浴に添加することを特徴とする方法を提供する。
【０００９】
【発明の実施の形態】浴のｐＨが 5.5以下の場合には溶
液状態で添加する上記化合物はヒドラジン、ヒドロキシ
ルアミンおよびヒドロキシルアミンハイドロクロライド
の中から選択するのが好ましい。英国特許第 1,123,005
号に記載の方法と本発明方法とを比較した場合の主たる
相違点は、ヒドラジンを例にとって具体的に説明する
と、本発明では浴のｐＨを十分に酸性にし、浴中のヒド
ラジン濃度を十分に低くして浴中のヒドラジン／窒素対
のレドックス電位を十分に高くすることによって浴溶液
中の亜鉛が還元されないとようにして、陽極における塩
素の発生を防ぐというヒドラジンの機能を十分に果たさ
せることが必要である。
液状態で添加する上記化合物はヒドラジン、ヒドロキシ
ルアミンおよびヒドロキシルアミンハイドロクロライド
の中から選択するのが好ましい。英国特許第 1,123,005
号に記載の方法と本発明方法とを比較した場合の主たる
相違点は、ヒドラジンを例にとって具体的に説明する
と、本発明では浴のｐＨを十分に酸性にし、浴中のヒド
ラジン濃度を十分に低くして浴中のヒドラジン／窒素対
のレドックス電位を十分に高くすることによって浴溶液
中の亜鉛が還元されないとようにして、陽極における塩
素の発生を防ぐというヒドラジンの機能を十分に果たさ
せることが必要である。
【００１０】また、ヒドラジン濃度は陰極でのヒドラジ
ンの還元を防止または制限するだての十分に低い濃度で
なければならない（低いｐＨではZn2+イオンの還元を犠
牲にしてヒドラジンの還元反応が優先的に起こる）。ヒ
ドラジン、ヒドロキシルアミンおよびヒドロキシルアミ
ンハイドロクロライドの中から選択される化合物は浴中
の濃度が0.03〜0.3 mol/リットルに維持されるように添
加するのが好ましい。本発明の他の特徴は下記の点にあ
る： a) 陽極領域での電流密度は 100Ａ／dm2 以上である。 b) 還元化合物がハイドロキシルアミンハイドロクロラ
イドの場合の浴中の濃度は常に少なくとも２ｇ／リット
ルに保持する。
ンの還元を防止または制限するだての十分に低い濃度で
なければならない（低いｐＨではZn2+イオンの還元を犠
牲にしてヒドラジンの還元反応が優先的に起こる）。ヒ
ドラジン、ヒドロキシルアミンおよびヒドロキシルアミ
ンハイドロクロライドの中から選択される化合物は浴中
の濃度が0.03〜0.3 mol/リットルに維持されるように添
加するのが好ましい。本発明の他の特徴は下記の点にあ
る： a) 陽極領域での電流密度は 100Ａ／dm2 以上である。 b) 還元化合物がハイドロキシルアミンハイドロクロラ
イドの場合の浴中の濃度は常に少なくとも２ｇ／リット
ルに保持する。
【００１１】本発明の他の対象は上記方法を実施するた
めのメッキ浴にある。以下、塩素の発生を防止するため
に電着浴に添加する物質としてヒドロキシルアミンハイ
ドロクロライドを用いた実施例で本発明を説明するが、
本発明が下記実施例に限定されるものではなく、本発明
は他の塩素還元化合物、特にヒドラジンまたはヒドロキ
シルアミンをも含むものである。
めのメッキ浴にある。以下、塩素の発生を防止するため
に電着浴に添加する物質としてヒドロキシルアミンハイ
ドロクロライドを用いた実施例で本発明を説明するが、
本発明が下記実施例に限定されるものではなく、本発明
は他の塩素還元化合物、特にヒドラジンまたはヒドロキ
シルアミンをも含むものである。
【００１２】実施例１ 本発明の第１実施例は、塩化物をベースとした浴を用い
た不溶性陽極を有する電気亜鉛メッキプラントを用いて
行う連続亜鉛メッキである。本発明の化合物以外のも
の、すなわち浴組成、陽極材料およびメッキ条件自体は
公知であり、ここでは詳細な説明は省略する。ｐＨは一
般に４〜5.5 である。電気亜鉛メッキ用プラントは一連
の不溶性陽極型の電解槽を有し、全体として塩化物をベ
ースとした電解浴を例えば 340ｍ3 収容し、プラントを
流れる合計電流は例えば約 600kAである。
た不溶性陽極を有する電気亜鉛メッキプラントを用いて
行う連続亜鉛メッキである。本発明の化合物以外のも
の、すなわち浴組成、陽極材料およびメッキ条件自体は
公知であり、ここでは詳細な説明は省略する。ｐＨは一
般に４〜5.5 である。電気亜鉛メッキ用プラントは一連
の不溶性陽極型の電解槽を有し、全体として塩化物をベ
ースとした電解浴を例えば 340ｍ3 収容し、プラントを
流れる合計電流は例えば約 600kAである。
【００１３】この場合、塩素の放出を完全に防ぐため
に、本発明ではプラントの電気亜鉛メッキ用浴に1400kg
／時の割合でヒドロキシルアミンハイドロクロライドを
添加する必要がある。浴への添加剤、この場合はヒドロ
キシルアミンハイドロクロライドの流量は、陽極で発生
し得る塩素を減少させ且つ陰極でのヒドロキシルアミン
ハイドロクロライドの還元とZn2+イオンによるヒドロキ
シルアミンハイドロクロライドの酸化とを防ぐのに十分
な低い濃度に維持する。この方法自体は公知である。発
生し得る塩素の量はプラントの可溶性陽極を流れる電流
と、塩素生成のクーロン収率（coulombic yield)とに依
存し、塩素のクーロン収率は不溶性陽極に用いる材料に
依存する。
に、本発明ではプラントの電気亜鉛メッキ用浴に1400kg
／時の割合でヒドロキシルアミンハイドロクロライドを
添加する必要がある。浴への添加剤、この場合はヒドロ
キシルアミンハイドロクロライドの流量は、陽極で発生
し得る塩素を減少させ且つ陰極でのヒドロキシルアミン
ハイドロクロライドの還元とZn2+イオンによるヒドロキ
シルアミンハイドロクロライドの酸化とを防ぐのに十分
な低い濃度に維持する。この方法自体は公知である。発
生し得る塩素の量はプラントの可溶性陽極を流れる電流
と、塩素生成のクーロン収率（coulombic yield)とに依
存し、塩素のクーロン収率は不溶性陽極に用いる材料に
依存する。
【００１４】ヒドロキシルアミンハイドロクロライドの
添加流量は浴中のこの添加剤の濃度が少なくとも２ｇ／
ｌ、すなわち約0.03モル／ｌ (これは公知の20ｇ／ｌよ
りもはるかに低い）に保たれるように調節するのが好ま
しい。この濃度はより高いレベル、例えば８ｇ／ｌに維
持するのが好ましい。本発明では塩化物ベースの電解液
中で不溶性陽極を用いて、電解液から塩素を発生させず
に高い電流密度、この場合約 100Ａ／dm2 で亜鉛層をメ
ッキすることができ、従って、高速のメッキが可能にな
る。本発明の還元化合物、この実施例ではヒドロキシル
アミンハイドロクロライドは陽極で生じる「発生期」の
塩素すなわちCl原子状の塩素）と反応して窒素と塩酸と
になる。従って、電気亜鉛メッキ浴からは窒素が発生す
るが、これは塩素発生と違って危険ではない。生成した
塩酸は浴中に亜鉛イオンを再供給するために用いられる
亜鉛プロックの溶解反応に都合が良い。
添加流量は浴中のこの添加剤の濃度が少なくとも２ｇ／
ｌ、すなわち約0.03モル／ｌ (これは公知の20ｇ／ｌよ
りもはるかに低い）に保たれるように調節するのが好ま
しい。この濃度はより高いレベル、例えば８ｇ／ｌに維
持するのが好ましい。本発明では塩化物ベースの電解液
中で不溶性陽極を用いて、電解液から塩素を発生させず
に高い電流密度、この場合約 100Ａ／dm2 で亜鉛層をメ
ッキすることができ、従って、高速のメッキが可能にな
る。本発明の還元化合物、この実施例ではヒドロキシル
アミンハイドロクロライドは陽極で生じる「発生期」の
塩素すなわちCl原子状の塩素）と反応して窒素と塩酸と
になる。従って、電気亜鉛メッキ浴からは窒素が発生す
るが、これは塩素発生と違って危険ではない。生成した
塩酸は浴中に亜鉛イオンを再供給するために用いられる
亜鉛プロックの溶解反応に都合が良い。
【００１５】実施例２ 上記プラントと同様なプラントを用いて本発明に従って
亜鉛／ニッケル合金による連続メッキを行ったが、この
第２実施例では、陽極の一部を可溶性亜鉛陽極にし、残
りの陽極をメッキする亜鉛／ニッケル合金のニッケル濃
度を制御するための不溶性陽極にした。例として、６個
の陽極の中の５個を亜鉛陽極とし、残りを不溶性陽極に
した。全電流が 300kAの場合に、本発明では 140kg／時
の割合でヒドロキシルアミンハイドロクロライドを電着
浴に添加した。浴に加える添加剤の量はプラント内の不
溶性陽極の割合およびメッキすべき亜鉛／ニッケル合金
中のニッケルの割合にも依存する。ヒドロキシルアミン
ハイドロクロライドの添加流量は、浴内のヒドロキシル
アミンハイドロクロライド濃度が 0.4ｇ／ｌすなわち約
0.006 mol/ｌに維持されるように調節するのが好まし
い。
亜鉛／ニッケル合金による連続メッキを行ったが、この
第２実施例では、陽極の一部を可溶性亜鉛陽極にし、残
りの陽極をメッキする亜鉛／ニッケル合金のニッケル濃
度を制御するための不溶性陽極にした。例として、６個
の陽極の中の５個を亜鉛陽極とし、残りを不溶性陽極に
した。全電流が 300kAの場合に、本発明では 140kg／時
の割合でヒドロキシルアミンハイドロクロライドを電着
浴に添加した。浴に加える添加剤の量はプラント内の不
溶性陽極の割合およびメッキすべき亜鉛／ニッケル合金
中のニッケルの割合にも依存する。ヒドロキシルアミン
ハイドロクロライドの添加流量は、浴内のヒドロキシル
アミンハイドロクロライド濃度が 0.4ｇ／ｌすなわち約
0.006 mol/ｌに維持されるように調節するのが好まし
い。
【００１６】最低濃度は実施例１よりも低いが、これは
放出され得る塩素の量が少なく、電流値が低く且つ陽極
の一部のみが不溶性型であることによる。本発明によっ
て、塩化物ベースの電解液中で陽極のいくつかを不溶型
にして、電解液から塩素を発生させずに高い電流密度、
この実施例の場合約100 Ａ／dm2で亜鉛／ニッケル合金
の層をメッキすることができる。以下、本発明の具体的
試験結果を説明する。
放出され得る塩素の量が少なく、電流値が低く且つ陽極
の一部のみが不溶性型であることによる。本発明によっ
て、塩化物ベースの電解液中で陽極のいくつかを不溶型
にして、電解液から塩素を発生させずに高い電流密度、
この実施例の場合約100 Ａ／dm2で亜鉛／ニッケル合金
の層をメッキすることができる。以下、本発明の具体的
試験結果を説明する。
【００１７】以下の試験は、表面積が 0.03 cm2 の白金
陽極と、亜鉛陰極とを備えた回転電極型の実験室用メッ
キ槽を用いて行った。試験開始時の電解液の水溶液は下
記を含み、ｐＨは約４で、温度は約60℃であった： 1) ２モル／リットルの塩化亜鉛（ZnCl2l） 2) 4.5 モル／リットルの塩化カリウム（ＫCl） メッキ槽に上記電解液を入れ、電流密度が50〜100 Ａ／
dm2 に達するように電極間に電流を流した。試験は２時
間継続した。
陽極と、亜鉛陰極とを備えた回転電極型の実験室用メッ
キ槽を用いて行った。試験開始時の電解液の水溶液は下
記を含み、ｐＨは約４で、温度は約60℃であった： 1) ２モル／リットルの塩化亜鉛（ZnCl2l） 2) 4.5 モル／リットルの塩化カリウム（ＫCl） メッキ槽に上記電解液を入れ、電流密度が50〜100 Ａ／
dm2 に達するように電極間に電流を流した。試験は２時
間継続した。
【００１８】試験中、電解液から放出された塩素を下記
の方法で定量した。電解液中に窒素を吹き込んで、陽極
で発生する塩素を窒素に随伴させて付属の容器中に回収
する。この容器にはヨウ化カリウム溶液が入っており、
塩素はヨウ化物を酸化してヨウ素に変える。試験後に溶
液に含まれるヨウ素の量を（例えばチオ硫酸塩を用い
て）測定すれば試験中に電解液から放出された塩素の量
を求めることができる。
の方法で定量した。電解液中に窒素を吹き込んで、陽極
で発生する塩素を窒素に随伴させて付属の容器中に回収
する。この容器にはヨウ化カリウム溶液が入っており、
塩素はヨウ化物を酸化してヨウ素に変える。試験後に溶
液に含まれるヨウ素の量を（例えばチオ硫酸塩を用い
て）測定すれば試験中に電解液から放出された塩素の量
を求めることができる。
【００１９】比較例１ 比較のために、電解液に特別な添加剤を加えずに行っ
た。付属容器内のヨウ化カリウム溶液は急速に着色し、
セル内で塩素が放出されていることが証明された。試験
終了後、付属容器内で生成したヨウ素の量を測定して、
その値から陽極で発生した塩素の量を求め、それから塩
素生成のクーロン収率を計算したところ90％という値が
得られた。
た。付属容器内のヨウ化カリウム溶液は急速に着色し、
セル内で塩素が放出されていることが証明された。試験
終了後、付属容器内で生成したヨウ素の量を測定して、
その値から陽極で発生した塩素の量を求め、それから塩
素生成のクーロン収率を計算したところ90％という値が
得られた。
【００２０】試験例１ この試験は本発明を具体的に説明するためのものであ
る。この試験も比較例１と同様な条件で行ったが、本試
験では電解液に２ｇ／リットルのヒドロキシルアミンハ
イドロクロライド (NH2OH ・HCl)を添加した。試験中、
付属容器内のヨウ化カリウム溶液に着色は見られず、50
または100 Ａ/dm2の電流密度で操作してもセル内での塩
素の発生はないことが証明された。
る。この試験も比較例１と同様な条件で行ったが、本試
験では電解液に２ｇ／リットルのヒドロキシルアミンハ
イドロクロライド (NH2OH ・HCl)を添加した。試験中、
付属容器内のヨウ化カリウム溶液に着色は見られず、50
または100 Ａ/dm2の電流密度で操作してもセル内での塩
素の発生はないことが証明された。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 エルベ バビッチ フランス国 57000 メス リュ ポン サン マルセル ９
Claims (5)
- 【請求項１】 塩化物をベースとした電解液の浴を含む
槽中に複数の陽極を有し、少なくとも１つの陽極は不溶
性とし、金属板を陰極とし、少なくとも１つの陽極と金
属板との間に電流を流して金属板、特に鋼板上に亜鉛ま
たは亜鉛合金を連続的に電気メッキする方法において、 浴中の塩素に対して還元作用を有し且つ浴中の金属板付
近にある亜鉛および合金元素に対して還元作用のない化
合物を電気メッキ中に溶液状態で浴に添加することを特
徴とする方法。 - 【請求項２】 浴のｐＨを 5.5以下にし且つ溶液に添加
する化合物をヒドラジン、ヒドロキシルアミンおよびヒ
ドロキシルアミンハイドロクロライドの中から選択され
る化合物にする請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 電気メッキ中の上記化合物の濃度を0.03
〜0.3mol／リットルに保つように上記化合物を溶液状態
で添加する請求項２に記載の方法。 - 【請求項４】 上記化合物をヒドロキシルアミンハイド
ロクロライドとし、電気メッキ中のその浴中濃度を常に
少なくとも２ｇ／リットルに維持される請求項２に記載
の方法。 - 【請求項５】 少なくとも１つの不溶性陽極領域での電
流密度が 100Ａ/dm2以上にする請求項１〜４のいずれか
一項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9511973 | 1995-10-12 | ||
| FR9511973A FR2739872B1 (fr) | 1995-10-12 | 1995-10-12 | Procede d'electrodeposition en continu d'une bande metallique et bain associe |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09111492A true JPH09111492A (ja) | 1997-04-28 |
Family
ID=9483461
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8291064A Withdrawn JPH09111492A (ja) | 1995-10-12 | 1996-10-14 | 金属板の連続電気メッキ法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09111492A (ja) |
| KR (1) | KR970021377A (ja) |
| FR (1) | FR2739872B1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102747396A (zh) * | 2012-06-28 | 2012-10-24 | 贵州钢绳股份有限公司 | 异型钢丝电镀锌生产工艺 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100358011B1 (ko) * | 1999-12-24 | 2002-10-25 | 주식회사 포스코 | 경사기능 전기도금 방법 |
| KR101065104B1 (ko) * | 2008-10-22 | 2011-09-16 | 엘에스엠트론 주식회사 | 도금 첨가제의 소모 저감을 위한 전기도금방법 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1278188B (de) * | 1964-08-18 | 1968-09-19 | Siemag Siegener Maschb Ges Mit | Verfahren zur Herstellung von UEberzuegen unedler Metalle auf edleren Metallen durch chemische Reduktion von in Wasser geloesten Metallsalzen |
-
1995
- 1995-10-12 FR FR9511973A patent/FR2739872B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-10-10 KR KR1019960045116A patent/KR970021377A/ko not_active Withdrawn
- 1996-10-14 JP JP8291064A patent/JPH09111492A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102747396A (zh) * | 2012-06-28 | 2012-10-24 | 贵州钢绳股份有限公司 | 异型钢丝电镀锌生产工艺 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2739872A1 (fr) | 1997-04-18 |
| FR2739872B1 (fr) | 1997-11-14 |
| KR970021377A (ko) | 1997-05-28 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
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